Nisene化學(xué)芯片開(kāi)封機(jī)JetEtch Pro

行業(yè)的化學(xué)芯片開(kāi)封系統(tǒng)----JetEtch Pro

美國(guó) Nisene Technology Group 生產(chǎn)的 JetEtch 自動(dòng)開(kāi)封機(jī)，可采用雙酸刻蝕最新，并利用負(fù)壓噴霧技術(shù)進(jìn)行刻蝕長效機製。根據(jù)不 同的器件封裝材料和尺寸自然條件，可設(shè)定不同的試驗(yàn)條件新的動力，進(jìn)行定位刻蝕的過程中。主要可設(shè)置的試驗(yàn)參數(shù)包括：采用刻蝕酸的種 類、刻蝕酸的比例廣泛關註、蝕刻溫度促進進步、蝕刻時(shí)間、酸的流量(酸的用量)鍛造、清洗的時(shí)間等競爭激烈。同時(shí)采取漩渦噴酸的方式，可大 大降低用酸量改善，從而能夠比較精確地去除掉芯片表面的封裝材料，達(dá)到較好的開(kāi)封效果協調機製。根據(jù)器件的不同封裝形式重要的角色， 可選取不同封裝開(kāi)口模具，可控制開(kāi)口的位置和大小向好態勢，目前配有的開(kāi)口模具有多種平臺建設，基本滿足目前的封裝需要，如 適用 DIP／SIP貢獻力量，PLCC使用，OFP，PBGA發行速度，芯片倒裝 BGA 和 S0 小外型封裝更加堅強。

世界領(lǐng)前的專注從事失效分析自動(dòng)開(kāi)封、IC 芯片去層性能、塑封蝕刻技術(shù)研究和設(shè)備制造的美國(guó)公司初步建立，有著 28 年的自動(dòng)開(kāi)封和蝕刻研發(fā)制造歷史， Nisene 科技公司很榮幸的介紹我們的新一代革命性酸液自動(dòng)化開(kāi)封 機(jī) (Decapsulator)供給。我們命名為 JetEtch pro的方法，正如其名，一個(gè)符合當(dāng)今 IC 封裝之開(kāi)封機(jī)設(shè)計(jì)要求進行探討，新型 Jetetch 第二代 開(kāi)封機(jī)秉持著我們對(duì)半導(dǎo)體去除處理的一貫的承諾證明了 Nisene 科技公司為符合現(xiàn)在直至來(lái)失效分析專業(yè)需求而 提供創(chuàng)新落到實處，高質(zhì)量設(shè)備產(chǎn)品的傳統(tǒng)服務水平； 今日 JetEtch pro 硬件，操作系統(tǒng)和軟件*重新設(shè)計(jì)并保留了以前熟悉的技術創新、精 密的設(shè)計(jì)以呈現(xiàn)比以往更靈活設(shè)計(jì)的開(kāi)封機(jī)應用擴展。 JetEtch pro 操作簡(jiǎn)易、直覺(jué)的軟件透過(guò)簡(jiǎn)單編程的順序逐步引導(dǎo)操作 員增多。一但設(shè)定完成活動上，只以二個(gè)擊鍵便使軟件能完成一整個(gè)蝕刻程序。進一步推進？

JetEtch Pro自動(dòng)解封裝置作用和特點(diǎn)：
基于以下原因，我們需要將IC塑封材料進(jìn)行去除：

1. 檢查IC元件為何失效現場； 
2. 執(zhí)行質(zhì)量控制檢測(cè)和測(cè)試我有所應； 
3. 為了研發(fā)的要求對(duì)芯片的設(shè)計(jì)進(jìn)行修訂至關重要。

初出現(xiàn)的是手動(dòng)開(kāi)封顯示，為了檢查芯片的一些缺陷而手動(dòng)去除芯片外面包裹的塑封材料流程。但是手動(dòng)開(kāi)封存在著安全性不夠高，重復(fù)性較差勃勃生機，精度控制非常低助力各業，開(kāi)封速度不夠快等問(wèn)題。為此在這個(gè)基礎(chǔ)上

NISENE

研制出自動(dòng)開(kāi)封機(jī)

JetEtch Pro

特點，以解決手動(dòng)開(kāi)封存在的問(wèn)題積極回應。

JetEtch Pro

系統(tǒng)通過(guò)用酸腐蝕芯片表面覆蓋的塑料能夠暴露出任何一種塑料

IC

封裝內(nèi)的芯片。去處塑料的過(guò)程又快又安全生產效率，并且產(chǎn)生干凈無(wú)腐蝕的芯片表面使命責任。整個(gè)腐蝕過(guò)程是在一定壓力下的惰性氣體中完成的，不但能降低金屬氧化而且降低了產(chǎn)生的廢氣使用。這套系統(tǒng)被設(shè)計(jì)成在極少培訓(xùn)的條件下安全并易于使用合規意識。 

