1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)交流，爐腔材料采用高純氧化鋁，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃提供堅實支撐，內(nèi)爐腔表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度還不大。

1200℃迷你型真空氣氛管式爐

產(chǎn)品詳情：1200℃迷你型真空氣氛管式爐采用雙層殼體結(jié)構(gòu)，爐腔材料采用高純氧化鋁信息化技術，殼體兩邊安裝有鋁制散熱器使得法蘭溫度小于80℃發揮作用，內(nèi)爐腔表面涂有1750℃進口氧化鋁涂層材料提高反射率及爐腔潔凈度。

1200℃迷你型真空氣氛管式爐適用范圍：

主要應(yīng)用于院校實驗室逐步顯現、工礦企業(yè)實驗室銘記囑托，應(yīng)用于高、中自動化裝置、低溫CVD工藝示範，如碳納米管的研制，晶體硅基板鍍膜有很大提升空間，金屬材料擴散焊接以及真空或氣氛下的熱處理等提供了有力支撐。