可測(cè)定C調整推進、P、S機製性梗阻、Si建強保護、Mn、Ni探索、Cr、Mo產業、Cu等多種元素分析速度快捷滿意度，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分

產(chǎn)品介紹：
1、數(shù)字化技術(shù)替代老式體積龐大笨重的光電倍增電子管模擬技術(shù)可持續、通道可不受限制 主要抓手；
2、引進(jìn)歐洲技術(shù)構建、同國(guó)際光譜儀技術(shù)同步創新科技，真空CCD全譜技術(shù)光譜儀；
3共創輝煌、采用真空型恒溫光室具有重要意義，穩(wěn)定、可靠大部分、免維護(hù)強大的功能；不再采用小型雙光室設(shè)計(jì)解決長(zhǎng)短波元素的技術(shù)問題實際需求；
4、基體范圍內(nèi)通道改變優勢、增加不需費(fèi)用善謀新篇；
5、升級(jí)多基體方便便利性，無須變動(dòng)增加硬件 方法；
6、優(yōu)良的數(shù)據(jù)穩(wěn)定性提供有力支撐，同一樣品不同的時(shí)間段分析切實把製度，可獲得良好的數(shù)據(jù)一致性 ；
7最深厚的底氣、體積小協同控製、重量輕， 移動(dòng)安裝方便 品質；
8利用好、高集成度、高可靠性解決問題、高穩(wěn)定性 系列；
9、節(jié)電的有效手段、節(jié)材統籌推進、能耗只是普通光譜儀50%。
主要特點(diǎn)：
1關鍵技術、可測(cè)定C了解情況、P、S技術研究、Si重要的、Mn、Ni姿勢、Cr相互融合、Mo、Cu等多種元素,適用于多種金屬基體綠色化，如：鐵基不同需求、鋁基、銅基保持穩定、鎳基總之、鉻基、鈦基、鎂基工藝技術、鋅基效率、錫基和鉛基。全譜技術(shù)覆蓋了全元素分析范  圍近年來，可根據(jù)客戶需要選擇通道元素講道理；
2、分析速度快捷技術先進，20秒內(nèi)測(cè)完所有通道的元素成分更多的合作機會。針對(duì)不同的分析材料，通過設(shè)置預(yù)燃時(shí)間及標(biāo)線認為，使儀器用最短的時(shí)間達(dá)到的分析效果服務好；
3、光學(xué)系統(tǒng)采用真空恒溫光室反應能力， 激發(fā)時(shí)產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光室共謀發展，實(shí)現(xiàn)光路直通,消除了光路損耗，提高檢出限奮戰不懈，測(cè)定結(jié)果準(zhǔn)確市場開拓，重現(xiàn)性及長(zhǎng)期穩(wěn)定性；
4大大縮短、特殊的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)要落實好，使真空室容積更小，抽真空速度不到普通光譜儀的一半更默契了；
5先進技術、自動(dòng)光路校準(zhǔn)，光學(xué)系統(tǒng)自動(dòng)進(jìn)行譜線掃描不合理波動，確保接收的正確性宣講手段，免除繁瑣的波峰掃描工作。儀器自動(dòng)識(shí)別特定譜線積極拓展新的領域，與原存儲(chǔ)線進(jìn)行對(duì)比配套設備，確定漂移位置，找出分析線當(dāng)前的  像素位置進(jìn)行測(cè)定多種方式；
6、開放式的電極架設(shè)計(jì)技術創新，可以調(diào)整的樣品夾深入交流研討，便于各種形狀和尺寸的樣品分析；
7廣泛應用、工作曲線采用國(guó)際標(biāo)樣關註度，預(yù)做工作曲線，可根據(jù)需要延伸及擴(kuò)展范圍哪些領域，每條曲線由多達(dá)幾十塊標(biāo)樣激發(fā)生成敢於挑戰，自動(dòng)扣除干擾不斷創新；
8、HEPS數(shù)字化固態(tài)光源提供了遵循，適應(yīng)各種不同材料 參與水平；
9、固態(tài)吸附阱服務效率，防止油氣對(duì)光室的污染明確相關要求，提高長(zhǎng)期運(yùn)行穩(wěn)定性；
10統籌發展、銅火花臺(tái)底座深化涉外，提高散熱性及堅(jiān)固性能；
11逐漸完善、合理的氬氣氣路設(shè)計(jì)參與能力，使樣品激發(fā)時(shí)氬氣沖洗時(shí)間縮短，為用戶節(jié)省氬氣是目前主流，氬氣消耗不到普通光譜儀的一半充分發揮；
12、采用鎢材料電極應用創新，電極使用壽命更長(zhǎng)提高，并設(shè)計(jì)了電極自吹掃功能，清潔電極更加容易的特性；
13交流、高性能DSP及ARM處理器，具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能并自動(dòng)實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)光室溫度提供堅實支撐、真空度還不大、氬氣壓力、光源系統(tǒng)及控制系統(tǒng)等模塊的運(yùn)行狀況信息化技術；
14發揮作用、儀器與計(jì)算機(jī)之間采用以太網(wǎng)連接，抗干擾性能好逐步顯現，外部計(jì)算機(jī)升級(jí)與儀器配置無關(guān)銘記囑托，使儀器具有更好的適用性；
15自動化裝置、核心器件全部示範，保證了儀器優(yōu)秀的品質(zhì)。
技術(shù)參數(shù)：
光學(xué)系統(tǒng)
光學(xué)結(jié)構(gòu)
帕邢-龍格結(jié)構(gòu)的全譜真空型光學(xué)系統(tǒng)
光室溫度
自動(dòng)控制恒溫：35℃±0.5℃
波長(zhǎng)范圍
140-800nm
光柵焦距
350 mm
光柵刻線
3600 l/mm
一級(jí)光譜線色散率
1.2 nm/mm
探測(cè)器
多塊高性能線陣CCD
平均分辨率