平面平晶具有兩個(gè)（或一個(gè)）光學(xué)測(cè)量平面的正圓柱形或長(zhǎng)方形的量規(guī)。光學(xué)測(cè)量平面是表面粗糙度數(shù)值和平面度誤差都極小的玻璃平面技術創新，它能夠產(chǎn)生光波干涉條紋（見激光測(cè)長(zhǎng)技術(shù)）處理方法。平晶有平面平晶和平行平晶兩種。平面平晶用于測(cè)量高光潔表面的平面度誤差持續向好，為用平面平晶檢驗(yàn)量塊測(cè)量面的平面度誤差習慣。平行平晶的兩個(gè)光學(xué)測(cè)量平面是相互平行的，用于測(cè)量?jī)筛吖鉂嵄砻娴钠叫卸日`差進展情況，例如千分尺兩測(cè)量面的平行度誤差.平晶用光學(xué)玻璃或石英玻璃制造的積極性。圓柱形平面平晶的直徑通常為45～150毫米。其光學(xué)測(cè)量平面的平面度誤差為:1級(jí)精度的為0.03～0.05微米至關重要；2級(jí)精度的為0.1微米十大行動。常見的長(zhǎng)方形平面平晶的有效長(zhǎng)度一般為200毫米。

     《國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)》

　　JJG28-2000 成都威博恩快速檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn)

　　平行平晶是用于以干涉法測(cè)量塊規(guī)創新延展，以及檢驗(yàn)塊規(guī)、量規(guī)長期間、零件密封面基本情況、測(cè)量?jī)x器及測(cè)平晶

　　量工具量面的研合性和平面度的 常用工具。

　　適用于光學(xué)加工廠高端化、廠礦企業(yè)計(jì)量室力量、精密加工車間、閥門密封面現(xiàn)場(chǎng)檢測(cè)使用提單產，也適用于高等院校深入實施、科學(xué)研究等單位做平面度等檢測(cè)。

　　1發展空間、平面平晶YDF-1 標(biāo)準(zhǔn)外形尺寸 單位：mm

　　規(guī)格30 45 60 80 100 150 200 250

　　直徑30 45 60 80 100 150 200 250

　　高度15 15 20 20 25 30 40 45 平晶

　　特殊規(guī)格尺寸平面平晶,環(huán)形平面平晶,方形平面平晶可定做.

　　2效果、平面平晶制成兩種精度：1級(jí) 和2級(jí)

　　3、平面平晶工作面的平面度偏差允許值為：

　　直徑為 30至60mm 1級(jí)平晶0.03μm

　　直徑為30至60mm 2級(jí)平晶0.1 μm

　　直徑為80至150mm 1級(jí)平晶0.05μm

　　直徑為80至150mm 2級(jí)平晶0.1 μm

　　更大尺寸平面平晶平面度偏差允許值足了準備，根據(jù)國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)合作關系。

　　4、平面平晶工作面的局部偏差允許值為：0.03μm

　　5深刻內涵、平面平晶測(cè)量工作應(yīng)在室溫2 0℃±3℃條件下保持?jǐn)?shù)小時(shí)后進(jìn)行傳遞。

　　平晶是利用光波干涉現(xiàn)象測(cè)量平面度誤差的，故其測(cè)量方法稱為平晶干涉法（圖2）,也稱技術(shù)光波干涉法深入闡釋。測(cè)量時(shí),把平晶放在被測(cè)表面上,且與被測(cè)表面形成一個(gè)很小的楔角θ相關性，以單色光源照射時(shí)會(huì)產(chǎn)生干涉條紋。干涉條紋的位置與光線的入射角有關(guān)物聯與互聯。如入射光線垂直于被測(cè)表面穩定，且平晶與被測(cè)表面間的間隙很小,則由平晶測(cè)量面P反射的光線與被測(cè)表面反射的光線在測(cè)量面P發(fā)生干涉而出現(xiàn)明或暗的干涉條紋。若在白光下，則出現(xiàn)彩色干涉條紋效高化。如干涉條紋平直新體系，相互平行,且分布均勻,則表示被測(cè)表面的平面度很好；如干涉條紋彎曲創造，則表示平面度不好不難發現。其誤差值為f= (v/ω)×(λ/2)

λ為光波波長(zhǎng)，白光的平均波長(zhǎng)為0.58μm,ν為干涉帶彎曲量設備製造，ω為干涉帶間距發展需要。