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一空白區、化學(xué)吸附儀使用流程

1、在化學(xué)吸附儀反應(yīng)器內(nèi)裝入樣品

2信息化、打開(kāi)化學(xué)吸附儀主機(jī)電源開放要求，打開(kāi)操作軟件

3、在閥2接入氧氣平臺建設，打開(kāi)閥2服務機製，閥7打向閥2，閥8打向放空使用，處理氣流量計(jì)調(diào)至40-60mL/min,進(jìn)行樣品升溫氧化大幅拓展，氧化溫度及時(shí)間視具體樣品而定

4、在閥1接入氬氣更加堅強，閥7打向閥1與時俱進，設(shè)定1、2號(hào)質(zhì)量流量計(jì)流速為30mL/min初步建立，放下加熱爐綜合運用，降溫吹掃至加熱爐降至室溫

5、將閥1切至氫氬混合氣室溫吹掃5-10min的方法，閥8打向TCD

6實事求是、打開(kāi)TCD，基線平穩(wěn)后升起加熱爐持續，開(kāi)始程序升溫

7等多個領域、峰圖出完基線平穩(wěn)后，關(guān)閉TCD產品和服務，關(guān)閉溫控器應用擴展，降下加熱爐，保存數(shù)據(jù)

8增多、將閥1切至氬氣吹掃5-10min

9活動上、關(guān)閉氣體，關(guān)閉化學(xué)吸附儀主機(jī)電源進一步推進，關(guān)閉操作軟件

二導向作用、化學(xué)吸附儀注意事項(xiàng)

1、先通載氣再打開(kāi)TCD應用的選擇，結(jié)束后先關(guān)閉TCD再處理其他操作（以防燒壞TCD）

2十大行動、化學(xué)吸附儀主機(jī)和軟件不具備記憶功能左右，重新啟動(dòng)時(shí)必須重新設(shè)置閥門開(kāi)關(guān)和軟件內(nèi)1、2號(hào)質(zhì)量流量計(jì)流量

3綜合措施、連續(xù)通入氫氣和氧氣處理樣品時(shí)可靠保障，中間必須通入惰性氣體吹掃。