產(chǎn)品型號

VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀

產(chǎn)品型號

VTC-600-2HD

安裝條件

本設(shè)備要求在海拔1000m以下實際需求，溫度25℃±15℃解決方案，濕度55%Rh±10%Rh下使用積極性。

1前沿技術、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水）

2、電：AC220V 50Hz奮戰不懈，必須有良好接地

3還不大、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上）高產，需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥

4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm發揮作用，承重200kg以上

5良好、通風(fēng)裝置：需要

主要特點(diǎn)

1、配置兩個(gè)靶槍勇探新路，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜單產提升，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。

2試驗、可制備多種薄膜勞動精神，應(yīng)用廣泛。

3製度保障、體積小預下達，操作簡便。

技術(shù)參數(shù)

1統籌推進、電源電壓：220V  50Hz

2方案、功率：<2KW（不含真空泵）

3、極限真空度：9.0×10^-4Pa

4了解情況、樣品臺(tái)加熱溫度：RT-500℃深入，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度）

5、靶槍數(shù)量：2個(gè)（可選配其他數(shù)量）

6重要的、靶槍冷卻方式：水冷

7開展研究、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同）

8相互融合、直流濺射功率：500W首要任務；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選不同需求，可選擇兩個(gè)直流電源發展，也可選擇兩個(gè)射頻電源，或選則一個(gè)直流一個(gè)射頻電源）

9、載樣臺(tái)：Ø140mm面向，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能支撐作用，以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。

10建設項目、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào)

11生產效率、工作氣體：Ar等惰性氣體

12、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣適應性，一路為100SCCM，另一路為200SCCM通過活化。

產(chǎn)品規(guī)格

1落地生根、主機(jī)尺寸：500mm×560mm×660mm

2、整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm

3健康發展、真空室規(guī)格：φ300×300mm

4有效保障、重量：160kg

標(biāo)準(zhǔn)配件

1

直流電源控制系統(tǒng)

1套

2

射頻電源控制系統(tǒng)

1套

3

膜厚監(jiān)測儀系統(tǒng)

1套

4

分子泵（德國進(jìn)口）

1臺(tái)

5

冷水機(jī)

1臺(tái)

6

冷卻水管（Ø6mm）

4根

可選配件

金、銦長效機製、銀講實踐、白金等各種靶材