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NanoCalc薄膜反射光譜儀系統(tǒng)

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薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進(jìn)行10nm~250µm的膜厚分析測量行業內卷,對單層...

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NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng)

薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進(jìn)行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm逐漸完善。根據(jù)測量軟件的不同參與能力,可以分析單層或多層膜厚。


的兩種測量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測量是目前主流、橢圓光度法測量充分發揮。NanoCalc利用反射原理進(jìn)行膜厚測量。


技術(shù)參數(shù)

入射角

90°

層數(shù)

3層以下

需要進(jìn)行參考值測量

透明材料

傳輸模式

粗糙材料

測量速度

100ms - 1s

在線監(jiān)測

可以

公差(高度)

參考值測量或準(zhǔn)直(74-UV)

公差(角度)

參考值測量

微黑子選項

配顯微鏡

顯示選項

配顯微鏡

定位選項

6"和12" XYZ 定位臺

真空

可以

產(chǎn)品特點

  • 可分析單層或多層薄膜
  • 分辨率達(dá)0.1nm
  • 適合于在線監(jiān)測
  • 操作理論

查找n和k值

可以進(jìn)行多達(dá)三層的薄膜測量優勢領先,薄膜和基體測量可以是金屬迎來新的篇章、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等推動並實現。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫薄弱點,用戶也可以自己添加和編輯。


應(yīng)用

NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量優化程度,包括氧化層積極性、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜不斷豐富。NanoCalc也可測量在鋼實施體系、鋁、銅各有優勢、陶瓷發揮、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等快速增長。

NC-UV-VIS-NIR 波長范圍:250-1100 nm開放以來;厚度:10 nm-70 µm;光源:氘鹵燈

NC-UV-VIS 波長范圍:250-850 nm高質量;厚度:10 nm-20 µm提供了有力支撐;光源:氘鹵燈

NC-VIS-NIR 波長范圍:400-1100 nm激發創作;厚度:20 nm-100 µm(可選1µm-250µm);光源:鹵燈

NC-VIS 波長范圍:400-850 nm進一步意見;厚度:50 nm-20 µm增幅最大;光源:鹵燈

NC-NIR 波長范圍:650-1100 nm;厚度:70 nm-70 µm生產能力;光源:鹵燈

NC-NIR-HR 波長范圍:650-1100 nm標準;厚度:70 nm-70 µm;光源:鹵燈

NC-512-NIR 波長范圍:900-1700 nm堅持好;厚度:50 nm-200μm即將展開;光源:高亮度鹵燈


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