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GV10x順流等離子清洗器

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隨著納米科學(xué)的發(fā)展豐富內涵,電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性:電子束能量降低生產效率,反應(yīng)氣體使用的增加,保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平

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隨著納米科學(xué)的發(fā)展適應性,電子探針分析變得越來越具有挑戰(zhàn)性:電子束能量降低節點,反應(yīng)氣體使用的增加,保持高分辨率越來越依賴于保持低碳污染狀態(tài)和低HC污染水平落地生根。 順流等離子工藝可以快速的特點、方便地消除碳?xì)浠衔锏奈廴静⑦M(jìn)行樣品清洗。 與傳統(tǒng)的“等離子清洗器”中的動(dòng)能清洗不同有效保障,順流等離子清洗過程是一個(gè)溫和的化學(xué)過程(無動(dòng)力沖擊)大數據。 這一過程地改變了清除真空腔中碳和碳?xì)浠廴镜姆椒ā?br style="box-sizing:border-box;">
該工藝可高效地清潔大容積腔室和嚴(yán)重污染的表面。 GV10x 等離子清洗器只需1/10的時(shí)間即可清潔鏡腔講實踐,因?yàn)樗鼤?huì)使空氣產(chǎn)生更高濃度的氫離子和氧離子數字技術,從而達(dá)到去污目的,其效果更為溫和市場開拓。. 客戶說“……使用GV10x知識和技能,我們可以在1/10的時(shí)間內(nèi)實(shí)現(xiàn)高效的清潔,比起傳統(tǒng)方式新模式,我們可在大面積鏡腔里更均勻地控制碳?xì)浠衔锏奈廴緦崿F。?

Before Cleaning image After Cleaning image

 

與使用冷凝捕集器組織了、氮?dú)獯祲m和其他等離子清潔器去污染的傳統(tǒng)方法相比服務體系,GV10x等離子清洗器清除碳污染的能力得到了重大的改善。 GV10x具有更大的功率和壓力范圍(5到100瓦,2到<0.005 Torr)問題,代表了SEM和其他分析儀器(包括Mas-Spec逐漸顯現、XPS等)中碳和碳?xì)浠衔锟刂七_(dá)到了典范式的轉(zhuǎn)變。
原子氧和氫將表面碳轉(zhuǎn)化為氣態(tài)分子系統穩定性,不再像傳統(tǒng)的方式那樣只將其固化或吸附拓展基地,而是將氣態(tài)分子從鏡腔中抽出,從而達(dá)到去污效果實力增強。 聚合沉積物等人工樣品可在>5分鐘的循環(huán)中被掃除掉體系流動性。 由于不頻繁的清洗周期,QWK™的配置結(jié)構(gòu)允許GV10x 等離子清洗器可以在多個(gè)EM工具中保持較低的HC水平帶來全新智能。

集團(tuán)提供了可驅(qū)動(dòng)和操作GV10x等離子體源的控制器實現了超越。 實(shí)驗(yàn)室用戶可依需求選擇BT控制器或2U控制器。

從Windows軟件或觸摸屏去完善,操作員可以:在運(yùn)行期間進(jìn)行設(shè)置和監(jiān)控橋梁作用,可將功率從10瓦更改為99瓦。 從等離子源調(diào)整進(jìn)氣量可選擇2 Torr <<5 mTorr的壓力范圍求索。GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴咀屓思m結,而無需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制。 GV10x寬壓力范圍允許在TMP速度下清除碳?xì)湮廴痉€定發展,而無需中斷TMP系統(tǒng)的軟件控制基石之一。


Key Features

  • 在小于5 mTorr至2 Torr的條件下,無需中斷TMP即可調(diào)節(jié)等離子體壓力
  • 50瓦時(shí)可重復(fù)去污率為1.5納米/分鐘
  • 低工作壓力產(chǎn)生均勻清洗效果
  • 減少污染的效率比其他等離子清洗器高10倍以上
  • 順流等離子體-無加熱和濺射損傷
  • 光隔離控制器保護(hù)SEM軟件
  • 短期內(nèi)即可獲得投資回報(bào)

離子源的特點(diǎn)

電感耦合等離子體源
提供KF40增持能力、ConFlat和Qwk-Switch™附件
Qwk-Switch™快速接頭– 實(shí)現(xiàn)儀器之間的無縫轉(zhuǎn)換


控制器的特點(diǎn)

通過觸摸屏或Windows系統(tǒng)進(jìn)行操作
明亮靈敏的觸摸屏
可調(diào)射頻功率:5-100瓦
可調(diào)清洗時(shí)間共同努力,配置循環(huán)進(jìn)度條
密碼保護(hù)設(shè)置
垂直于地面的更小的占地面積(2U控制器)


GV10x 順流等離子清洗器




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