TG-142 和 MPPG 8.b 中推薦的每個(gè)基于圖像的測(cè)試的單一供應(yīng)商解決方案和諧共生。使用 EPID 和 RITG142 軟件質生產力，自信而輕松地對(duì)直線加速器進(jìn)行全面的質(zhì)量保證。
RITG142質(zhì)控軟件技術交流，TG142分析軟件是機(jī)器 QA先進的解決方案、MLC QA拓展、成像 QA 以及數(shù)據(jù)跟蹤和趨勢(shì)分析的一體化解決方案，您需要符合 TG-142 和醫(yī)學(xué)物理學(xué)實(shí)用指南 （MPPG） 8.b 的全面 LINAC QA宣講活動。此外不斷進步，成像 QA 模型通過(guò)易于使用的跟蹤和趨勢(shì)分析功能自動(dòng)評(píng)分。
機(jī)器質(zhì)量保證
LINAC 的每日效率、每月和年度機(jī)器 QA
增強(qiáng)型 3D Winston-Lutz（等中心優(yōu)化）和 Virtual Star Shot*
自動(dòng)處理一組 EPID Winston-Lutz 圖像規模，以快速準(zhǔn)確地測(cè)量等中心位置。RIT 版本的此測(cè)試允許您使用 3 到 16 張圖像講道理，并為球設(shè)置和圍繞等中心擺動(dòng)提供誤差估計(jì)發展目標奮鬥。增加的角度靈活性使您能夠模擬更多臨床相關(guān)的角度，以確定特定治療配置下的等中心更多的合作機會。*美國(guó)zhuan利9192784延伸、JP Patent 6009705、CA Patent 2918045和其他正在申請(qǐng)的國(guó)際zhuan利行業分類。
立體定向?qū)?zhǔn) （2D Winston-Lutz） 測(cè)試
立體定向錐形輪廓
字段對(duì)齊
光束測(cè)量
輻射/光場(chǎng)重合
EPID圖像可以在沒(méi)有校準(zhǔn)文件的情況下進(jìn)行分析技術特點，并具有自定義的視場(chǎng)大小。中心位置可以通過(guò)采取
BB相結合、針刺或使用 L-Rad Phantom高效化。
全自動(dòng)星形分析
非對(duì)稱場(chǎng)/匹配線
深度劑量、交叉和正交剖面
電子能 （TG-25）
圖像直方圖
等劑量輪廓
3D 劑量曲線
快速平整度和對(duì)稱性
水箱梁測(cè)量分析
導(dǎo)入斷層放療®校準(zhǔn)文件
斷層放療®是 Accuray為產業發展， Inc. 的注冊(cè)商標(biāo)
MLC質(zhì)量保證
Varian LINAC
EPID糾察柵欄測(cè)試
此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試範圍和領域。
自動(dòng)化瓦里安 RapidArc®測(cè)試
可以在距離 EPID、膠片或 CR 圖像的任何距離處拍攝圖像各項要求。這包括：測(cè)試 0.1更高要求、0.2、1.1新技術、1.2共同學習、2 和 3。 RIT 的 RapidArc QA 例程支持 Millennium 120深入、HD120 MLC 和 Halcyon®MLC 模型效高。
瓦里安葉速試驗(yàn)
在不使用日志文件的情況下，該測(cè)試可測(cè)量瓦里安 MLC 葉片速度在成像儀上移動(dòng)時(shí)的一致性和準(zhǔn)確性基礎。
瓦里安·哈爾西恩®MLC分析
執(zhí)行糾察圍欄或全面的 RapidArc®Halcyon的分析®MLC
Elekta LINAC
漢考克對(duì)醫(yī)科達(dá)機(jī)器的測(cè)試
漢考克測(cè)試（2 圖像測(cè)試性能、4 圖像測(cè)試和帶備用鉗口測(cè)試）使用 Elekta iView™ 成像儀自動(dòng)測(cè)量葉片位置與等中心位置以及顎葉片后退測(cè)量值。
EPID糾察柵欄測(cè)試
此例程可自動(dòng)執(zhí)行經(jīng)典的糾察柵欄測(cè)試對外開放。
醫(yī)科達(dá)葉速測(cè)試
此測(cè)試對(duì)齊兩張圖像技術創新，以分析 Elekta iView™ 和 Agility™ 的葉速一致性。
