半導體超聲波清洗機：MESA/SC晶片清洗設備該機清洗程序為酸洗、超聲洗促進善治、噴淋清洗擴大、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平發揮效力。

半導體超聲波清洗機概述：

該設備用于晶片的清洗處理新格局。該機清洗程序為酸洗、超聲洗安全鏈、噴淋清洗顯示、流洗。其工藝性能指標及可靠性*達到進口同類設備水平真正做到。

半導體超聲波清洗機主要特點：

采用進口PP板制作科普活動。

適用MESA*SC晶片清洗創新延展。

超聲功率強勁，性能穩(wěn)定長期間。

采用進口超聲波電源基本情況。