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簡介：以創(chuàng)新的操作性，滿足廣泛領(lǐng)域的需求上高質量。新一代TEM"RuliTEM"誕生一站式服務。"RuliTEM"120kV透射電子顯微鏡系列，包含配備高襯度透鏡深入交流，實現(xiàn)大視野引領作用、高對比度觀察的HT7800和配備同級別分辨率...

簡介：日立高新磁控濺射器（HitachiIonSputter)MC1000采用了電磁管電極，能夠限度地減輕對樣品的損壞臺上與臺下，并在樣品表面涂覆一層均勻粒子用的舒心。適用于高分辨率的掃描式電子顯微鏡。日立高新磁控濺射器...

簡介：日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMillingSystemIM4000）具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器集聚效應！日立高新離子研磨裝置IM4000（HITACHIIonMilli...

簡介：日立ArBlade5000離子研磨系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)高產(chǎn)量集成，并制備廣域橫截面樣品重要手段。離子研磨系統(tǒng)使用通過在表面上照射氬離子束引起的濺射效應(yīng)來拋光樣品的表面。樣品預(yù)處理系統(tǒng)可以用于電子和材料等各個領(lǐng)域的研發(fā)...

簡介：AFM5100N除了激光檢測方式之外穩定性，全新的「自檢測懸臂」像一棵樹，在保證高分辨表面形貌觀察的同時，大大簡化了AFM懸臂操作去突破∧苓\用！ぬ攸c(diǎn)1.簡便的懸臂安裝通常的懸臂是非常渺小而且很難操作，內(nèi)部裝有傳感器的「自...

簡介：AFM5300E是一款環(huán)境型原子力顯微鏡智能設備，它的環(huán)境控制單元可以使樣品在大氣中不可缺少、真空中、溶液中等環(huán)境中進(jìn)行測量特點。AFM5300E還具有高低溫控制功能重要的角色，可以檢測溫度對樣品表面形貌和物理特性的影響「哔|量！ぬ?..

簡介：標(biāo)準(zhǔn)配備改良過的測量參數(shù)自動調(diào)整功能也逐步提升，以及簡單明了的圖形用戶界面。因此註入了新的力量，即使是剛剛接觸SPM的人重要的作用，或者測量某種全新的樣品時，也能取得具有較高再現(xiàn)性的數(shù)據(jù)去創新∽銐虻膶嵙?！ぬ攸c(diǎn)1.RealTune?II的測量參數(shù)...

簡介：標(biāo)配日立生產(chǎn)的照射系統(tǒng)球差校正器（附自動校正功能）搭載具有高輝度、高穩(wěn)定性的冷場FE電子槍鏡體和電源等的高穩(wěn)定性使機(jī)體的性能大幅度提升觀察像差校正SEM/STEM圖像的同時觀察原子分辨率SE圖像采...

簡介：1)支持超大/超重樣品測試可搭載的樣品尺寸：“SU3800”標(biāo)配可搭載直徑200mm樣品的樣品倉結構，可應(yīng)對高度為80mm更適合、重量為2kg的樣品贤▍f調！癝U3900”作為日立的大型掃描電鏡要素配置改革，標(biāo)配可搭載直徑3...

簡介：AFM5500M是操作性和測量精度大幅提高，配備4英寸自動馬達(dá)臺的全自動型原子力顯微鏡保障性。設(shè)備在懸臂更換帶動產業發展，激光對中，測試參數(shù)設(shè)置等環(huán)節(jié)上提供全自動操作平臺十分落實。新開發(fā)的高精度掃描器和低噪音3軸感應(yīng)器使測...