其他 MLC 測(cè)試
Bayouth MLC分析
分析需要在銀行之間留葉間隙的 MLC資料。
其他 MLC 測(cè)試
其中包括：TG-50 糾察柵欄測(cè)試廣泛應用、MSK 葉片測(cè)試關註度、瓦里安 DMLC 測(cè)試模式和 MLC 傳輸分析。
成像 QA
EPID QC模塊
RIT長(zhǎng)子
（EPID QA Phantom - 由 Standard Imaging 制造和銷售。 這些測(cè)試包括：5 個(gè)區(qū)域的穩(wěn)定性善於監督、分辨率 （MTF）、幾何失真、均勻性新格局、對(duì)比度和噪點(diǎn)。
PTW電子元
拉斯維加斯EPID
標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-3
卡坦®結構重塑、kV 和錐形梁模塊
瓦里安 504 CATPHAN
瓦里安 604 CATPHAN
醫(yī)科達(dá) 503 CATPHAN
西門(mén)子圖像質(zhì)量 Phantom
DR/CR kV模塊
IBA Primus（IBA普里姆斯酒店）®L
PTW 諾米®4
（20x20厘米和30x30厘米）
利茲 TOR-18 FG
標(biāo)準(zhǔn)成像 QC-kV1
kV/MV模塊
標(biāo)準(zhǔn)成像 ISOCube
五角星指南
基本模塊
DICOM圖像查看器
DICOM 標(biāo)簽查看器
圖像導(dǎo)入：DICOM 目錄瀏覽器拓展、打開(kāi)目錄瀏覽器、DICOM 文件過(guò)濾器
手動(dòng)測(cè)量：距離情況較常見、角度可持續、輪廓、直方圖生產體系、圓形和方形 ROI 以及輪廓的 ASCII 輸出
輸出格式：打印服務、PDF 導(dǎo)出、帶有自定義模板的 Excel 導(dǎo)出
監(jiān)控圖像質(zhì)量
圖像傳輸
自定義公差管理
使用公差管理器為所有自動(dòng)模型分析中使用的每個(gè)測(cè)量設(shè)置公差值和通過(guò)/失敗標(biāo)準(zhǔn)能力和水平。該工具提供了在各種 LINAC 和成像系統(tǒng)上自定義公差所需的靈活性：
在易于使用的面板中方便地設(shè)置和切換公差覆蓋，該面板位于主界面中，并顯示在每個(gè)模型分析例程中研究。
為分析及其相應(yīng)報(bào)告設(shè)置自己的通過(guò)/失敗標(biāo)準(zhǔn)高效，允許在所有成像 QA 分析中進(jìn)行wan全定制。
偏好配置文件和公差是根據(jù)每臺(tái)機(jī)器設(shè)置的提高。它們可以針對(duì)使用中的每臺(tái)機(jī)器進(jìn)行精確定制機構。
將所有通過(guò)/失敗容差數(shù)據(jù)傳輸?shù)?/span>RIT趨勢(shì)數(shù)據(jù)庫(kù)，以進(jìn)行統(tǒng)計(jì)跟蹤和趨勢(shì)™分析
其他測(cè)量
用于 QA 的電影劑量測(cè)定
放射致變色和放射致變色膠片交流，配備Vidar和平板掃描儀
平板非均勻性校正
放射致變色膠片均勻性校正
用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
通用映像文件導(dǎo)入
Vidar 掃描儀接口（Vidar 掃描儀控制中心）
校準(zhǔn)
RITG142質(zhì)控軟件標(biāo)定技術(shù)
zhuan利：EP 1318857基礎、CA 2418232、JP 3817176還不大、US 6675116高產、US 6934653 和 US 7013228。
用于Vidar和平板掃描儀的2D掃描儀空間校準(zhǔn)
垂直劑量校準(zhǔn)
校準(zhǔn)文件合并
EPID 質(zhì)量保證
導(dǎo)入用于 QA 的 EPID 映像
縮放瓦里安 EPID 的 DICOM 圖像
一般特征
圖像合成器
DICOM 匿名器
針刺力度、擦除和 ROI 工具
每個(gè)分析程序的 PDF 報(bào)告
基于云的軟件許可
