使用切片方式制備像紙張一站式服務、纖維等軟材料截面樣品，容易使樣品變形錯(cuò)位深入交流；機(jī)械拋光處理的樣品表面經(jīng)常也會(huì)留下劃痕引領作用、污染和表面應(yīng)力，對(duì)樣品的形貌觀(guān)察和結(jié)構(gòu)分析帶來(lái)不利影響雙向互動。日立新推出的IM4000離子研磨儀既可以對(duì)樣品進(jìn)行氬離子截面切割效率和安，可以進(jìn)行氬離子平面研磨，是截面樣品制備和平面樣品無(wú)應(yīng)力拋光的理想工具品牌。
日立高新離子研磨裝置IM4000具有斷面加工和平面研磨功能的混合儀器深入開展！
日立高新離子研磨裝置IM4000的混合模式帶有兩種研磨配置：
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑，便于表面以下結(jié)構(gòu)高分辨成像等形式。
平面研磨：將樣品表面均勻研磨5平方毫米技術的開發，從不同角度有選擇地研磨，以便突出樣品的表面特性飛躍。
日立高新離子研磨裝置IM4000的高通量能提高加工效率：
與之前的E-3500型相比更高效，采用新型離子槍設(shè)計(jì)，減少了橫截面研磨時(shí)間重要部署。（zui大加工率：硅元素為300微米/小時(shí) — 加工時(shí)間減少了66%具體而言。
日立高新離子研磨裝置IM4000的可拆卸樣品臺(tái)裝置：為便于樣品設(shè)置和定義研磨邊緣，可將樣品臺(tái)裝置拆卸智慧與合力。
日立高新離子研磨裝置特點(diǎn)
混合模式：兩種研磨配置
斷面加工：將樣品斷面研磨光滑喜愛，便于表面高分辨觀(guān)察
平面研磨：不同角度有選擇地，大面積數據顯示，均勻地研磨5 mm的平面高質量，以突顯樣品的表面特性
高效：提高加工效率
與之前的E-3500型相比，采用新型離子槍設(shè)計(jì)記得牢，減少了橫截面研磨時(shí)間
(zui大加工速度：硅材質(zhì)為300 μm/h - 加工時(shí)間減少了66%)
可拆卸式樣品臺(tái)：
為便于樣品設(shè)置和邊緣研磨註入了新的力量，樣品臺(tái)設(shè)計(jì)為可拆卸型
| 項(xiàng)目 | 內(nèi)容 |
| 平面研磨 | 截面研磨 |
| 使用氣體 | 氬氣 |
| 加速電壓 | 0 ～ 6 kV |
| zui大加工速率（材料Si） | 約20 m/h＊1 約2 m/h＊2 | 約300 m/h＊3 |
| zui大樣品尺寸 | φ50×25（H）mm | 20（W）×12（D）×7（H）mm |
| 樣品移動(dòng)范圍 | X : 0 ～ +5 mm | X :±7 mm、Y : 0 ～ +3 mm |
| 旋轉(zhuǎn)速度 | 1 r/min更多可能性、 25 r/min | - |
| 擺動(dòng)角度 | ±60°去創新、±90° | ±15°足夠的實力、±30°、±40° |
| 傾斜角度 | 0～90° | - |
| 氬氣（Ar）流量控制方式 | 質(zhì)量流量計(jì)（Mass Flow Controller） |
| 真空系統(tǒng) | 渦輪分子泵（33 L/s）＋機(jī)械泵（135 L/min(50 Hz）又進了一步、162 L/min（60 Hz）） |
| 裝置尺寸 | 616（W）×705（D）×312（H）mm |
| 重量 | 主機(jī)48 kg＋機(jī)械泵28 kg |
| | 選配 |
| 加工觀(guān)測(cè)用顯微鏡 | 倍率 ：15× ～ 100× 雙目型多種場景、三目型（可加裝CCD） |
| 真空轉(zhuǎn)移盒單元 | 旋蓋式（O形圈密封）密閉樣品多元化服務體系，樣品倉(cāng)內(nèi)打開(kāi)旋蓋 |
| 冷卻系統(tǒng)＊4 | 使用液氮間接冷卻樣品 規劃；冷卻Mask溫度 ：-30℃以下＊5 ；配有恢復(fù)到室溫的控制器 |
＊1 ：照射角 0° 偏心量 0 mm∩疃?。? ：照射角 60° 偏心量 4 mm 訑U大。? ：Si片突出遮擋板（Mask）邊緣100 m加工時(shí)的zui大深度 ＊4 ：不能后裝開拓創新，需出廠(chǎng)時(shí)配置 〕掷m發展。? ：加入液氮30分鐘后遮擋板（Mask）的溫度
