LMP-4S型自動磨拋機為雙盤臺式磨拋機，跟據(jù)國際標準，采用工藝技術(shù)研究進展，研發(fā)制造一款中心加力與單點加力為一體的新型研磨拋光設(shè)備

LMP-4S型自動磨拋機為雙盤臺式磨拋機，跟據(jù)國際標準增強，采用工藝技術(shù)更加廣闊，研發(fā)制造一款中心加力與單點加力為一體的新型研磨拋光設(shè)備可以使用。

具備磨拋盤旋轉(zhuǎn)方向可任意選擇新體系、磨拋盤可快速更換不難發現；多試樣夾試器，同時具體氣動單點加載和中心加載功能經驗分享。本機采用了的微處理器控制系統(tǒng)，使得磨拋盤廣度和深度、磨拋頭的轉(zhuǎn)速實現(xiàn)無級可調(diào)，制樣壓力技術發展、時間設(shè)定直觀、便捷。只需更換磨拋盤或者砂紙和織物即可完成磨、拋工序的操作工具。從而使本機展現(xiàn)了更加廣泛的應(yīng)用性開放要求。具有轉(zhuǎn)動平穩(wěn)、安全可靠平臺建設、噪音低及采用鑄鋁底座增加了磨拋的剛性等特點更多可能性。

本機帶有水冷卻裝置足夠的實力，可以在研磨時對試樣進行冷卻，以防止因試樣過熱而破壞金相組織并隨時將磨粒沖刷排走；再配以玻璃鋼外殼和不銹鋼標準件帶動產業發展，在外觀上更加美觀大方規則製定，并提高了防腐、防銹性能且易清潔顯示。

適用于對金相試樣的粗磨科普活動、精磨、粗拋光至精拋光過程進行自動制樣長期間。是企業(yè)、科研單位以及大專院校實驗室的理想制樣設(shè)備。

主要技術(shù)指標 Main Specifications

磨拋盤直徑：φ250mm（可訂制φ230mm力量、φ300mm）

磨拋盤轉(zhuǎn)速：50-1000 r/min（無極調(diào)速）以及300 / 600 / 900 r/min（3級定速）

磨拋盤轉(zhuǎn)向：可調(diào)正反轉(zhuǎn)選擇

磨拋頭轉(zhuǎn)速：5-150 r/min（無極調(diào)速）

制備樣數(shù)量：6個

輸入氣源：0.4-0.7Mpa我有所應，

制 樣 時間：0-3000 S

制樣壓力：單點20-70N   中心150-300N

試 樣 直徑：出廠標配φ30mm（可訂制直徑φ22-φ45mm）

輸 入 電壓：單相 AC220V  50Hz

輸 入 功率：1.1KW

外 形 尺寸：735*570*590mm

凈      重：100KG

毛      重：120KG

各部件功能簡介 Brief introduction of each component function

磨拋頭：內(nèi)含機械電氣控制，是整機組成的重要部分高效流通。

磨拋頭控制面板：可顯示磨拋頭轉(zhuǎn)速調解製度，磨拋壓力，磨拋時間功能，切換中心壓力與單點壓力切換更改語言等應用的因素之一。旋轉(zhuǎn)編碼器或點擊屏幕數(shù)值將調(diào)節(jié)磨拋參數(shù)。

磨拋盤：也稱“工作盤”預期，是磨拋試驗的重要組成部分敢於監督，將砂紙、絨布等耗材固定在上面結構，對試樣進行磨拋重要的作用。

夾持器：本機具備兩種夾持器，一種單點力夾持器更優美，另一種中心力夾持器各方面。分別對式樣進行不同的加持。

冷卻水嘴：磨拋過程中可對試樣進行沖洗成效與經驗；可根據(jù)需要開關(guān)或轉(zhuǎn)動適應性。

擋水圈：磨拋過程中防止水外濺。

磨拋機控制面板：對工作盤進行轉(zhuǎn)速稍有不慎，方向及三級定速設(shè)置重要作用；整機啟動、停止控制尤為突出。

裝 箱 單 Packing List