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【儀器網(wǎng) 解決方案】雖然X熒光光譜的互相干擾情況比較少不同需求，而且大多數(shù)情況下對(duì)分析結(jié)果的影響不大，但是在某些情況如稀土化合物中稀土元素的測(cè)定保持穩定，仍然需要克服干擾譜線總之。因此，操作人員也需要掌握一些消除干擾譜線的方法支撐作用。
激發(fā)源
對(duì)于X射線管說(shuō)來(lái)研學體驗，可以根據(jù)可能產(chǎn)生譜線干擾的來(lái)源，更換適當(dāng)靶材的x射線管最為突出，選擇足以抑制干擾譜線出現(xiàn)的管壓落實落細，將樣品屏蔽到較小的區(qū)域以減少?gòu)?qiáng)大的原級(jí)標(biāo)識(shí)光譜的散射等。
若還不能有效地克服來(lái)自激發(fā)源的干擾時(shí)高效化，有時(shí)也可以采用濾光片以消除干擾線製高點項目，或者以原級(jí)束照射能夠產(chǎn)生波長(zhǎng)略短于分析元素吸收限的次級(jí)靶，然后以次級(jí)靶作為試樣的激發(fā)源範圍和領域。
分析晶體與光路
對(duì)一定結(jié)構(gòu)的x射線分光計(jì)說(shuō)來(lái)有所增加，可以通過(guò)選擇適當(dāng)?shù)姆治鼍w，以消除存在于樣品中干擾元素的偶數(shù)級(jí)反射線對(duì)分析線(或參比線)干擾新趨勢。此外選擇分辨率高的分析晶體和準(zhǔn)直器反應能力，有時(shí)也可以消除或減輕某些譜線的干擾。
其它的學習，在光路中可變 的部件就是標(biāo)本座結構重塑、樣品的薄膜底座和x射線束衰減 (減光板)等。有時(shí)應用優勢，還有可能用到濾光片大大縮短，對(duì)于這些可變的部件，可以根據(jù)實(shí)際情況作出選擇緊密相關，以便將譜線干擾限制在低限度更默契了。
探測(cè)和測(cè)量系統(tǒng)
盡可能選擇有利工作條件，以減少或消除上述激發(fā)源和光學(xué)系統(tǒng)無(wú)法消除的干擾譜線培訓。
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