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參考價 | 面議 |
- 公司名稱 南京崛宇精密儀器有限公司
- 品牌
- 型號 360560
- 所在地 南京市
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2025/1/14 7:12:46
- 訪問次數(shù) 18
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蔡司Sigma擁有高品質(zhì)成像和顯微分析功能的FE-SEM蔡司Sigma系列產(chǎn)品集場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)技術(shù)與良好的用戶體驗于一體服務品質,助您輕松實現(xiàn)構(gòu)建成像和分析程序,同時提高工作效率
蔡司Sigma系列產(chǎn)品集場發(fā)射掃描電子顯微鏡(FE-SEM)技術(shù)與良好的用戶體驗于一體組成部分,助您輕松實現(xiàn)構(gòu)建成像和分析程序影響,同時提高工作效率。您可以將其用于新材料和顆粒的質(zhì)量監(jiān)測的過程中,或研究生物和地質(zhì)樣本發展契機。Sigma可實現(xiàn)高分辨率成像,它采用低電壓促進進步,能在1 kV或更低電壓下實現(xiàn)更高的分辨率和對比度發力。它出色的EDS幾何學(xué)設(shè)計可執(zhí)行高級顯微分析,以兩倍的速度和更高的精度獲取分析數(shù)據(jù)迎來新的篇章。
使用Sigma系列共創美好,暢游納米分析世界。
Sigma 360是一款直觀的成像和分析FE-SEM空白區,是分析測試平臺的理想之選協調機製。
Sigma 560采用的EDS幾何學(xué)設(shè)計信息化,可提供高通量分析形勢,實現(xiàn)自動原位實驗。
從設(shè)置到獲取基于人工智能的結(jié)果約定管轄,均提供專業(yè)向?qū)В瑸槟q{護航創新的技術,助您探索直觀成像工作流發揮。
可在1 kV和更低電壓下分辨差異,實現(xiàn)更高的分辨率和對比度快速增長。
可在條件下執(zhí)行可變壓力成像開放以來,獲得出色的非導(dǎo)體成像結(jié)果。
新NanoVP lite模式和新探測器很容易在電壓低于5 kV時服務水平,從非導(dǎo)體中輕松獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)最新。
這樣,就可增強成像和X射線能譜分析的性能處理方法,提供更多表面敏感信息重要作用,縮短采集時間,增強入射電子束流活動上,提高能譜面分布分析速度有望。
aBSD1(環(huán)形背散射電子探測器)或新一代C2D(級聯(lián)電流)探測器可確保在低電壓條件下采集到出色圖像。
將多模式實驗與Connect Toolkit相結(jié)合導向作用,或使用Materials應(yīng)用程序分析顯微結(jié)構(gòu)方案、晶粒尺寸或涂層厚度
即使您是新手用戶十大行動,也能輕松獲得專業(yè)結(jié)果左右。Sigma系列獲取圖像迅速,易于學(xué)習(xí)和使用的工作流可節(jié)省培訓(xùn)時間綜合措施,簡化從導(dǎo)航到后期處理的每個步驟可靠保障,讓您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的軟件自動化可助您完成導(dǎo)航設計標準、參數(shù)設(shè)置和圖像采集等步驟開展。
接下來,ZEN core便可大顯身手:它配備針對具體任務(wù)的工具包發揮重要帶動作用,適用于后期處理意向。我們十分推薦人工智能工具包,它可助您基于機器學(xué)習(xí)進行圖像分割文化價值。
光學(xué)鏡筒是成像和分析性能的關(guān)鍵。Sigma配用蔡司Gemini 1電子光學(xué)鏡筒不斷完善,可對任何樣品提供出色的成像分辨率數字化,尤其是在低電壓條件下。
Sigma 360的低電壓分辨率目前500 V時為1.9 nm基礎上。通過大幅度降低色差各領域,1 kV時的分辨率已提升10%以上,可達1.3 nm。
現(xiàn)在成像比以往任何時候都輕松深入闡釋,無論是要求苛刻的樣品更加廣闊,還是在可變壓力(VP)模式下采用背散射探測。
對聚苯乙烯樣品進行斷裂提高,以了解聚合物界面處的裂紋形成和附著力可以使用。Sigma 360,C2D紮實,3 kV效高化,NanoVP lite模式,樣品室壓力60Pa投入力度。
新NanoVP lite模式和新探測器很容易在電壓低于5 kV時創造,從非導(dǎo)體中輕松獲取高質(zhì)量數(shù)據(jù)。
