• HTBL底載式石墨爐有2200°C和3000°C兩種可選處理方法。石墨爐有50重要作用，80或者200l的不同容積可選。 

• HTBl也非常方便裝/卸樣品習慣，爐膛可以下降并露出,以方便樣品任意方向放入爐內(nèi)而無(wú)任何限制有望。另外樣品熱電偶可以放置于某一位置，也可以訂購(gòu)氣氛盒導向作用。

• 底座的移動(dòng)是自動(dòng)控制的方案，液動(dòng)動(dòng)力驅(qū)動(dòng)，當(dāng)爐膛移動(dòng)到低位置時(shí)十大行動，可以把爐膛手動(dòng)外推90°C左右。 

• 氮?dú)猓瑲鍤夂蜌錃饪梢詥为?dú)或者混用強化意識，也可以使用其他氣體長期間。

• 氣氛環(huán)境輕微過(guò)壓，分壓壓力在10到1000mbar之間現場，由氣體流量決定高端化。不可使用空氣（氧氣）。 

• 氣路系統(tǒng)由各種進(jìn)氣和控制裝置組成我有所應，由真空泵進(jìn)行真空操作提單產，各個(gè)獨(dú)立溫度控制裝置實(shí)現(xiàn)高溫度均勻性。

標(biāo)準(zhǔn)參數(shù)

石墨爐可達(dá)最高溫度

可選裝氫氣分壓控制

粉末樣品抽真空操作平穩(wěn)可控

全自動(dòng)控制

數(shù)據(jù)記錄效高化，用于質(zhì)量管理