系統(tǒng)組成：電子光學(xué)系統(tǒng)（掃描電子顯微鏡）同期、圖形發(fā)生器生產效率、精密工件臺(tái)、控制系統(tǒng)效果、真空系統(tǒng)使用、精密電源。

主要應(yīng)用：

1：半導(dǎo)體器件研究：微波晶體管密度增加，單電子晶體管有效性，量子點(diǎn)，超導(dǎo)環(huán)等

2：光電子器件研究：特種光柵機遇與挑戰，菲涅爾波帶板廣泛關註，晶體檢波器，光波導(dǎo)不負眾望，光集成器件

3：微機(jī)械研究：微納機(jī)電系統(tǒng)高效流通，微通道，微傳感器精準調控，3D微結(jié)構(gòu)

4：消費(fèi)電子研究：全息光學(xué)元件功能，新一代DVD光，光學(xué)傳感器解決，磁頭預期，聲表面波器件

5：其他研究：非生產(chǎn)掩膜板制作，圖形位置標(biāo)定和CD測量
    納米圖形發(fā)生器DY-2000是電子束納米曝光系統(tǒng)DY-2000的核心部件幅度，由電工研究所自主研發(fā)結構、生產(chǎn)。吸納了近年來數(shù)字信號(hào)處理的成果,利用高性能數(shù)字信 號(hào)處理器(DSP)將要曝光的單元圖形拆分成線條和點(diǎn),然后通過優(yōu)化設(shè)計(jì)的數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,將數(shù)字量轉(zhuǎn)化成高精度的模擬量,驅(qū)動(dòng)掃描電鏡的偏轉(zhuǎn)器,實(shí)現(xiàn)電子束的掃描貢獻。 

                                
 
  為此目的特構(gòu)建了x方向和y方向兩組數(shù)模轉(zhuǎn)換電路,每組包括1個(gè)16位主數(shù)模和3個(gè)16位乘法數(shù)模規模最大。通過圖形發(fā)生器可以對標(biāo)準(zhǔn)樣片進(jìn)行圖像采集,進(jìn)行掃描場的線性畸變校正,包括掃描場增益穩中求進、旋轉(zhuǎn)和位移校正。另外,圖形發(fā)生器還可以控制束閘的通斷最深厚的底氣。配合精密定位工件臺(tái)和激光干涉儀,可以實(shí)現(xiàn)曝光場的拼接協同控製。通過檢測芯片的標(biāo)記,還可以實(shí)現(xiàn)曝光圖形的套刻，利用配套軟件既可以新建曝光圖形,也可以導(dǎo)入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,進(jìn)行曝光參數(shù)設(shè)置品質、圖形修正利用好、圖形分割、鄰近效應(yīng)修正等工作解決問題，然后將曝光圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換成圖形發(fā)生器可以識(shí)別的EDF文件,完成曝光圖形的準(zhǔn)備工作系列。
圖形發(fā)生器可直接處理的單元圖形包括:矩形、梯形相互配合、折線慢體驗、點(diǎn)、圓及圓環(huán)智能化。圖形發(fā)生器可利用掃描電鏡/聚焦離子束/掃描透射電鏡的外接掃描口重要組成部分、束流測量裝置和二次電子檢測輸出等而使其升級(jí)獲得微納米圖形制作的功能并且不損失電鏡原來的任何功能。結(jié)合掃描電鏡/聚焦離子束/掃描透射電鏡上的其他功能如電子束閘開關(guān)合作、馬達(dá)驅(qū)動(dòng)樣品臺(tái)和電子光學(xué)數(shù)字控制接口則可以為圖形制作增加圖形的精確性和操作的方便性勃勃生機。

    DY-2000A納米圖形發(fā)生器硬件
     硬件系統(tǒng)構(gòu)成 

    1、高速DSP微控制單元

     DY-2000A采用66MHZ主頻的16位DSP極致用戶體驗，指令執(zhí)行速度75MIPS提供有力支撐，其優(yōu)異的信號(hào)處理能力保證了曝光過程的速度和結(jié)果的精度。工作溫度-40  ℃---85 ℃, 使其在遠(yuǎn)高于實(shí)驗(yàn)室環(huán)境溫度下能正常工作適應性強。供電電壓僅需2.25v—3.6v.  低功耗技術交流，高穩(wěn)定性。

    2拓展、圖像采集模塊
     圖像采集部分我們選用新一代高性能創造更多，12位模數(shù)轉(zhuǎn)換器，僅需單電源供電不斷進步。具有真12位線性度工藝技術，溫度漂移小。具有獨(dú)立完整的ADC規模，內(nèi)置高性能近年來，低噪聲的采樣放大器，在額 定數(shù)據(jù)處理中提供真12位精度發展目標奮鬥，不存在失真現(xiàn)象技術先進。

    3、電源模塊
     電源部分包括模擬和數(shù)字兩部分
     模擬部分：模擬電路和所有放大器電路主要采用線性電源，利用其輸出純凈性高認為，防電磁干擾能力強(qiáng)服務好，紋波小，調(diào)整率好反應能力。缺點(diǎn)就是體積大發展邏輯，發(fā)熱量偏高 。
     數(shù)字部分：采用線性電源和開關(guān)電源配合使用有所提升，需要效率高的采用開關(guān)電源，需要精度高的采用線性電源新的力量。

    4先進水平、恒溫模塊
?   我們在X，Y在高精度的數(shù)模轉(zhuǎn)換全面展示，DSP信號(hào)處理和刻寫場修正電路等部分做了恒溫處理重要平臺。

?   線性電源部分我們充分采用控溫和散熱處理。

?   DY-2000A抗干擾箱我們做了溫控處理核心技術。

    5應用提升、顯示控制單元
     基于EBL曝光全過程是在電鏡腔體中進(jìn)行，我們無法直觀的觀其過程創造性。 因此發展的關鍵，我們在機(jī)箱上采用5.6寸LED液晶顯示屏，特點(diǎn)是可以直觀的性能，實(shí)時(shí)的跟蹤曝光過程多種方式，同時(shí)還可以根據(jù)圖形的顯示來判斷和提高曝光參數(shù)的設(shè)置。

    6技術創新、信號(hào)輸入深入交流研討、輸出I/O模塊

 ?   X,Y方向偏轉(zhuǎn)的數(shù)模信號(hào)：采用進(jìn)口BNC插頭配防干擾屏蔽線。

 ?   電鏡圖像信號(hào)的采樣 ：   采用進(jìn)口BNC插頭配防干擾屏蔽線來接入

 ?   束閘控制和SEM遠(yuǎn)程控制：采用進(jìn)口BNC插頭配防干擾屏蔽線來輸出

 ?   與PC軟件的通信：采用320M并口傳輸廣泛應用，傳輸速度快關註度，信號(hào)糾錯(cuò)能力強(qiáng)還能同時(shí)進(jìn)行多任務(wù)操作。

    7哪些領域、束閘輸出模塊
     束閘輸出信號(hào)為0v和5v TTL電平敢於挑戰，帶負(fù)載能力強(qiáng)，用于驅(qū)動(dòng)高速通斷的束閘控制器建立和完善。

    8探索、防電磁干擾模塊

 ?   獨(dú)立完整的X方向數(shù)模轉(zhuǎn)換和控制部分和獨(dú)立完整的Y方向數(shù)模轉(zhuǎn)換和控制部分，同時(shí)為其分別安排了屏蔽的小黑盒產業。

 ?   線性電源和開關(guān)電源滿意度，均做了獨(dú)立的防干擾和屏蔽的處理。

    硬件技術(shù)參數(shù)