中國(guó)臺(tái)灣 Toptech 泰釜泰科 雙馬達(dá)研磨拋光機(jī)FRSD精準(zhǔn)盤面適應性強，磨拋精確;穩(wěn)定施壓，樣品平整先進的解決方案。雙馬達(dá)研磨拋光機(jī)FRSD轉(zhuǎn)速可調(diào)拓展，可依不同材質(zhì)樣品，自行調(diào)整轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速宣講活動，獲取精度不斷進步。轉(zhuǎn)盤旋向可調(diào)：同向旋轉(zhuǎn)是精拋磨，反向旋轉(zhuǎn)是粗拋磨效率，快速省時(shí)高精度生產效率。
精準(zhǔn)盤面，磨拋精確;穩(wěn)定施壓適應性，樣品平整節點。
1.自動(dòng)研磨頭：可掀式頭部，可控制研磨頭啟動(dòng)停止落地生根。
2.雙盤設(shè)計(jì)：研磨頭可左右移動(dòng)的特點，研磨拋光不共用，提升拋光品質(zhì)有效保障。
3.新型拋光盤：裝取絨布大數據，清潔，保養(yǎng)快速容易講實踐。
4.新型研磨盤：裝取砂紙數字技術，清潔保養(yǎng)快速容易。
5.轉(zhuǎn)盤旋向可調(diào)：同向旋轉(zhuǎn)是精拋磨市場開拓，反向旋轉(zhuǎn)是粗拋磨措施，快速省時(shí)高精度。
6.轉(zhuǎn)速可調(diào)：可依不同材質(zhì)樣品各項要求，自行調(diào)整轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)速更高要求，獲取精度越來越重要的位置。
7.轉(zhuǎn)速數(shù)位化數(shù)字顯示快速明確。
8.高效能無(wú)刷馬達(dá)：低轉(zhuǎn)速共同學習，高扭力順滑地配合，使用壽命長(zhǎng)，運(yùn)轉(zhuǎn)穩(wěn)定確保研磨拋光精度效高。
9.雙馬達(dá)：雙馬達(dá)兩邊可分開(kāi)控制更靈活前沿技術。
10.遮水蓋：外型美觀質(zhì)量輕，方便拿取性能。
11.快速插座：總電源開(kāi)關(guān)多種方式，內(nèi)建保險(xiǎn)絲裝置，快速插拔插座技術創新。
雙馬達(dá)研磨拋光機(jī)主機(jī)去完善；拋光布橋梁作用；水砂紙
【A/B支承盤加購(gòu)/選購(gòu)配件】
（A/B 系列-標(biāo)準(zhǔn)）
盤面尺寸 | 研磨頭(H) | 樣品尺寸(標(biāo)準(zhǔn)-S) mm | 整平塊 |
?203.2mm ?254mm ?304.8mm | A3/B3 | ?25(25.4) | ?32(31.75) | ?40 | - |
A5/B5 | ?25(25.4) | ?32(31.75) | - |
（選購(gòu)/加購(gòu)）
NO. | 圖號(hào) | 樣品 (S) mm | 外徑 (D) mm | 圖號(hào) | 樣品(S) mm E x F | 外徑(D) |
A3 B3 | P20C0121 | 30 | ?92 | P20C012108 | 18 | ?92 |
P20C012101 | 32 | ?92 | P20C012109 | 25.4 | ?92 |
P20C012102 | 40 | ?105 | P20C012111 | 35 | ?96 |
P20C012103 | 20 | ?92 | P20C012113 | 10 | ?92 |
P20C012104 | 25 | ?92 | P20C012114 | 24 | ?92 |
P20C012105 | 38 | ?105 | P20C012115 | 31.75 | ?92 |
P20C012106 | 23 | ?92 | P20C012116 | 38.1 | ?105 |
A5 B5 | P20C012107 | 26 | ?92 | P20C012112 | 50x15 | ?92 |
P20C0201 | 32 | ?106 | P20C020103 | 25 | ?106 |
P20C020101 | 30 | ?106 | P20C020104 | 28 | ?106 |
【A/B 支承盤特殊規(guī)格】
（A3/B3系列-特殊）
圖號(hào) | 規(guī)格(S) mm | 外徑(D) | PCD(C) | 備注 |
P20C012110 | 3 孔-60 | ?155 | ?80 |
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P20C012110-1 | 3 孔-5 | ?140 | ?80 |
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P20C012110-2 | 3 孔-45 | ?135 | ?80 |
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（A5/B5系列-特殊）
圖號(hào) | 規(guī)格(S) mm | 外徑(D) | PCD(C) | 備注 |
P20C020105 | 5 孔-40 | ?122 | ?74 |
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備注：1.特殊支承盤與標(biāo)準(zhǔn)支承盤，研磨頭無(wú)共用求索。
2.購(gòu)買特殊支承盤需加購(gòu)研磨頭組合讓人糾結。
【彈簧夾選購(gòu)】
圖號(hào) | 夾持范圍 | 數(shù)量 |
HU02034A | ?30 - ?32 | 1組 |
HU02034A-1 | ?38 - ?40 | 1組 |
HU02034A-2 | ?25 - ?26 | 1組 |
【C支承盤加購(gòu)/選購(gòu)配件】
（C系列-標(biāo)準(zhǔn)）
盤面尺寸 | 研磨頭(H) | 樣品尺寸(標(biāo)準(zhǔn)-S) mm | 整平塊 |
?203.2mm ?254mm ?304.8mm | C3 | ?25 or ?25.4 | ?32 or ?31.75 | 標(biāo)配 |
C4mm3 | ?25 or ?25.4 | ?32 or ?31.75 |
圖號(hào) | 樣品數(shù)量 | 樣品（S）mm (E*F)mm3 | 外徑 （D）mm | 適用盤面（mm） |
FA000101 | 3 | ?15 ~ ?32 | ?118 | ?200/?250/?300 |
FA000101-1 | - | - | ?118 | ?250/?300 |
FA000201 | 3 | ?15 ~ ?50 | ?154 | ?250/?300 |