這樣貢獻法治,就可增強成像和X射線能譜分析的性能設備製造,提供更多表面敏感信息,縮短采集時間攻堅克難,增強入射電子束流管理,提高能譜面分布分析速度。
aBSD1(環(huán)形背散射電子探測器)或新一代C2D(級聯(lián)電流)探測器可確保在低電壓條件下采集到出色圖像雙向互動。
即使您是新手用戶深入開展,也能輕松獲得專業(yè)結(jié)果新創新即將到來。Sigma系列獲取圖像迅速高質量,易于學(xué)習(xí)和使用的工作流可節(jié)省培訓(xùn)時間意見征詢,簡化從導(dǎo)航到后期處理的每個步驟先進水平,讓您如虎添翼。
蔡司SmartSEM Touch中的軟件自動化可助您完成導(dǎo)航明顯、參數(shù)設(shè)置和圖像采集等步驟進行培訓。
接下來綜合措施,ZEN core便可大顯身手:它配備針對具體任務(wù)的工具包組成部分,適用于后期處理影響。我們十分推薦人工智能工具包新的動力,它可助您基于機器學(xué)習(xí)進行圖像分割的過程中。
對實體樣品進行高效分析:基于SEM的高速和通用分析像一棵樹。
實現(xiàn)原位實驗自動化:無人值守測試的全集成實驗室過程中。
可在低于1 kV的條件下完成要求苛刻的樣品成像:采集完整的樣品信息。
在1 kV或甚至在500 V時實現(xiàn)信息量豐富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V時為1.5 nm能運用。
在新的NanoVP lite模式下達到,使用新型aBSD或C2D探測器
在可變壓力下輕松拍攝要求苛刻的樣品智能設備,加速電壓可低至3 kV。
正在研究電子設(shè)備的您肯定希望保持清潔的工作環(huán)境蓬勃發展。使用等離子清洗儀(強烈推薦)和可通過6英寸晶圓的新型大尺寸樣品交換艙特點,防止您的樣品室受到污染。
Sigma 560的EDS幾何學(xué)設(shè)計可提高分析效率開拓創新。兩個180°徑向相對的EDS端口確保了即使在低電壓小束流條件下持續發展,也能實現(xiàn)高通量無陰影元素面分布。
樣品室的附加EBSD和WDS端口可進行除EDS外的分析促進善治。
不導(dǎo)電樣品也可以使用全新的NanoVP lite模式進行分析供給,并能獲得更強的信號和更高的對比度。
全新的aBSD4探測器可輕松實現(xiàn)表面形貌復(fù)雜樣品的圖像采集實事求是。
鋼原位加熱和拉伸實驗進行探討。同步執(zhí)行SEM成像和EBSD分析,以深入研究應(yīng)力應(yīng)變曲線服務水平。
Sigma原位實驗室是一種全集成式解決方案最新,它可以不依賴操作人員,通過無人值守的自動化工作流進行加熱和拉伸測試處理方法。
通過對納米級別的特征進行3D分析進一步擴展您的工作流:執(zhí)行3D STEM斷層成像或基于人工智能的圖像分割重要作用。
新aBSD4可實現(xiàn)實時3D表面建模(3DSM)。
在1 kV或甚至在500 V時實現(xiàn)信息量豐富的成像和分析:Sigma 560的低千伏分辨率500 V時為1.5 nm同期。
在新的NanoVP lite模式下,使用新型aBSD或C2D探測器
在可變壓力下輕松拍攝要求苛刻的樣品使命責任,加速電壓可低至3 kV效果。
正在研究電子設(shè)備的您肯定希望保持清潔的工作環(huán)境。使用等離子清洗儀(強烈推薦)和可通過6英寸晶圓的新型大尺寸樣品交換艙,防止您的樣品室受到污染密度增加。
Sigma 560的EDS幾何學(xué)設(shè)計可提高分析效率效果。兩個180°徑向相對的EDS端口確保了即使在低電壓小束流條件下,也能實現(xiàn)高通量無陰影元素面分布足了準備。
樣品室的附加EBSD和WDS端口可進行除EDS外的分析合作關系。
不導(dǎo)電樣品也可以使用全新的NanoVP lite模式進行分析,并能獲得更強的信號和更高的對比度深刻內涵。
全新的aBSD4探測器可輕松實現(xiàn)表面形貌復(fù)雜樣品的圖像采集傳遞。
Gemini電子光學(xué)鏡筒橫截面示意圖,包含電子束推進器深入闡釋、Inlens探測器和Gemini物鏡相關性。
Gemini 1電子光學(xué)系統(tǒng)由三個元件組成:物鏡、電子束推進器和Inlens探測器物聯與互聯。其中穩定,物鏡的設(shè)計將靜電場與磁場相結(jié)合,大大優(yōu)化光學(xué)性能的同時供給,降低了樣品受到的磁場影響優勢與挑戰。
如此也可實現(xiàn)對磁性材料等具有挑戰(zhàn)性的樣品的高品質(zhì)成像。Inlens探測原理通過對二次電子(SE)和/或背散射電子(BSE)的探測來確保高效的信號檢測深入各系統,同時大幅縮短獲取圖像的時間解決問題。
電子束推進器保證了小尺寸的電子束斑和高信噪比。
Gemini 1光學(xué)鏡筒與探測器橫截面示意圖
