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      高靈敏度光譜儀光柵作為重要的分光器件，它的選擇與性能直接影響整個(gè)系統(tǒng)性能逐漸完善。

　　光柵分為刻劃光柵參與能力、復(fù)制光柵、全息光柵等異常狀況⊙芯?？虅澒鈻攀怯勉@石刻刀在涂薄金屬表面機(jī)械刻劃而成；復(fù)制光柵是用母光柵復(fù)制而成鍛造。典型刻劃光柵和復(fù)制光柵的刻槽是三角形競爭激烈。全息光柵是由激光干涉條紋光刻而成。全息光柵通常包括正弦刻槽改善】瞻讌^？虅澒鈻啪哂醒苌湫矢叩奶攸c(diǎn)，全息光柵光譜范圍廣信息化，雜散光低形勢，且可作到高光譜分辨率。

　　◆如何選擇高靈敏度光譜儀光柵

　　選擇光柵主要考慮如下因素：

　　1、光柵刻線約定管轄，光柵刻線多少直接關(guān)系到光譜分辨率數據，刻線多光譜分辨率高，刻線少光譜覆蓋范圍寬發揮，兩者要根據(jù)實(shí)驗(yàn)靈活選擇顯著；

　　2、閃耀波長(zhǎng)開放以來，閃耀波長(zhǎng)為光柵zui大衍射效率點(diǎn)占，因此選擇光柵時(shí)應(yīng)盡量選擇閃耀波長(zhǎng)在實(shí)驗(yàn)需要波長(zhǎng)附近。如實(shí)驗(yàn)為可見(jiàn)光范圍提供了有力支撐，可選擇閃耀波長(zhǎng)為500nm激發創作；

　　3、使用范圍進一步意見，

　　3增幅最大、光柵效率，光柵效率是衍射到給定級(jí)次的單色光與入射單色光的比值的必然要求。光柵效率愈高研究成果，信號(hào)損失愈小。為提高此效率完善好，除提高光柵制作工藝外大面積，還采用特殊鍍膜，提高反射效率問題分析。

　　◆高靈敏度光譜儀光柵方程

　　反射式衍射光柵是在襯底上周期地刻劃很多微細(xì)的刻槽培養，一系列平行刻槽的間隔與波長(zhǎng)相當(dāng)，光柵表面涂上一層高反射率金屬膜更加完善。光柵溝槽表面反射的輻射相互作用產(chǎn)生衍射和干涉方案。對(duì)某波長(zhǎng)，在大多數(shù)方向消失十大行動，只在一定的有限方向出現(xiàn)左右，這些方向確定了衍射級(jí)次。光柵刻槽垂直輻射入射平面綜合措施，輻射與光柵法線入射角為α可靠保障，衍射角為β，衍射級(jí)次為m設計標準，d為刻槽間距開展，在下述條件下得到干涉的極大值：Mλ=d(sinα+sinβ)

　　定義φ為入射光線與衍射光線夾角的一半，即φ=(α-β)/2發揮重要帶動作用；θ為相對(duì)于零級(jí)光譜位置的光柵角意向，即θ=(α+β)/2,得到更方便的光柵方程：

　　mλ=2dcosφsinθ

　　從該光柵方程可看出：

　　對(duì)一給定方向β意料之外，可以有幾個(gè)波長(zhǎng)與級(jí)次m相對(duì)應(yīng)λ滿足光柵方程。比如600nm的一級(jí)輻射和300nm的二級(jí)輻射形式、200nm的三級(jí)輻射有相同的衍射角置之不顧，這就是為什么要加消二級(jí)光譜濾光片輪的意義。

　　衍射級(jí)次m可正可負(fù)數字化。

　　對(duì)相同級(jí)次的多波長(zhǎng)在不同的β分布開(kāi)空間廣闊。

　　含多波長(zhǎng)的輻射方向固定，旋轉(zhuǎn)光柵改革創新，改變α，則在α+β不變的方向得到不同的波長(zhǎng)取得顯著成效。