*納米研磨均質(zhì)機(jī)對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)集成技術、球磨機(jī)、三輥機(jī)更合理、剪切機(jī)適應能力、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能，具有*的超微粉碎各方面、分散乳化防控、均質(zhì)、混合等功效適應性。物料通過加工后堅實基礎，粒度達(dá)2～50微米，均勻度達(dá)90%以上重要作用，是超微粒加工的理想設(shè)備等地。

*納米研磨均質(zhì)機(jī),*高剪切均質(zhì)機(jī),*實(shí)驗(yàn)室四級均質(zhì)機(jī),科研*藥劑均質(zhì)機(jī)

一、*的簡介

*尤為突出，白色固體或粉末狀的兩性氧化物規定，分子量：79.9，是一種白色無機(jī)顏料空間載體，具有無毒高質量、較佳的不透明性相對簡便、較佳白度和光亮度，被認(rèn)為是性能較好的一種白色顏料流程。鈦白的粘附力強(qiáng)合作，不易起化學(xué)變化。廣泛應(yīng)用于涂料助力各業、塑料極致用戶體驗、造紙、印刷油墨深入交流、化纖引領作用、橡膠、化妝品等工業(yè)臺上與臺下。它的熔點(diǎn)很高用的舒心，也被用來制造耐火玻璃，釉料助力各行，琺瑯前來體驗、陶土、耐高溫的實(shí)驗(yàn)器皿等確定性。

同時高品質，*有較好的紫外線掩蔽作用，常作為防曬劑摻入紡織纖維中應用提升，超細(xì)的*粉末也被加入進(jìn)防曬霜膏中制成防曬化妝品高效流通。

*可由金紅石用酸分解提取，或由四氯化鈦分解得到全面革新。*性質(zhì)穩(wěn)定作用，大量用作油漆中的白色顏料，它具有良好的遮蓋能力行業分類，和鉛白相似技術特點，但不像鉛白會變黑；它又具有鋅白一樣的持久性發展邏輯。

（洽談：1-3-3-3-8-6-8-4-9-5-1）

二凝聚力量、*的研磨

生產(chǎn)出來的*有時品質(zhì)不高，粒徑為微米級聽得進，在后期應(yīng)用過程中需要進(jìn)一步的研磨細(xì)化粒徑新的力量，結(jié)合多家客戶案例，*XMD2000系列高剪切膠體磨進(jìn)行研磨細(xì)化處理便利性，一般循環(huán)處理去創新，粒徑可至納米級。XMD2000系列高剪切膠體磨緊迫性，有著18000rpm的轉(zhuǎn)速結構，三層錯齒結(jié)構(gòu)的高精密磨頭更適合，研磨細(xì)化效率高。

三溝通協調、*膠體磨介紹：

1要素配置改革、SID膠體磨具有設(shè)計(jì)緊湊、實(shí)用方便保障性，外形美觀帶動產業發展、密封良好、性能穩(wěn)定十分落實、操作方便邁出了重要的一步、裝修簡單、經(jīng)久耐用設施、適應(yīng)范圍廣需求、生產(chǎn)效益高等特點(diǎn)、是處理精細(xì)物料理想的加工設(shè)備組合運用。

2更讓我明白了、SID高剪切膠體磨是對流體物料進(jìn)行精細(xì)加工的機(jī)械。它綜合了均質(zhì)機(jī)積極、球磨機(jī)探索、三輥機(jī)、剪切機(jī)產業、攪拌機(jī)等機(jī)械的多種性能滿意度，具有*的超微粉碎、分散乳化可持續、均質(zhì)機製性梗阻、混合等功效。物料通過加工后全過程，粒度達(dá)2～50微米，均勻度達(dá)90%以上探討，是超微粒加工的理想設(shè)備不負眾望。

3、該機(jī)適用于制藥調解製度、食品精準調控、化工及其他行業(yè)的濕物料超微粉碎，能起到各種半濕體及乳狀液物質(zhì)的粉碎應用的因素之一、乳化解決、均質(zhì)和混合，主要技術(shù)指標(biāo)已達(dá)到國外同類產(chǎn)品的*水平敢於監督。

四幅度、影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1結構、膠體磨磨頭頭的剪切速率  （越大，效果越好）

2貢獻、膠體磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒規模最大，中齒，細(xì)齒明確了方向，超細(xì)齒系統性，約細(xì)齒效果越好）

3、物料在研磨腔體的停留時間單產提升，研磨粉碎時間（可以看作同等的電機(jī)傳遞，流量越小，效果越好）

4勞動精神、循環(huán)次數(shù)（越多開展攻關合作，效果越好，到設(shè)備的期限保供，就不能再好）

六自行開發、超高速膠體磨與國內(nèi)膠體磨的性能比較：

1、轉(zhuǎn)速和剪切速率：納米膠體磨責任，可選擇德國機(jī)械密封應用情況，轉(zhuǎn)速可以達(dá)到15000轉(zhuǎn)F=23/0.7X1000=32857S-1F=40/0.7/X1000=57142S-1國內(nèi)膠體磨，可選擇機(jī)械密封一般3000轉(zhuǎn)組建，大約在14293-215440S-1通過轉(zhuǎn)速比較可知表現，這是乳粉碎研磨的重要因素，相當(dāng)于前者是后者的2-3倍

2深刻變革、膠體磨頭和間距：納米膠體磨結論，可以選擇六種不同的模塊頭，實(shí)現(xiàn)多種功能質生產力，如三級乳化模塊適應性強，超高速模塊，XM膠體模塊先進的解決方案，GMO膠體模塊拓展，批次粉液液混合模塊，連續(xù)粉液混合模塊宣講活動。間距可調(diào)不斷進步，可實(shí)現(xiàn)1-10微米小粒徑材料加工國內(nèi)膠體磨，只有一種模塊頭效率，粒徑細(xì)度有限規模，100微米以下較困難，重復(fù)性差

 3、機(jī)械密封：納米膠體磨發展目標奮鬥，雙機(jī)械密封技術先進，易于清洗，將泄漏降至低支撐作用，可24小時不停運(yùn)轉(zhuǎn)國內(nèi)膠體磨研學體驗，單機(jī)械密封或軸封，泄漏故障率高最為突出，產(chǎn)品泄漏進(jìn)入馬達(dá)落實落細，造成馬達(dá)燒毀

七、XMDS2000系列*納米研磨均質(zhì)機(jī)型號表

以下為型號表供參考：