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聚四氟乙烯酸洗一體成型槽PTFE無焊接水槽耐腐蝕酸洗槽高溫 四氟槽

ptfe內(nèi)外一體槽子主要用途特點，用于濕法研磨設(shè)備，HF 和HNO3的混合（定量混合）結論，反應(yīng)液內(nèi)部循環(huán)和諧共生，及產(chǎn)品(Wafer)的蝕刻.其中，圓形槽體適應性強，用于HF化學(xué)品和水的混合配比技術交流，、HNO3和水的混合配比拓展，并可以根據(jù)其配置的液位傳感器創造更多，進行化學(xué)品混合配比聚四氟乙烯（PTFE）酸槽憑借其優(yōu)異的化學(xué)穩(wěn)定性、耐高溫性和高純度特性不斷進步，在半導(dǎo)體行業(yè)中扮演著至關(guān)重要的角色工藝技術，主要用于以下幾個方面：

1. 濕法清洗工藝:

晶圓清洗: 在半導(dǎo)體制造過程中，晶圓需要經(jīng)過多次清洗以去除表面的污染物規模、顆粒和金屬雜質(zhì)近年來。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝各種清洗液，如硫酸發展目標奮鬥、氫氟酸技術先進、氨水等，對晶圓進行高效清洗延伸。

設(shè)備零部件清洗: 半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備中的零部件也需要定期清洗以去除沉積的雜質(zhì)和殘留物情況正常。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝清洗液，對零部件進行浸泡或循環(huán)清洗技術特點。

2. 濕法刻蝕工藝:

晶圓刻蝕: 在半導(dǎo)體制造過程中，需要利用化學(xué)溶液對晶圓表面進行選擇性刻蝕發展邏輯，以形成所需的電路圖案凝聚力量。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝刻蝕液，如氫氟酸聽得進、硝酸範圍和領域、磷酸等有所增加，對晶圓進行精確刻蝕。

材料刻蝕: 一些半導(dǎo)體材料更高要求，如硅越來越重要的位置、二氧化硅等，也需要通過濕法刻蝕工藝進行加工共同學習。聚四氟乙烯酸槽可用于盛裝相應(yīng)的刻蝕液順滑地配合，對材料進行刻蝕。

3. 化學(xué)機械拋光 (CMP):

拋光液盛放: CMP 是半導(dǎo)體制造中用于平坦化晶圓表面的關(guān)鍵工藝效高。聚四氟乙烯酸槽可用于盛放 CMP 拋光液前沿技術，為拋光過程提供穩(wěn)定的化學(xué)環(huán)境。

聚四氟乙烯方槽性能，圓桶主要用于半導(dǎo)體新材料行業(yè)存儲酸堿溶劑多種方式，具有耐腐蝕性，本底值低的特性技術創新，可用作清洗溶劑深入交流研討，我公司生產(chǎn)提供各種尺寸的四氟方槽，圓桶廣泛應用，一體成型關註度，耐用無泄漏風險，可根據(jù)客戶要求增加接頭組合運用，放料閥等配件更讓我明白了，尺寸可定制，配套大型設(shè)備積極。

四氟桶規(guī)格：1L-50L探索，支持加工定制

貨號;RNKW-PTFEYT

四氟方槽常用尺寸：

300*200*50mm

300*200*100mm

300*200*150mm

300*200*200mm

400*300*50mm

400*300*100mm

400*300*200mm

400*300*300mm

貨號：RNKW-PTFEFC

產(chǎn)品特性

1.外觀純白色。

2.耐高低溫性：可使用溫度-200℃～＋250℃產業。

3.耐腐蝕：耐強酸滿意度、強堿、王水和各種有機溶劑可持續，且無溶出主要抓手、吸附和析出現(xiàn)象。

4.防污染：金屬元素空白值低構建。

南京瑞尼克科技開發(fā)有限公司

研發(fā)生產(chǎn)PFA系列創新科技，F(xiàn)EP系列，PTFE系列耗材

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聚四氟乙烯系列試劑瓶還不大、消解瓶、燒杯簡單化、坩堝力度、容量瓶、燒瓶等器皿

各種規(guī)格定制燒瓶系統性、鑷子勇探新路、鏟子、藥匙傳遞、消解管試驗、接頭、閥門