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磁控離子濺射儀

產(chǎn)品介紹：

離子濺射儀或是噴金儀是一種利用真空鍍膜技術(shù)開發(fā)研制成高科技產(chǎn)品，作為掃描電鏡所需要的一款制樣儀器引領作用，可以配合掃描電子顯微鏡很方便的觀測試樣的微觀形貌加強宣傳，從而提高試樣的導(dǎo)電性和導(dǎo)熱性。該儀器為全閉環(huán)真空設(shè)計配有全量程皮拉尼真空計等多個傳感器實(shí)時監(jiān)控運(yùn)行狀態(tài)用的舒心，保證儀器安全穩(wěn)定運(yùn)行技術發展。自動磁控離子濺射儀采用高性能旋真空泵快速獲得<1Pa的真空環(huán)境，高精度的濺射電源采用恒流控制來保證高精細(xì)的膜層質(zhì)量集成。同時平面磁控測射陰極減少等離子體對試樣表面的轟擊和熱效應(yīng)重要手段，高性能的平面磁控濺射陰極可實(shí)現(xiàn)多種靶材的選擇 (Au、Pt穩定性、Ag像一棵樹、Pd等)，高精度的納米涂層為納米級別去突破，可滿足現(xiàn)代分析實(shí)驗(yàn)要求能運用。可用于制備高質(zhì)量的金屬薄膜智能設備、半導(dǎo)體薄膜不可缺少、介電蓬勃發展、絕緣材料薄膜以及復(fù)合薄膜、多層異質(zhì)結(jié)等積極回應。

應(yīng)用領(lǐng)域：

光學(xué)領(lǐng)域：中頻閉場非平衡磁控濺射技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)薄膜（如減反射膜）發展邏輯、低輻射玻璃和透明導(dǎo)電玻璃；

微電子領(lǐng)域：用于沉積具有吸收也逐步提升、透射記得牢、反射、折射重要的作用、偏振等功能的薄膜更多可能性，如低溫下沉積氮化硅增透膜以提高太陽能電池的光電轉(zhuǎn)換效率。

高溫超導(dǎo)薄膜足夠的實力、鐵電薄膜緊迫性、巨磁阻薄膜等領(lǐng)域：磁控濺射技術(shù)在這些領(lǐng)域的研究中發(fā)揮著重要作用；