目錄:深圳華普通用科技有限公司>>日本理學(xué)波長(zhǎng)色散XRF>> 日本理學(xué)連續(xù)波長(zhǎng)色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用
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更新時(shí)間:2023-08-05 14:19:20瀏覽次數(shù):423評(píng)價(jià)
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Rigaku 的 ZSX Primus 400 連續(xù)波長(zhǎng)色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專(zhuān)為處理非常大或重的樣品而設(shè)計(jì)解決方案。該系統(tǒng)可接受直徑為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品善謀新篇,非常適合分析濺射靶材增產、磁盤(pán),或用于多層薄膜計(jì)量或大型樣品的元素分析方法。
優(yōu)點(diǎn)
帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性行動力,可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測(cè)量點(diǎn)(直徑 30 毫米至 0.5 毫米切實把製度,具有 5 步自動(dòng)選擇)和具有多點(diǎn)測(cè)量的映射功能以檢查樣品均勻性保供。
具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時(shí)攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。
仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力進行部署。
安全性
采用上照射設(shè)計(jì),樣品室可簡(jiǎn)單移出責任,再不用擔(dān)心污染光路,清理麻煩和增加清理時(shí)間等問(wèn)題保護好。
固體組建、液體、粉末特點、合金和薄膜的元素分析:
濺射靶材組成.
隔離膜:SiO2深刻變革、BPSG、PSG部署安排、AsSG搖籃、Si?N?、SiOF推廣開來、SiON等推動。
高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜:PZT、BST資源配置、SBT開展研究、Ta2O5、HfSiOx
金屬薄膜:Al-Cu-Si、W首要任務、TiW、Co不同需求、TiN發展、TaN、Ta-Al總之、Ir面向、Pt、Ru研學體驗、Au建設項目、Ni等。
電極膜:摻雜多晶硅(摻雜劑:B落實落細、N相結合、O、P製高點項目、As)為產業發展、非晶硅、WSix有所增加、Pt等各項要求。
其他摻雜薄膜(As、P)越來越重要的位置、困惰性氣體(Ne新技術、Ar、Kr等)順滑地配合、C(DLC)
鐵電薄膜深入、FRAM、MRAM大大縮短、GMR要落實好、TMR;PCM更默契了、GST先進技術、GeTe
焊料凸點(diǎn)成分:SnAg、SnAgCuNi
MEMS:ZnO不合理波動、AlN宣講手段、PZT的厚度和成分
SAW器件工藝:AlN、ZnO積極拓展新的領域、ZnS配套設備、SiO 2(壓電薄膜)的厚度和成分;Al、AlCu推進高水平、AlSc脫穎而出、AlTi(電極膜)
大樣本分析: 400 毫米(直徑), 50 毫米(厚度)生產創效,高達(dá) 30 千克(質(zhì)量)
樣品適配器系統(tǒng)結構,適用于各種樣本量
測(cè)量點(diǎn):30 毫米至 0.5 毫米直徑供給,5步自動(dòng)選擇
映射能力解決方案,允許多點(diǎn)測(cè)量
樣品視圖相機(jī)(可選)
分析范圍:Be - U
元素范圍:ppm 至 %
厚度范圍:sub ? 至 mm
衍射干擾抑制(可選):單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果
符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn):SEMI經驗分享、CE標(biāo)志
占地面積小優化程度,以前型號(hào)的 50% 占地面積
(空格分隔,最多3個(gè),單個(gè)標(biāo)簽最多10個(gè)字符)