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電解精煉鋅和空氣清洗瀝出液的pH值測(cè)量防止（電極）結(jié)垢
大部分1#鋅都是電解精煉得到，這不僅可得到高純度鋅有效性，還可以回收原料中的貴重金屬創新內容。在濕法精煉中，首先煅燒鋅精礦原料廣泛關註，然后在硫酸中溶解以除去雜質(zhì)善於監督。該過程叫過濾，瀝出液的pH值控制很重要就能壓製。瀝出液中含有石膏和雜質(zhì)更合理，能使電極結(jié)垢。這會(huì)影響pH值的穩(wěn)定測(cè)量更優美，因此需要至少每周定期清洗一次各方面。超聲波自清洗系統(tǒng)的pH計(jì)能連續(xù)自動(dòng)清洗，因此可降低維護(hù)頻率，設(shè)置為每個(gè)月或每?jī)蓚€(gè)月自動(dòng)清洗一次適應性。
流程概述
在焙燒爐中煅燒精礦堅實基礎，然后在溶解槽的稀硫酸（消耗電解液）溶液中溶解。
ZnO+H2SO4->ZnSO4+H2O
此外重要作用，煅燒產(chǎn)物中的鐵和所含其他成分也會(huì)溶解等地。因此，加入錳切實把製度、石灰或其他添加劑可以使這些雜質(zhì)沉淀并除去保供。
FeO+添加劑->Fe2O3（沉淀）
pH值控制對(duì)鋅*溶解和雜質(zhì)充分沉淀至關(guān)重要。瀝出液由壓濾機(jī)過濾進行部署，以除去雜質(zhì)責任，并將濾出液送入電解槽，在這里電解產(chǎn)生鋅保護好。
ZnO+H2SO4->ZnSO4+H2O
此外重要作用，煅燒產(chǎn)物中的鐵和所含其他成分也會(huì)溶解等地。因此，加入錳切實把製度、石灰或其他添加劑可以使這些雜質(zhì)沉淀并除去保供。
FeO+添加劑->Fe2O3（沉淀）
pH值控制對(duì)鋅*溶解和雜質(zhì)充分沉淀至關(guān)重要。瀝出液由壓濾機(jī)過濾進行部署，以除去雜質(zhì)責任，并將濾出液送入電解槽，在這里電解產(chǎn)生鋅保護好。
預(yù)期效益
- 保證穩(wěn)定連續(xù)測(cè)量pH值
- 降低運(yùn)行成本
- 免除手工清潔的工作
解決方案
| 測(cè)量系統(tǒng) | ||
| 四線pH測(cè)量系統(tǒng)（超聲波自清洗系統(tǒng)） | ||
| 傳感器 | ||
| KCl可填充型 pH傳感器（特氟隆材質(zhì)接頭） | ||
| PH8EFP-??-TN-TT1-N-T*A/TF | ||
| 支架 | ||
| 帶沉入式支架的超聲波自清洗系統(tǒng) | ||
| PH8HS-PP-??-T-JT-JP*A/MS3 | ||
| 端子箱（需要時(shí)） | ||
| PH8TBG*A | ||
| 四線pH轉(zhuǎn)換器 | ||
| PH400G-?-EA*B | ||
公共條件
| PH400G 四線制pH轉(zhuǎn)換器 | ||
| 電源: | 88～132/176～264 V AC, 50/60 Hz | |
| 功耗: | 約為8.5 VA | |
| 沉入式超聲波自清洗式支架 | ||
| 噴射清洗用空氣 | ||
| 氣壓: | 200～400 kPa | |
| 耗氣量: | 100～300 Nl/min | |
| 注意事項(xiàng) | ||
| - | 連續(xù)超聲波清洗 | |
| 由于瀝出液是強(qiáng)酸性溶液組建，其pH測(cè)量值不受空氣超聲波清洗影響。因此可同時(shí)進(jìn)行測(cè)量和清洗系列。 | ||
| - | 其他應(yīng)用 | |
| 自清洗系統(tǒng)可用于其他冶煉工藝作用，如銅、錳慢體驗、鎘等著力增加。 | ||
現(xiàn)場(chǎng)數(shù)據(jù)
工藝條件
在安裝超聲波自清洗系統(tǒng)之前，每周至少需要完成一次手工清洗科技實力。連續(xù)式超聲波自清洗系統(tǒng)使用沉入式支架處理，使維護(hù)頻次降低到每一個(gè)/兩個(gè)月一次。
為確保穩(wěn)定測(cè)量在此基礎上，pH傳感器使用特氟隆液接部件助力各行，KCl流出量高于陶瓷液接部件。
| 測(cè)量點(diǎn): | 溶解槽中的瀝出液 | |
| 溫度: | 80℃ | |
| pH值: | pH 1.5 ± 0.2 | |
| 鋅: | 約160 g/l | |
| 硫酸: | 2～3 g/l | |
| 石灰: | 飽和溶液 |
在安裝超聲波自清洗系統(tǒng)之前，每周至少需要完成一次手工清洗科技實力。連續(xù)式超聲波自清洗系統(tǒng)使用沉入式支架處理，使維護(hù)頻次降低到每一個(gè)/兩個(gè)月一次。
為確保穩(wěn)定測(cè)量在此基礎上，pH傳感器使用特氟隆液接部件助力各行，KCl流出量高于陶瓷液接部件。
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展會(huì)城市：佛山市展會(huì)時(shí)間：2025-05-21