美國XOS HD 手持式X射線熒光光譜儀使用雙彎晶前景，具有聚光功能進一步意見，加強(qiáng)X 熒光.在低含量檢出時，其結(jié)果仍然具有一定穩(wěn)定性共享應用，檢出較低生產能力。而金屬中元素較難檢測，HD 將能更好應(yīng)對示範推廣。

美國 XOS 公司 X 射線熒光光譜儀

1. XOS 公司介紹：

◆ XOS® (X-Ray Optical Systems, Inc. X射線光學(xué)系統(tǒng)公司) 總部位于美國紐約州*Albany, 為丹納赫水質(zhì)平臺子公司堅持好。

◆ XOS®是一家應(yīng)用材料和元素分析設(shè)備供應(yīng)商，為重視控制材料質(zhì)量與性能的行業(yè)監(jiān)管部門和客戶提供擁有技術(shù)的分析設(shè)備大幅增加。

◆ XOS公司擁有 的研發(fā)和設(shè)計能力特性，與美國的眾多研究機(jī)構(gòu)有合作關(guān)系，曾經(jīng)參與了許 的課題設(shè)計等特點，包括美國宇航局的行星元素探測計劃（XRF方法）等建言直達。

◆ XOS擁有 的X射線光學(xué)技術(shù)，能夠幫助客戶將測量靈敏性提高百倍將進一步，減少測量時間充分發揮，提高空間分辨率，縮小設(shè)備尺寸動力，并且節(jié)約設(shè)備成本同時。

◆ XOS公司的光學(xué)晶體 應(yīng)用于大型波長色散型XRF、微區(qū)聚焦XRF效高性、掃描電鏡等X射線儀器模式。XOS公司與其他 的XRF生產(chǎn)廠商都有合作，提供給它們 光學(xué)聚焦晶體提升。

◆ XOS公司具備HDXRF的 技術(shù)— DCC高品質，也是 一家擁有自己 技術(shù)的XRF生產(chǎn)廠商，其他品牌XRF的核心部件——X光管支撐能力、濾光片資源優勢、準(zhǔn)直器等均為外購。

◆ XOS公司在 元素分析領(lǐng)域有著 的技術(shù)應(yīng)用特征更加明顯，XOS公司與美國NASA下屬的JPL實驗室合作估算，研發(fā)了一款 用于2020火星計劃的XRF元素分析儀

2. 主要技術(shù)參數(shù)和優(yōu)點(diǎn)：

1) 采用XOS技術(shù)DCC®（雙曲面彎晶技術(shù)）數字化，取代傳統(tǒng)的濾光片和準(zhǔn)直器，真正實現(xiàn)單色光激發(fā)樣品基礎上；

2) 檢測光斑1mm各領域，適合測試不規(guī)則樣品和細(xì)小樣品；

3) 采用 SDD硅漂移探測器保持競爭優勢，分辨率高進行培訓，無需液氮冷卻；

4) 滿足美國ASTM F2853標(biāo)準(zhǔn)長效機製；

5) 可同時測試涂層與基材中的重金屬含量法治力量；

6) 采用基本參數(shù)法，可分析各類未知樣品分享；等等

美國XOS HD 手持式X射線熒光光譜儀

應(yīng)用領(lǐng)域：

•重金屬檢測共享，確保符合法規(guī)要求

•快速 篩檢和定量分析有毒元素

•在整個供應(yīng)鏈中進(jìn)行合規(guī)驗證：

-生產(chǎn)過程和成品質(zhì)量分析與控制（QA/QC)

-倉庫和零售商

-監(jiān)管部門

-現(xiàn)場應(yīng)用

性能和優(yōu)勢:

• 完成測試，測試結(jié)果可與“濕式化學(xué)法” 

•與濕式化學(xué)法相比表示，運(yùn)營成本更低

•降低第三方測試成本

•改善工作流全面闡釋，降低成本

•提高測試頻率，同時降低成本

•在實際篩檢和認(rèn)證應(yīng)用中競爭力所在，具有的檢測下限

•同時對涂層與基體進(jìn)行分析

•點(diǎn)分析并配有分辨率分析畫圖像

•用戶友好型界面和數(shù)據(jù)管理引人註目，易于操作

HD 應(yīng)用優(yōu)勢

技術(shù)方面

① 傳統(tǒng) XRF 普遍使用金屬濾光片，對原級 X 射線進(jìn)行過濾溝通機製，會導(dǎo)致熒光減弱好宣講，在測試低

含量時，其結(jié)果波動較大領先水平，不具有參考性。同時濾光片數(shù)量有限，在基材有所變化時戰略布局，

濾光片不一定適用事關全面，導(dǎo)致結(jié)果偏差。 而 HD  使用雙彎晶狀態，具有聚光功能技術節能，加強(qiáng)

X 熒光.在低含量檢出時，其結(jié)果仍然具有一定穩(wěn)定性廣泛認同，檢出限較低國際要求。而金屬中元素較難

檢測，HD  將能更好應(yīng)對鍛造。

② 軟件方面重要部署，HD 使用 FP 計算方法，同時顯示所有測試元素。并且結(jié)合雙彎晶特

點(diǎn)智慧與合力，一條曲線就能完成金屬類別檢測喜愛；而傳統(tǒng) XRF 需要應(yīng)對不同的基體，單獨(dú)曲

線促進進步，或者特殊材質(zhì)發力，特殊標(biāo)定校正優勢領先，操作較麻煩迎來新的篇章。

產(chǎn)品方面

① HD 提供不同操作模式，即可定量分析推動並實現，亦可便攜篩選薄弱點。 可應(yīng)對不同場合測試需求

②   XOS 技術(shù)，涂層基材檢測能力優化程度，可應(yīng)對不同種類產(chǎn)品以及不同發(fā)展需求積極性。

③ HD   不開放操作人員數(shù)據(jù)修正功能，源自于丹納赫以及 XOS 對旗下產(chǎn)品性能穩(wěn)

定性以及技術(shù)的自信不斷豐富。

實際使用方面

① 針對樣品復(fù)雜多樣的客戶實施體系，HD 相對傳統(tǒng) XRF 儀器而言多種方式，結(jié)果更加真實管理、可靠、

穩(wěn)定全技術方案。

② 1mm 小光斑可測試細(xì)小樣品及不規(guī)則樣品的細(xì)小部位持續。

③ 針對復(fù)雜的金屬樣品等多個領域，其牌號、組成產品和服務、工藝等方面的差異應用擴展，都會造成儀器檢測的困難，

HD 相對傳統(tǒng) XRF 而言增多，不需要 校準(zhǔn)曲線而統(tǒng)一采用 FP 無標(biāo)樣分析技

術(shù)活動上，可以更好的應(yīng)對多種類型的樣品，省去測試人員區(qū)分樣品的工作環(huán)節(jié)進一步推進，以及*

避免由此帶來的人為誤差

產(chǎn)品規(guī)格