全新的操作系統(tǒng)機(jī)構(gòu)，采用人機(jī)工程學(xué)設(shè)計最為突出，限度減輕操作者的使用疲勞落實落細，模塊化的部件設(shè)計，可對系統(tǒng)功能進(jìn)行自由組合提升，滿足工業(yè)檢測與金相分析的專業(yè)領(lǐng)域需求高品質。

1.產(chǎn)品用途：

全新的操作系統(tǒng)機(jī)構(gòu)，采用人機(jī)工程學(xué)設(shè)計支撐能力，限度減輕操作者的使用疲勞資源優勢，模塊化的部件設(shè)計，可對系統(tǒng)功能進(jìn)行自由組合特征更加明顯，滿足工業(yè)檢測與金相分析的專業(yè)領(lǐng)域需求估算。

2.產(chǎn)品特點(diǎn)：

●采用平場消色差光學(xué)系統(tǒng)和落射式柯拉照明系統(tǒng)，同時在落射照明系統(tǒng)中設(shè)計防反射結(jié)構(gòu)的可能性，有效防止反射光干憂成像光線不要畏懼。從而使成像更清晰、視場襯度更好問題。

●提供穩(wěn)定可靠的操作機(jī)構(gòu)逐漸顯現，使成像更清晰，操作更簡便系統穩定性。

●顯微鏡鏡體采用全新的人機(jī)工程學(xué)設(shè)計拓展基地，結(jié)構(gòu)勻稱，實現(xiàn)鏡體擴(kuò)展積木化實力增強。

●工作臺體系流動性、光強(qiáng)與粗微調(diào)的低位操作，提高了使用的舒適性帶來全新智能。

●廣泛應(yīng)用于各類半導(dǎo)體硅晶片檢測實現了超越、材料科學(xué)研究新產品、地質(zhì)礦物分析及精密工程等學(xué)科領(lǐng)域。

3.主要功能

●光學(xué)顯微鏡是根據(jù)凸透鏡的成像原理橋梁作用，要經(jīng)過凸透鏡的兩次成像推進高水平。次先經(jīng)過物鏡（凸透鏡1）成像，這時候的物體應(yīng)該在物鏡(凸透鏡1）的一倍焦距和兩倍焦距之間拓展應用，根據(jù)物理學(xué)的原理，成的應(yīng)該是放大的倒立的實像結構。而后以次成的物像作為“物體”管理，經(jīng)過目鏡的第二次成像

●測量——可測量平面上的任何幾何圖形之尺寸(角度、長度能力建設、直徑模樣、半徑、點(diǎn)到線的距離表現明顯更佳、圓的偏心狀態、兩圓間距等)?

●標(biāo)注——可在實時影像中的實際工件上標(biāo)注各種幾何尺寸。

●拍照——可拍下實物照片指導，包括所標(biāo)注的尺寸廣泛認同。

●直接輸入圓、線段：可按需要輸入標(biāo)準(zhǔn)的圓或線(客戶自己定義圓流動性、線的大小鍛造、長度和坐標(biāo)位置)。再以標(biāo)準(zhǔn)的圓持續創新、線與影像中的實物比較改善，從而找到工件的誤差。

●以極坐標(biāo)方式輸入線：可按客戶需要以極坐標(biāo)的方式輸入標(biāo)準(zhǔn)線段協調機製。

●自設(shè)客戶坐標(biāo)：可以根據(jù)客戶本身的需要信息化，自行在實時影像上設(shè)定坐標(biāo)原點(diǎn)(0，0)實踐者。

●坐標(biāo)標(biāo)注：以自己所設(shè)定之坐標(biāo)原點(diǎn)(0取得明顯成效，0)為基準(zhǔn)，標(biāo)注實時影像中任意一點(diǎn)的坐標(biāo)位置管理。

●捕捉交點(diǎn)：可以自動捕捉兩線的交點(diǎn)設計。

5.工作條件

●避免將顯微鏡放置在有陽光直射、高溫或高濕改進措施、多塵就此掀開、以及容易受到強(qiáng)烈震動的地方，確保工作表面平坦并水平今年。工作環(huán)境要求：室溫 5℃～40℃穩步前行，相對濕度 80%結構不合理。

●工作時，燈源表面會變得非常熱逐步改善，應(yīng)確保燈源周圍有足夠的散熱空間意見征詢。

●將本機(jī)接地，避免雷擊大大提高。

6.技術(shù)參數(shù)：