全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310分析可以測量所有晶圓廠工藝中的污染製度保障，包括清潔預下達、光刻、蝕刻統籌推進、灰化方案、薄膜等。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310 可以使用單目標(biāo) 3 光束 X 射線系統(tǒng)和無液氮探測器系統(tǒng)測量從鈉到烏的元素。

全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310包括理學(xué)的XYθ樣品臺(tái)系統(tǒng)，真空晶圓機(jī)器人轉(zhuǎn)移系統(tǒng)和新的用戶友好型Windows軟件深刻認識。所有這些都有助于提高吞吐量非常重要、更高的準(zhǔn)確度和精度重要組成部分，以及簡化的日常操作不合理波動。

集成的 VPD 功能可實(shí)現(xiàn)一個(gè)晶圓的自動(dòng) VPD 制備管理，同時(shí)在另一個(gè)晶圓上進(jìn)行 TXRF 測量長遠所需，以獲得的靈敏度和高吞吐量培養。全反射 X 射線熒光光譜儀TXRF-V310消除了 ICP-MS 可能出現(xiàn)的操作員可變性交流研討，并且 VPD-TXRF 可以通過工廠自動(dòng)化控制⌒问?？蓮倪x定區(qū)域（包括斜面區(qū)域）進(jìn)行 VPD 恢復(fù)建設應用。

可選的掃描TXRF軟件可以繪制晶圓表面上的污染物分布圖，以識(shí)別可以更高精度自動(dòng)重新測量的“熱點(diǎn)"日漸深入。

可選的 ZEE-TXRF 功能克服了原始 TXRF 設(shè)計(jì)歷 15 mm 邊緣排除的問題動力，使測量能夠以零邊緣排除進(jìn)行。

可選的 BAC-TXRF 功能可實(shí)現(xiàn) 300 mm 晶圓的全自動(dòng)正面和背面 TXRF 測量互動式宣講，并進(jìn)行非接觸式晶圓翻轉(zhuǎn)效高性。

• 接受 300 mm、200 mm 和 150 mm 晶圓

• 多種分析元素（Na~U）

• 輕元素靈敏度（針對鈉適應性、鎂和鋁）

• 單靶3光束法和XYθ載物臺(tái)是理學(xué)的節點，可在整個(gè)晶圓表面進(jìn)行高精度的超痕量分析

• 集成的全自動(dòng) VPD 制備，可實(shí)現(xiàn)靈敏度

• 1E7 原子/cm2 檢測限

• 從缺陷檢測工具導(dǎo)入測量坐標(biāo)以進(jìn)行后續(xù)分析

• 多任務(wù)處理：同時(shí)進(jìn)行 VPD 和 TXRF 操作落地生根，實(shí)現(xiàn)吞吐量