Nisene化學(xué)芯片開(kāi)封機(jī)JetEtch Pro一些特性和優(yōu)點(diǎn)表現(xiàn)如下：   
1. 銅線開(kāi)封技術(shù)振奮起來，專項(xiàng)的離子保護(hù)銅線技術(shù)
2. 一條高亮度六線字母數(shù)字的顯示在所有情況排煙柜的照明下保證的可見(jiàn)性系列；
3. JetEtch pro CuProtect 為不同的構(gòu)裝類型可充分地編輯程序和存放 100 組蝕刻程序勃勃生機。JetEtch pro CuProtect 在產(chǎn)業(yè)呈 現(xiàn)的準(zhǔn)確性和功能性*；
4. 溫度選擇和自動(dòng)精確溫度檢測(cè)；升降溫時(shí)間快近年來，硝酸與硫酸的切換使用只需很小的時(shí)間講道理；
5. JetEtch pro CuProtect 酸混合選擇：JetEtch pro CuProtect 軟件可以使用硝酸、硫酸或混合酸先進水平，另含 13 組混酸比率便利性；
6.具有專項(xiàng)技術(shù)的泵浦可以達(dá)到精準(zhǔn)酸的配比和快的腐蝕效率
7. 蝕刻劑混合選擇確保準(zhǔn)確性及重復(fù)率真諦所在，1ml~6ml/sec 的酸量選擇能提供更好的腐蝕效果指導；
8. 專項(xiàng) JetEtch pro CuProtect 電氣泵和蝕刻頭配件組；電氣泵和蝕刻頭配件組；
9. 蝕刻劑流向選擇：渦流蝕刻和脈沖蝕刻，JetEtch pro CuProtect 廢酸分流閥；
10. 不會(huì)有機(jī)械損傷或影響焊線方法；不會(huì)有腐蝕性損傷或影響外部引腳行動力；可以選擇硝酸、冷硫酸進(jìn)行沖洗或不沖洗發揮作用；
11. 無(wú)需等待製度保障，*腐蝕一顆樣品多只要 1~2 分鐘預下達；
12. 通常使用的治具會(huì)與設(shè)備一同提供開展研究；通常情況不需要樣品制備；
13. 酸和廢酸存儲(chǔ)在標(biāo)準(zhǔn)化的酸瓶中發展；
14. 設(shè)備小巧市場開拓，只需很小的空間擺放措施；安全蓋凈化：安全、簡(jiǎn)單要落實好、牢靠緊密相關。

例子：

詳細(xì)參數(shù)：
尺寸

主機(jī)

(mm/

英寸) 290 高 x 290 寬 x 419 深 / 11.5 高 x 11.5 寬 x 16.5 深

瓶柜

(mm/

英寸) 230 高 x 110 寬 x 110 深 / 9 高 x 4.25 寬 x 4.25 深

重量 (KG/磅)

17 / 38 (包含瓶柜和附件)

電源

350 W @ 95 - 130 VAC or 350 W @ 210 - 250 VAC

壓縮空氣/氮?dú)庖?/trans>

壓縮空氣 4.2 kg/cm2 / 60 –100 psi

氮?dú)夤?yīng) 2.8公升/分鐘 / 0.1 立方英尺/分鐘

可用的蝕刻液

蝕刻液流量:脈沖模式1宣講手段、2重要工具、5或1-10mL/min;

渦流模式

1-6mL/min

煙硝酸

煙硫酸

硫酸（濃縮試劑）

硝酸：硫酸混合比例：6:1, 5:1, 4:1, 3:1

硫酸：硝酸混合比例 6:1, 5:1, 4:1, 3:1

溫度范圍

硝酸  20 – 90(°C)

硫酸  20 – 250(°C)

混合酸 20 – 100(°C)

蝕刻

時(shí)間和方式

(用戶可選)

1–1800秒可調(diào)對外開放，1秒的增量

脈沖蝕刻模式, 渦流蝕刻模式

程序容量: 100,用戶自定義

升溫時(shí)間

(用戶可選)

0 – 120 秒可調(diào)哪些領域，1秒的增量

清洗

硫酸行業內卷、硝酸追求卓越，無(wú)須清洗

儲(chǔ)液器

500mL或1升瓶

33/38/40/45mm

蓋的尺寸

4個(gè)瓶子: 2個(gè)裝酸, 2個(gè)裝廢液

證書(shū)

CE

證書(shū)

, SEMI S-2-93, SEMI S-2-200

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