目錄:上海奧法美嘉生物科技有限公司>>納米粒度儀>>納米粒徑分析儀>> ZLS（初代）Nicomp 380亞微米粒度分析儀
ZLS(初代)? Nicomp 380亞微米粒度分析儀
動態(tài)光散射
Nicomp 380亞微米粒度分析儀利用動態(tài)光散射(DLS)原理應用的選擇，得到了粒徑在0.5~6微米之間的膠體體系的顆粒尺寸分布。DLS的工作原理是用聚焦激光束照射懸浮中的一組粒子提供深度撮合服務，從而產生許多散射光波服務品質。這些波互相干擾，產生凈散射強度組成部分，在某個遙遠的探測器上隨時間的變化而波動影響。粒子的擴散，或布朗運動的過程中，會導致單個波的相位隨機變化發展契機，導致光強度的波動。用自相關器分析這些漲落的時間行為可以得到顆粒的粒度分布促進進步。單個均勻尺寸分布的自相關函數(shù)是一個衰減的指數(shù)函數(shù)發力，其中粒子擴散率很容易從衰變時間中得到。后競爭激烈，利用Stokes-愛因斯坦關系可以很容易地計算出粒子半徑.
一般來說持續創新，大多數(shù)樣品不是均勻的改善，相反空白區，它們通常是多分散的，有一定的粒徑范圍信息化。然后形勢，自相關函數(shù)由衰減的指數(shù)函數(shù)組合而成，每個函數(shù)具有不同的衰減時間，對自相關函數(shù)的分析不再十分簡單服務機製。采用變反褶積算法的儀器必須對原始數(shù)據(jù)進行反演貢獻力量，才能得到真實粒徑分布的估計值。Nicomp利用一組*的反褶積算法大幅拓展，從簡單的高斯近似到一種稱為“Nicomp分布”的專有高分辨率多模態(tài)反褶積分析發行速度，在描述這些困難的顆粒尺寸分布方面做得很好。
在高斯分析模式下發(fā)現(xiàn)的一些*的特征是基線調整參數(shù)與時俱進，它提供了總補償性能，超越了其他大多數(shù)使用灰塵或污垢因素的儀器上的靈敏度。高斯分析模式還允許用戶一個固體或囊泡加權模式來分析像脂質體這樣的薄壁膠體系統(tǒng)綜合運用。Nicomp分析模式是一種專有的高分辨率反褶積算法供給，它是25年前*引入的。它在歷*證明了它能夠準確地分析即使是困難的緊密間隔的雙峰(例如實事求是，2：1的間隔)進行探討，甚至是某些三模態(tài)分布。這對于查找聚集分布的本機峰值非常有用服務水平。
標準的Nicomp 380配有12 mW激光二極管和PMT探測器最新，光纖設定為90°。樣品是通過插入單元引入的應用擴展，380是僅有采用模塊化方法設計的動態(tài)光散射儀體驗區。可以通過增加一個或多個模塊來增強其能力：
自稀釋
該模塊不需要人工稀釋濃縮樣品活動上。自動稀釋使粒度分析快速有望、簡便，不需要任何訓練導向作用。結果重復性好方案。
380/HPLD大功率激光二極管
PSS提供了一個高功率激光二極管陣列，以滿足我們需要的應用十大行動。需要更高功率的激光來擴展我們儀器的下限左右，提供足夠的來自小粒子的散射。它們在測量大顆粒時也很有用綜合措施，如右旋反式可靠保障，由于折射率的原因，這些粒子產生的散射強度不足設計標準。其結果是一種更通用的儀器高端化，適用于微乳液、表面活性劑膠束我有所應、蛋白質和其他大分子的施膠提單產。它甚至可以估計重組后生物聚合物的聚集程度深入實施，而不需要色譜分離。
雪崩光電二極管(APD)探測器
Nicomp 380可以配備各種高功率激光器以及高增益雪崩光電二極管探測器(APD)發展空間，它提供的增益大約是傳統(tǒng)光電倍增管的7倍效果。APD是用來增加信號對噪聲和靈敏度的系統(tǒng)，但不能很好地散射光足了準備。蛋白質合作關系、膠束、其他以大分子為基礎的系統(tǒng)和納米粒子往往被稀釋(1毫克/毫升或更少)深刻內涵，并且是由不能很好地散射光的原子組成的增強。雪崩光電二極管與名義上更高功率的激光二極管模塊相結合，為在短時間內精確分析納米粒子提供了一種低成本的解決方案交流等。
380/MA多角度測速儀
大于100 nm的粒子不會向所有方向均勻散射光更加廣闊。通過改變探測角度，可以使DLS測量對某些尺寸的粒子更加敏感提高。Nicomp 380可配備微型測角儀可以使用，使光纖以0.9°增量的速度在12°至175°之間移動。
Zeta電位
Nicomp 380/ZLS用于測定液體懸浮液中帶電粒子的電泳遷移率和Zeta電位紮實。測量Zeta電位的主要原因是預測膠體的穩(wěn)定性效高化。顆粒間的相互作用對膠體的穩(wěn)定性起著重要的作用。利用Zeta電位測量來預測穩(wěn)定性是量化這些相互作用的一種嘗試投入力度。Zeta勢是測量粒子間排斥力的一種方法創造。由于大多數(shù)水膠體系統(tǒng)是通過靜電斥力來穩(wěn)定的，粒子間的排斥力越大貢獻法治，它們就越不可能緊密地聚集在一起設備製造。這樣膠體就越穩(wěn)定。Nicomp 380/ZLS將動態(tài)光散射(DLS)技術和電泳光散射(ELS)技術相結合攻堅克難，在一臺緊湊型儀器中測量了亞微米級的粒徑分布和Zeta電位管理。
Nicomp 380/ZLS采用電泳光散射(ELS)方法測量Zeta電位。為了進行測量雙向互動，一個小樣本通常被放置在一個一次性塑料容器中效率和安。然后插入鈀電極。整個細胞被放置在Nicomp 380里助力各業。由于*的單元設計極致用戶體驗，因此不需要將單元與固定平面對齊。在單元格就位后應用，只需簡單地單擊鼠標即可開始測量建議。由于ELS需要使用外差光，因此在進入探測器之前臺上與臺下，散射光必須與參考光束(從入射光束中分離)適當?shù)鼗旌嫌玫氖嫘?。該軟件將通過自動調整入射光強度來開始測量，以優(yōu)化散射光與參考光束之間的混合集聚效應。一旦完成集成，當電場關閉時，測量參考功率譜互動講。然后施加電場穩定性，測量另一個功率譜。與參考譜相比過程中，這個功率譜中的峰值頻率的變化是多普勒頻移去突破。多普勒頻移用于計算平均遷移率。利用Smoluchowski方程確定了Zeta勢達到。
自動滴定器
Autoitrator模塊使Nicomp 380/ZLS能夠在一系列不同的pH值或離子濃度下自動對同一樣品進行多次測量智能設備。這樣就可以確定等電點.
相位分析光散射(PALS)
使用相位分析(而不是標準幅度分析)可以更準確和精確地測量小多普勒頻移。這意味著Zeta電位測量可以在高離子強度或高介電環(huán)境(如醇和有機溶劑)中進行蓬勃發展。
8
儀器網(wǎng)