FA000301 | 3 | ?15 ~ ?45 | ?144 | ?250/?300 |
FA000401 | 3 | ?5 ~ ?40 | ?134 | ?250/?300 |
FA000501 | 3 | 30x30 | ?118 | ?200/?250/?300 |
FA010202 | 4 | ?15 ~ ?40 | ?134 | ?250/?300 |
FA010202-1 | 4 | ?15 ~ ?41 | ?134 | ?250/?300 |
FA010203 | 3 | 2- ?32 & 1- ?32 | ?125 | ?200/?250/?300 |
FA010205 | 4 | ?15 ~ ?50 | ?154 | ?250/?300 |
FA020101 | 6 | ?15 ~ ?32 | ?148 | ?250/?300 |
FA030101 | 2 | 31x51 | ?125 | ?200/?250/?300 |
FA040201 | 5 | ?15 ~ ?40 | ?150 | ?250/?300 |
FA0501 | 1 | ?42.7 | ?70 | ?200/?250/?300 |
FA0502 | 1 | 43x3.5 | ?58 | ?200/?250/?300 |
【整平塊加購(gòu)/選購(gòu)配件】
圖號(hào) | D1 x H(mm) | 適用支撐盤外徑(D) | 備注 |
FA000111 | ?119x7.9 | ?118 |
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FA000202 | ?155x7.9 | ?154 |
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FA000302 | ?145x7.9 | ?144 |
|
FA010201 | ?135x7.9 | ?134 |
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FA010204 | ?126x7.9 | ?125 |
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FA020102 | ?149x7.9 | ?148 |
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FA030102 | ?127x7.9 | ?125 |
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FA040202 | ?150x7.9 | ?150 |
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【耗材】
項(xiàng)次 | 項(xiàng)目 | 規(guī)格 | 說(shuō)明 |
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研磨 | 白金鉆石盤 (PLATINUM) | 1號(hào)、2號(hào) 3號(hào)穩定發展、4號(hào) | 低硬度到高硬度的鐵系金屬基石之一， 以及銅金屬等粗磨及細(xì)磨。 |
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水砂紙（無(wú)背膠） | #60~#2000 | 一般型美規(guī)型（耐用度佳增持能力，研磨深度穩(wěn)定）模樣。 |
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水砂紙（背膠） | #180~#2000 | 一般型 美規(guī)型(耐用度佳，研磨深度穩(wěn)定)服務。 |
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鉆石 | 單晶鉆石懸浮液 | 1µm、3µm能力和水平、6µm覆蓋、9µm、15µm | 鉆石粒子進(jìn)行拋光可以得到速度及平面研究。 |
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Bio Diamante 單晶鉆石懸浮液 | 1µm高效、3µm 6µm、9µm | 較高黏性的攜帶液提高，消耗量較少機構， 適合低使用量的客戶使用的特性。 |
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多晶鉆石懸浮液 | 0.5µm、1µm基礎、3µm提供堅實支撐、 6µm、9µm高產、15µm | 鉆石粒子進(jìn)行拋光可以得到 速度及平面信息化技術。 |
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拋光 |
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Bio Diamante 多晶鉆石懸浮液 | 1µm、3µm 6µm良好、9µm | 較高粘性的攜帶液逐步顯現，消耗量較少， 適合低使用量的客戶使用引領。 |
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鉆石高 | 1µm自動化裝置、3µm、6µm占、9µm | 鉆石懸浮液前使用發展空間，較高的鉆石濃度與懸浮比提供較佳的磨削率 |
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氧化物 | 氧化鋁粉 | 0.05µm首要任務、0.3µm、1µm、3µm最為顯著、5µm | 對(duì)于軟質(zhì)及具有延展性者，有的良好拋光品質(zhì)如印刷電路板參與能力，塑膠材料體系流動性。 |
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拋光 | 最終拋光液 | 0.05µm、膠質(zhì)溶液 | 膠質(zhì)溶液不會(huì)刮傷樣品研究成果，并提供令人滿意的拋光效果取得了一定進展。 |
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拋光 | 拋光布 | 粗拋光 、細(xì)拋光 | 具有良好的柔軟度及彈性大面積，能有效的 避免樣品刮傷積極參與，表面的絨毛可以大量?jī)?chǔ)存拋光液，提高拋光效率培養。 |
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備注：耗材詳細(xì)資料交流研討，請(qǐng)參考 |
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