本儀器采用非接觸、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法有序推進，測(cè)量時(shí)不損傷工件表面設施，能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形，并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果堅定不移。適用于測(cè)量各種量塊組合運用、光學(xué)零件表面的粗糙度；標(biāo)尺推進高水平、度盤的刻線深度脫穎而出；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌；磁（光）盤生產創效、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量結構；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等。

　　特點(diǎn)：

　　本儀器采用非接觸優化上下、光學(xué)相移干涉測(cè)量方法能力建設，測(cè)量時(shí)不損傷工件表面，能快速測(cè)得各種工件表面微觀形貌的立體圖形生產體系，并分析計(jì)算出測(cè)量結(jié)果服務。適用于測(cè)量各種量塊、光學(xué)零件表面的粗糙度能力和水平；標(biāo)尺覆蓋、度盤的刻線深度；光柵的槽形結(jié)構(gòu)鍍層厚度和鍍層邊界處的結(jié)構(gòu)形貌明確相關要求；磁（光）盤重要意義、磁頭表面結(jié)構(gòu)測(cè)量；硅片表面粗糙度及其上圖形結(jié)構(gòu)測(cè)量等等深化涉外。

　　由于儀器測(cè)量精度高體系，具有非接觸和三維測(cè)量的特點(diǎn)，并采用計(jì)算機(jī)控制和快速分析開展試點、計(jì)算測(cè)量結(jié)果攜手共進，本儀器適用于各級(jí)測(cè)試共同、計(jì)量研究單位工礦企業(yè)計(jì)量室，精密加工車間經過，也適用于高等院校和科學(xué)研究單位等簡單化。

　　主要技術(shù)參數(shù)

　　表面微觀不平深度測(cè)量范圍

　　在連續(xù)表面上，相鄰二象素之間沒(méi)有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí)：1000 一1nm

　　相鄰二象素之間含有大于1 / 4 波長(zhǎng)的高度突變時(shí)：130 一1nm

　　測(cè)量的重復(fù)性：δRa ≤0.5nm

　　物鏡倍率:40X

　　數(shù)值孔徑:Φ 65

　　工作距離:0.5mm

　　儀器視場(chǎng)  目視: Φ0.25mm

　　攝象: 0.13×0.13mm

　　儀器放大倍數(shù) 目視: 500×

　　攝象（計(jì)算機(jī)屏幕觀察）一2500×

　　接收器測(cè)量列陣:1000X1000

　　象素尺寸:5.2×5.2μm

　　測(cè)量時(shí)間采樣（掃描）時(shí)間:1S

　　儀器標(biāo)準(zhǔn)鏡     反射率（高）: ～50 %

　　反射率（低）: ～4 %

　　照明光源:白熾燈6V 5W

　　綠色干涉濾光片波長(zhǎng):λ≒530nm 

　　半寬度λ≒10nm 

　　主顯微鏡升程:110 mm

　　工作臺(tái)升程:5 mm

　　X 明確了方向、丫方向移動(dòng)范圍: ～10 mm

　　工作臺(tái)旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)范圍:360°

　　工作臺(tái)頃斜范圍：±6°

　　計(jì)算機(jī)系統(tǒng)：P4 , 2 .8G 以上系統性，內(nèi)存1G以上17寸純平顯示器