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蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科（地質(zhì)學發展的關鍵、電子學道路、粉體包裹體、冶金學真諦所在、材料學指導、制陶、物理學倍增效應、化學規則製定、 牙科、熱分析學）領域需求，從事研究堅定不移、分析、和觀察使用更讓我明白了。
一迎難而上、儀器用途介紹：
蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科（地質(zhì)學、電子學探索、粉體包裹體堅持先行、冶金學、材料學滿意度、制陶情況較常見、物理學、化學主要抓手、 牙科體製、熱分析學）領域，從事研究創新科技、分析服務延伸、和觀察使用。與光學或電子顯微鏡配合使用具有重要意義，在微觀上觀察其溶化進一步、升華、結晶過程中的狀 態(tài)和各種變化和強大的功能。該儀器采用人性化“傻瓜”設計實際需求，自動化程度高，操作簡單優勢，技術敢於監督，性能優(yōu)秀幅度，結構新穎可靠結構，在該領域處于水平重要的作用。
二、CK-850型850度高溫熱臺技術參數(shù)：
詳細描述：
| 樣品艙 | φ8×2.5 mm | φ8×4 mm | φ10×2.5 mm | φ10×4 mm |
| 窗口至樣品距離 | 6mm | 7.5mm | 6mm | 7.5mm |
1）溫度范圍：室溫~850 ℃
2）觀察光孔：φ1.7 mm
3）升溫速率：100 ℃/min測 溫：熱電偶
4）溫度顯示精度和穩(wěn)定度：1 ℃
5）實驗環(huán)境：腔體密閉規模最大，可通隋性氣氛
6) 冷卻方式：循環(huán)水冷
配套部件：循環(huán)冷卻水泵;熱臺溫度控制儀;溫度控制軟件;制箔器等
三穩中求進、CK-850型850度高溫熱臺軟件控制曲線：
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