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復(fù)納科學(xué)儀器（上海）有限...

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飛納電鏡展會(huì)邀請(qǐng) | 第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)

閱讀：423      發(fā)布時(shí)間：2019-8-9
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　　第十三屆華北五省市化學(xué)學(xué)術(shù)研討會(huì)(HBHX 2019)將于 2019 年 8 月 10 日 - 13 日在天津召開開展研究。
 
　　時(shí)間：2019 年 8 月 10 日 - 13 日
 
　　地址：天津匯高花園酒店
 
　　會(huì)議主題
 
　　1. 無(wú)機(jī)化學(xué)
 
　　2. 有機(jī)化學(xué)
 
　　3. 分析化學(xué)
 
　　4. 物理化學(xué)
 
　　5. 高分子物理與化學(xué)
 
　　6. 理論計(jì)算化學(xué)
 
　　7. 能源材料化學(xué)
 
　　8. 化學(xué)教育
 
　　9. 化學(xué)相關(guān)交叉學(xué)科
 
　　飛納電鏡展位：3 號(hào)展位
 
　　荷蘭飛納推出肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源姿勢，集背散射電子成像、二次電子成像和能譜分析功能于一體的臺(tái)式場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡能譜一體機(jī) Phenom LE首要任務。
 
　　放大倍數(shù) 50 萬(wàn)倍適應性強，分辨率優(yōu)于 2.5 nm@15kV。
 
　　高亮度肖特基場(chǎng)發(fā)射電子源先進的解決方案，使用戶可以輕松獲得高分辨率圖像拓展。Phenom LE 低電壓成像優(yōu)勢(shì)明顯，可減輕電子束對(duì)樣品的損傷和穿透，zui大程度還原樣品真實(shí)形貌相關。

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