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TC-Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng)

在半導(dǎo)體工業(yè)中，晶圓制造是一個(gè)極其復(fù)雜的過(guò)程增產，其中需要控制多個(gè)參數(shù)以確保芯片的質(zhì)量和性能便利性。溫度是其中一個(gè)*為重要的參數(shù)之一。不恰當(dāng)?shù)臏囟裙芾砜赡軐?dǎo)致晶圓上產(chǎn)生缺陷或不良區(qū)域行動力，從而影響半導(dǎo)體器件的性能提供有力支撐。

TC-Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)的原理

TC Wafer熱電偶是一種熱電偶傳感器，其原理基于熱電效應(yīng)保供。在晶圓上的不同位置放置TC Wafer熱電偶自行開發，這些傳感器可以測(cè)量每個(gè)位置的溫度變化。當(dāng)晶圓受熱時(shí)責任，TC Wafer熱電偶中的兩種不同金屬材料之間產(chǎn)生溫差應用情況，從而生成微小的電壓信號(hào)，該信號(hào)與溫度成正比應用前景。這使得TC Wafer熱電偶能夠以非常精確的方式測(cè)量晶圓上不同位置的溫度有很大提升空間。

TC-Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng)在半導(dǎo)體制造中有廣泛的應(yīng)用。例如首次，在晶圓制備過(guò)程中可能性更大，通過(guò)實(shí)時(shí)測(cè)量晶圓的溫度，可以調(diào)整加熱功率和時(shí)間搖籃，確保晶圓內(nèi)部達(dá)到理想的溫度分布技術，從而提高生產(chǎn)效率和產(chǎn)品質(zhì)量。在熱處理工藝中推動，TC-Wafter晶圓測(cè)溫系統(tǒng)可以幫助精確控制溫度相對較高，避免過(guò)熱或過(guò)冷對(duì)晶圓質(zhì)量造成的影響。此外信息，TC-Wafter晶圓測(cè)溫系統(tǒng)還可以用于故障診斷相關，通過(guò)對(duì)異常溫度分布的分析大力發展，定位和解決制造過(guò)程中的問(wèn)題。

產(chǎn)品特點(diǎn)

半導(dǎo)體制造廠 Fab綠色化，PVD/CVD 部門不同需求、RTP 部門等使用

傳感器可以定制

高精度多通道數(shù)據(jù)采集儀

優(yōu)異的軟件功能，方便數(shù)據(jù)統(tǒng)計(jì)保持穩定、趨勢(shì)繪圖和數(shù)據(jù)導(dǎo)出

TC-Wafer晶圓測(cè)溫系統(tǒng) 熱電偶晶圓測(cè)溫系統(tǒng)