| 參考價 | 面議 |
科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號：
Nano36
品牌：
科特萊思科
產(chǎn)地：
美國
濺射氣體：
氮氣等
樣品臺尺寸：
300*300
控制方式：
自動
樣品倉尺寸：
400*400
靶材尺寸：
300*300
靶材材質(zhì)：
鎢靶等
| LOAD LOCK Chamber (option) LOAD LOCK預真空進樣室（可選） Chamber with front open door 前開門蒸發(fā)腔體 Cryopump and dry pump 冷凝泵和干泵 Multiple thermal evaporation sources or OLED sources 多個熱阻蒸發(fā)源或OLED低溫蒸發(fā)源 Max. 6” substrate 6”基片 Substrate rotation 基片旋轉(zhuǎn) Substrate bias (option) 基片偏壓（可選） Ion source for substrate cleaning (option) 離子源清洗基片（可選） Substrate heating to 1000C (option) 基片加熱1000度(可選) Crystal rate monitor and film thickness control 晶振沉積速率及膜厚控制 Manual or automatic system control 系統(tǒng)手動或自動控制 For deposition of metal, semiconductor and insulation materials 可沉積金屬占、半導體和絕緣材料 For deposition of multi-layer or alloy film |
可沉積多層膜及合金薄膜
| 科特萊思科熱阻蒸發(fā)鍍膜系統(tǒng)Nano36型號： | Nano36 | ||
| 品牌： | 科特萊思科 | 產(chǎn)地： | 美國 |
| 濺射氣體： | 氮氣等 | 樣品臺尺寸： | 300*300 |
| 控制方式： | 自動 | 樣品倉尺寸： | 400*400 |
| 靶材尺寸： | 300*300 | 靶材材質(zhì)： | 鎢靶等 |
| 儀器種類： | 進口離子濺射儀 |
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