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GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

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產(chǎn)品簡介:GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀依據(jù)二極DC直流濺射原理(直流二極濺射鍍膜是指在真空環(huán)境中利用粒子轟擊靶材產(chǎn)生的濺射效應(yīng)參與水平,使得靶材原子或分子從固體表面射出大型,在基片上沉積形成薄膜的過程。屬于物理 氣相沉積(PVD)制備薄膜技術(shù)的一種明確相關要求。)設(shè)計(jì)而成的簡單重要意義、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜設(shè)備深化涉外。GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀特別之處是在一個(gè)真空室內(nèi)安裝了三個(gè)靶體系,旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此開展試點,適用于實(shí)驗(yàn)室各種復(fù)合膜樣品的制備攜手共進,以及非導(dǎo)體材料實(shí)驗(yàn)電極的制作。該設(shè)備體積小充分發揮,節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間高質量,操作簡單,尤其適合實(shí)驗(yàn)室使用選擇適用。

 

產(chǎn)品型號(hào)

GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下管理,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用業務指導。

1改進措施、水:不需要

2、電:AC220V 50Hz還不大,必須有良好

3高產、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥)

4發揮作用、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×00mm,承重50kg以上

5逐步顯現、通風(fēng)裝置:不需要

主要特點(diǎn)

1銘記囑托、設(shè)有真空表、濺射電流表自動化裝置,可實(shí)時(shí)監(jiān)控工作狀態(tài)示範。

2通過調(diào)節(jié)濺射電流控制器有很大提升空間、微型真空氣閥運行好,控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需要的電離氣體可能性更大,以獲得鍍膜效果部署安排。

3鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設(shè)計(jì)技術,可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象推廣開來。

4推動、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。

5資源配置、根據(jù)電場中氣體電離特性信息,采用大容量濺射真空室和相應(yīng)面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈大力發展。

6豐富內涵、已通CE認(rèn)證。

技術(shù)參數(shù)

1建言直達、靶:Ø45mm

2多種、真空室:Ø160mm×120mm

3、真空度:≤4×10-2mbar

4支撐作用、靶位:3個(gè)

5日漸深入、電流:50mA

6、可設(shè)定最長時(shí)間:900s

7同時、微型真空氣閥:連接Ø3mm軟管

8互動式宣講、電壓:1600V  DC

9、機(jī)械泵:2L/s

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

金靶材

1個(gè)

2

銅靶材

1個(gè)

3

鋁靶材

1個(gè)

4

進(jìn)氣針閥

1個(gè)

5

保險(xiǎn)絲

2個(gè)

可選配件

金模式、銦自動化、銀、鉑等各種靶材


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