產(chǎn)品用途：
此款CVD系統(tǒng)是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計可持續，特別是應用在新一代能源關(guān)于柔性金屬箔
電極方面的研究主要抓手，通過滑動爐實現(xiàn)快速加熱和冷卻。
產(chǎn)品組成：
CVD系統(tǒng)配置：
1.1200度開啟式真空管式爐（可選配單溫區(qū)及雙溫區(qū)）構建。
2.滑動系統(tǒng)分為手動創新科技、電動滑動，并配有風冷系統(tǒng)共創輝煌。
3.內(nèi)外雙石英管具有重要意義，采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。
4.多路氣體流量控制系統(tǒng)（質(zhì)子流量控制器和浮子流量控制器）
5.真空系統(tǒng)（可選配中真空或高真空）
產(chǎn)品特點：
產(chǎn)品*性
1 控制電路選用模糊PID程控技術(shù)大部分，該技術(shù)控溫精度高強大的功能，熱慣性小，溫度不過沖解決方案，性能可靠優勢，操作簡單。
2 氣路快速連接法蘭結(jié)構(gòu)采用本公司*的知識產(chǎn)權(quán)設計,提高操作便捷性增產。
3 中真空系統(tǒng)具有真空度上下限自動控制功能結構，高真空系統(tǒng)采用高壓強，耐沖擊分子泵貢獻，防止意外漏氣造成分子泵損壞規模最大，延長系統(tǒng)使用壽命。
4 (電動)滑動系統(tǒng)采用溫度控制器自動控制爐體移動明確了方向，等程序完成系統性，爐體按設定的速度滑動，因有滑動限位功能單產提升，爐體不會發(fā)生碰撞傳遞，待樣品露出爐體后，通過風冷系統(tǒng)快速降溫勞動精神。
5 雙管真空密封法蘭開展攻關合作，反應氣體可以在內(nèi)外管之間發(fā)生反應製度保障，冷卻氣體可通過內(nèi)管，從而使內(nèi)管外壁溫度降低的有效手段。
系統(tǒng)名稱 | 1200℃雙管滑動式單/多溫區(qū)CVD系統(tǒng) |
系統(tǒng)型號 | CVD-12II6SH-3Z/G | CVD-12III9SH-3Z/G |
溫度 | 1200℃ |
加熱區(qū)長度 | 610mm | 940mm |
恒溫區(qū)長度 | 400mm | 700mm |
溫區(qū) | 雙溫區(qū) | 三溫區(qū) |
石英管管徑 | 內(nèi)管：Φ80mm 外管：Φ100mm |
額定功率 | 4.8Kw | 7.2Kw |
額定電壓 | 220V | 380V（三相） |
滑動距離 | 485mm | 650mm |
滑動方式 | 手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動統籌推進，當程序完成，爐子按設定的速度滑動） |
溫度控制 | 國產(chǎn)程序控溫系統(tǒng)50段程序控溫關鍵技術； |
控制精度 | ±1℃ |
爐管工作溫度 | ＜1200℃ |
雙管法蘭連接 | 采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能了解情況，并且分別獨立對內(nèi)管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環(huán)密封技術(shù)，在密封法蘭與管外壁間形成了密封技術研究，在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效重要的，該密封法蘭的安裝只需在次使用設備的時候安裝 |
氣體控制方式 | 質(zhì)量流量計 |
氣路數(shù)量 | 3路（可根據(jù)具體需要選配氣路數(shù)量） |
流量范圍 | 0-500sccm(標準毫升/分，可選配）氮氣標定 |
精度 | ±1%F.S |
響應時間 | ≤4sec |
工作溫度 | 5-45℃ |
工作壓力 | 進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力） |
系統(tǒng)連接方式 | 采用KF快速連接波紋管姿勢、高真空手動擋板閥及數(shù)顯真空測量儀 |
規(guī)格 | 高真空 |
系統(tǒng)真空范圍 | 1x10-3Pa-1x10-1Pa |
真空泵 | 真空分子泵理論極限真空度
5x10-6Pa抽氣速率1600L/S
額定電壓220V 功率2Kw |
爐體外形尺寸 | 480×770×605mm | 410×1100×605mm |
系統(tǒng)外形尺寸 | 530×1440×750mm(不含高真空) |
系統(tǒng)總重量 | 340Kg |
