原子發(fā)射ICP光譜儀廠家
原子發(fā)射ICP光譜儀廠家
原子發(fā)射光譜儀作為大型精密無機分析儀器業務指導，廣泛應(yīng)用于稀土分析改進措施、貴金屬分析、有色金屬長足發展、合金材料今年、電子產(chǎn)品穩步前行、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金動手能力、地質(zhì)逐步改善、土壤、石油提升、化工大大提高、商檢、環(huán)保等部門和釹鐵硼占、硅高質量、硅鐵、鎢激發創作、鉬等前景，從超微量到常量的定性或定量分析。它集光增幅最大、機共享應用、電、計算機標準、分析技術(shù)于一體的高新技術(shù)產(chǎn)品示範推廣，具有測試速度快、測量范圍寬即將展開、分析結(jié)果準確可靠等特點大幅增加。由于采用了計算機技術(shù)，儀器的智能化傳承、屏幕顯示的圖等特點、文及數(shù)據(jù)的采集、處理等都達到了目前*水平多種，是諸多行業(yè)理想的分析儀器將進一步。
ICP光譜分析儀（ICP-AES/OES），主要用于微量/痕量元素的分析發展成就，可分析的元素為大多數(shù)的金屬和硅成就，磷等少量的非金屬，共72種開展面對面。廣泛應(yīng)用于稀土系統、貴金屬、合金材料自動化、電子產(chǎn)品提升、醫(yī)藥衛(wèi)生、冶金、地質(zhì)支撐能力、石油資源優勢、化工、商檢特征更加明顯、環(huán)保以及釹鐵硼不斷完善、硅、硅鐵方便、鎢基礎上、鉬等行業(yè)分析檢測，可對待測樣品進行定性或從超微量到常量的定量分析應用領域。
一保持競爭優勢、ICP光譜分析儀整機主要性能參數(shù)：
1、波長范圍：190～500nm（3600L/mm光柵）或190～800nm（2400L/mm光柵）發展機遇；
2長效機製、分辨率： 0.006nm（3600L/mm光柵）或0.01nm（2400L/mm光柵）；
3全技術方案、波長示值和重復(fù)性：波長示值≤0.02nm分享，重復(fù)性≤0.003nm；
4信息化、掃描步距：0.0004nm方式之一；
5、重復(fù)性：RSD≤1.0%新型儲能；
6創新能力、穩(wěn)定性：RSD≤1.5%；
7範圍、檢出限：ppb級溝通機製；
8、分析元素范圍：70余種金屬與非金屬元素註入新的動力；
9、線性范圍：7個數(shù)量級以上，且自吸效應(yīng)極低雙重提升；
10、分析速度：每分鐘掃描最快達25個元素以上事關全面；
11表現明顯更佳、標準：國家國家標準。
12技術節能、測量范圍：190-500nm
13 規(guī)格大兄笇?。洪L寬高：1.5mＸ0.60mＸ1.2m 立式儀器方便推挪，免裝試驗臺*
14 配智能冷卻循環(huán)水箱(YT-1800)
15 配電腦聯(lián)想
16 配惠普激光打印機
二、ICP光譜分析儀各部件詳細參數(shù)：
射頻發(fā)生器（RF）
（1）電路類型：電感反饋自激式振蕩電路流動性、同軸電纜輸出全面協議、匹配調(diào)諧、取功率反饋信號具體而言，進行閉環(huán)自動控制工具；
（2）工作頻率：40.68MHz±0.05%；
（3）頻率穩(wěn)定性：≤0.05%喜愛；
（4）輸出功率：800～1200W重要的角色；
分光器
（1）光路：Czerny－Turner；
（2）焦距：1000mm向好態勢；
（3）光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵平臺建設；
（4）分光器恒溫裝置：26℃±1℃。
測光裝置
（1）光電倍增管規(guī)格：R212UH或R928貢獻力量；
（2）測光方式：單使用、多元素順序測量。
操作軟件：
（1）操作系統(tǒng)：Windows XP 操作平臺覆蓋範圍；
（2）測定波長數(shù)：任意選擇優化程度；
（3）分析速度：每分鐘最快25個元素以上；
（4）數(shù)據(jù)庫：譜線庫11萬條以上奮勇向前；
（5）多窗口：在測量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時不斷豐富、測量下一樣品；
（6）標準加入法：軟件要有標準加入法組建，以便在不同條件和應(yīng)用中下使用各有優勢；
（7）分析模式：軟件默認優(yōu)良分析模式，擁有儀器診斷重要的意義、譜圖分析及幾種測量方式和幾種積分模式持續，單位任選等多種功能；
（8）歷史數(shù)據(jù)庫：在歷史數(shù)據(jù)庫中再獲，可以同時可選擇性地打印想要打印的批次分析結(jié)果產品和服務；
（9）數(shù)據(jù)輸出：軟件支持激光打印機打印分析結(jié)果。
（10）語言：可中英文雙語
