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納米粒徑與電位分析儀用于各種復(fù)雜樣品的檢測(cè)分析
Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀是專(zhuān)門(mén)用于測(cè)量納米級(jí)顆粒以及膠體樣品體系的先進(jìn)粒度分析儀器，其測(cè)量范圍為 0.3 nm - 10 μm線上線下。Nicomp 380 已經(jīng)成為眾多研究人員和*科學(xué)家的發揮重要作用。儀器所擁有*的基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償能力和高分辨率多模式算法，多年來(lái)不同領(lǐng)域的使用證明了它可以區(qū)分開(kāi)單峰樣本體系和無(wú)約束復(fù)雜多峰樣本體系數據顯示，是研發(fā)的z佳選擇高質量！Nicomp 380系列儀器是*在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的先進(jìn)粒度儀∮浀美?？纱钶d自動(dòng)進(jìn)樣系統(tǒng)註入了新的力量、自動(dòng)稀釋系統(tǒng)、多角度探測(cè)及高濃度背光散射和在線監(jiān)測(cè)等模塊更多可能性，隨著模塊的升級(jí)和增加去創新， Nicomp 380 可以更快更準(zhǔn)確的用于各種復(fù)雜樣品的檢測(cè)分析。
該儀器結(jié)合了動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)(DLS)和電泳光散射法(ELS)緊迫性，實(shí)現(xiàn)了同機(jī)測(cè)試亞微米粒子分布和ZETA電勢(shì)電位結構。ELS 是將電泳和光散射結(jié)合起來(lái)的一種新型光散射，它的光散射理論基礎(chǔ)是準(zhǔn)彈性碰撞理論高效，在實(shí)驗(yàn)時(shí)通過(guò)在樣品槽中外加一個(gè)外電場(chǎng)溝通協調，帶電粒子即會(huì)以固定速度向與帶電粒子電性相反的電極方向移動(dòng)，與之相應(yīng)的動(dòng)態(tài)光散射光譜產(chǎn)生多普勒漂移體系，這一漂移正比于帶電粒子的移動(dòng)速度高效節能，因此由實(shí)驗(yàn)測(cè)得的譜線的漂移，就可以求得帶電粒子的電泳速度大局，從而得到ζ-電位值新創新即將到來。通過(guò)測(cè)試顆粒之間排斥力 ，判斷體系穩(wěn)定性的測(cè)量手段之一有序推進。并且配備靶電極設施，經(jīng)久耐用。
Nicomp 380 系列納米粒徑與電位分析儀可廣泛應(yīng)用于醫(yī)藥領(lǐng)域：乳劑堅定不移，注射劑規模設備，脂質(zhì)體，膠體指導，混懸劑競爭力，滴眼液充分，高分子，病毒集聚，疫苗等競爭力；半導(dǎo)體領(lǐng)域： CMP Slurry，芯片狀況，晶圓加工等機製性梗阻；特殊化工品：墨水&噴墨，納米材料全過程，化工染料集成應用，潤(rùn)滑劑，清洗劑等不負眾望。
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2025第十屆華南空氣壓縮機(jī)展覽會(huì)
展會(huì)城市：佛山市展會(huì)時(shí)間：2025-05-21