Sigma配備了一系列不同的探測器作用,通過新探測技術(shù)對您的樣品進行表征相互配合。
使用ETSE和Inlens探測器的高真空模式可獲取表面形貌的高分辨率信息。
使用VPSE或C2D探測器的可變壓力模式可獲得清晰圖像著力增加。
使用aSTEM探測器可進行高分辨率透射電子成像智能化。
采用不同的可選BSE探測器,如aBSD探測器流程,可以深入研究樣品的成分和表面形貌合作。
標(biāo)準(zhǔn)VP(左)和NanoVP lite(右)模式,氣體分布(粉紅色)助力各業,電子束裙邊(綠色)極致用戶體驗。
采用NanoVP lite模式進行分析和成像,在低電壓條件下可獲得更高的圖像質(zhì)量應用,更快速地獲取更準(zhǔn)確的分析數(shù)據(jù)建議。
在NanoVP lite模式下,裙邊效應(yīng)降低且電子束的氣體路徑長度(BGPL)減小相貫通。裙邊減小會提高SE和BSE成像的信噪比不斷發展。
帶有五象限的可伸縮式的環(huán)形aBSD可提供出色的材料成分襯度:在NanoVP lite工作過程中,該探測器配備了安裝在極靴下方的束流套管自動化方案,其可提供低電壓下的高通量高襯度成分和表面形貌成像緊密協作,適用于可變壓力和高真空條件。
可選附件
電鏡可選附件用于增強和拓展電子顯微鏡功能線上線下,具體產(chǎn)品涵蓋了從樣品制備到成像發揮重要作用、分析等所有步驟的需求。應(yīng)用范圍包括材料科學(xué)數據顯示、生命科學(xué)高質量、地球物理學(xué)、電子學(xué)記得牢,能源科學(xué)等領(lǐng)域註入了新的力量。
產(chǎn)品類別 | 產(chǎn)品名稱 | 產(chǎn)品簡介 |
分析設(shè)備 | 能譜儀 | 檢測特征X射線能量,稱為能量色散譜儀(Energy Dispersive Spectroscopy)更多可能性,簡稱能譜儀(EDS)去創新。主要是對材料微區(qū)化學(xué)成分進行定性及定量分析,可以用于金屬共謀發展、高分子凝聚力量、陶瓷、混凝土聽得進、生物新的力量、礦物、纖維等無機或有機固體材料分析等便利性。例如:在掃描電鏡下可以結(jié)合夾雜物形態(tài)及成分進行分析全面展示;固體材料的表面涂層、鍍層進行分析深刻認識;結(jié)合EBSD對未知材料進行相鑒定等核心技術。 |
波譜儀 | 利用晶體衍射分光檢測感興趣的特征X射線波長,稱為波長色散譜儀(Wavelength Dispersive Spectroscopy)主動性,簡稱波譜儀(WDS)創造性。與能譜儀相比發展的關鍵,波譜儀的能量分辨率更高,可以將能量非常接近的譜線區(qū)分開規模設備,同時具有更低的元素檢測限真諦所在,可檢測元素含量至0.1‰。 | |
背散射電子衍射探測器 | 電子背散射衍射(Electron Backscatter Diffraction競爭力,簡稱EBSD)技術(shù)充分,是基于掃描電鏡中電子束在傾斜樣品表面激發(fā)形成的衍射菊池帶的分析,從而確定晶體結(jié)構(gòu)集聚、取向競爭力、晶界類型、微織構(gòu)組成及應(yīng)變分布等相關(guān)信息狀況,是快速而準(zhǔn)確的獲得晶體取向信息的強有力的分析工具機製性梗阻。EBSD技術(shù)可用于各種晶體材料——金屬、陶瓷全過程、半導(dǎo)體生產效率、地質(zhì)、礦石的分析效果,結(jié)合形貌使用、能譜信息,可以解決其在形變密度增加、再結(jié)晶主要抓手、相變、斷裂構建、腐蝕過程的問題創新科技。 | |
加熱臺 | 掃描電鏡高溫加熱臺可以動態(tài)地觀察溫度變化時材料微觀組織、結(jié)構(gòu)的變化及失效分析共創輝煌,通入氣體可進行高溫氣體反應(yīng)的觀察具有重要意義,結(jié)合EBSD可進行不同溫度下原位EBSD實驗,用于觀察晶體材料的相變過程大部分、再結(jié)晶形核及長大過程強大的功能、晶界處的變化等。Gatan系列的加熱臺具有溫度精度高解決方案、穩(wěn)定性好優勢、結(jié)構(gòu)緊湊、樣品座方便拆卸等優(yōu)點增產。被廣泛應(yīng)用于液晶檢測便利性、半導(dǎo)體、高分子材料行動力、流體包裹體提供有力支撐、生物工程等眾多領(lǐng)域切實把製度,在冶金材料領(lǐng)域,結(jié)合EBSD進行再結(jié)晶及相變過程的觀察等自行開發。 | |
冷凍臺 | 低溫氮氣制冷樣品臺模塊進行部署,可安裝在現(xiàn)有的SEM 樣品臺上。廣泛應(yīng)用于:電子束敏感材料-如高分子品質、地質(zhì)樣品利用好、低溫冷卻后可做微量分析深入各系統;半導(dǎo)體材料及超導(dǎo)材料-研究低溫相及性能解決問題;陰極發(fā)光及EBIC應(yīng)用。 |
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