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參考價 | 面議 |
- 公司名稱 上海卓定電子科技有限公司
- 品牌
- 型號
- 所在地 上海
- 廠商性質(zhì) 其他
- 更新時間 2024/12/28 11:54:13
- 訪問次數(shù) 20
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薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進(jìn)行10nm~250µm的膜厚分析測量行業內卷,對單層...
NanoCalc 薄膜反射測量系統(tǒng)
薄膜的光學(xué)特性主要有反射和干涉.NanoCalc薄膜反射測量系統(tǒng)可以用來進(jìn)行10nm~250µm的膜厚分析測量,對單層膜的分辨率為0.1nm逐漸完善。根據(jù)測量軟件的不同參與能力,可以分析單層或多層膜厚。
的兩種測量薄膜的特性的方法為光學(xué)反射和投射測量是目前主流、橢圓光度法測量充分發揮。NanoCalc利用反射原理進(jìn)行膜厚測量。
技術(shù)參數(shù)
入射角 | 90° |
層數(shù) | 3層以下 |
需要進(jìn)行參考值測量 | 是 |
透明材料 | 是 |
傳輸模式 | 是 |
粗糙材料 | 是 |
測量速度 | 100ms - 1s |
在線監(jiān)測 | 可以 |
公差(高度) | 參考值測量或準(zhǔn)直(74-UV) |
公差(角度) | 參考值測量 |
微黑子選項 | 配顯微鏡 |
顯示選項 | 配顯微鏡 |
定位選項 | 6"和12" XYZ 定位臺 |
真空 | 可以 |
產(chǎn)品特點
查找n和k值
可以進(jìn)行多達(dá)三層的薄膜測量優勢領先,薄膜和基體測量可以是金屬迎來新的篇章、電介質(zhì)、無定形材料或硅晶等推動並實現。NanoCalc軟件包含了大多數(shù)材料的n和k值數(shù)據(jù)庫薄弱點,用戶也可以自己添加和編輯。
應(yīng)用
NanoCalc薄膜反射材料系統(tǒng)適合于在線膜厚和去除率測量優化程度,包括氧化層積極性、中氮化硅薄膜、感光膠片及其它類型的薄膜不斷豐富。NanoCalc也可測量在鋼實施體系、鋁、銅各有優勢、陶瓷發揮、塑料等物質(zhì)上的抗反射涂層、抗磨涂層等快速增長。
NC-UV-VIS-NIR 波長范圍:250-1100 nm開放以來;厚度:10 nm-70 µm;光源:氘鹵燈
NC-UV-VIS 波長范圍:250-850 nm高質量;厚度:10 nm-20 µm提供了有力支撐;光源:氘鹵燈
NC-VIS-NIR 波長范圍:400-1100 nm激發創作;厚度:20 nm-100 µm(可選1µm-250µm);光源:鹵燈
NC-VIS 波長范圍:400-850 nm進一步意見;厚度:50 nm-20 µm增幅最大;光源:鹵燈
NC-NIR 波長范圍:650-1100 nm;厚度:70 nm-70 µm生產能力;光源:鹵燈
NC-NIR-HR 波長范圍:650-1100 nm標準;厚度:70 nm-70 µm;光源:鹵燈
NC-512-NIR 波長范圍:900-1700 nm堅持好;厚度:50 nm-200μm即將展開;光源:高亮度鹵燈*您想獲取產(chǎn)品的資料:
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