SD-CEW-2000型H/S手動(dòng)熒光磁粉探傷機(jī)

設(shè)備設(shè)計(jì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)：

2.1非常完善、按照J(rèn)B/T8290-2011《磁粉探傷機(jī)》標(biāo)準(zhǔn)性能穩定；

2.2、按照GB/T15822.3-2005《磁粉檢測第三部分：設(shè)備》緊密協作；

2.3越來越重要、按照GB/5226.1-2002《機(jī)械安全 機(jī)械電器設(shè)備通用技術(shù)條件》線上線下；

2.4發揮重要作用、根據(jù)用戶現(xiàn)場生產(chǎn)工藝；

2.5數據顯示、根據(jù)甲乙雙方簽訂的本技術(shù)方案或協(xié)議高質量。

設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

3.1、磁化方式：周向更多的合作機會、縱向延伸、復(fù)合三種磁化方式；

3.2、周向磁化電流：AC  0-2000A    有效值新趨勢，連續(xù)可調(diào)反應能力，斷電相位控制；

3.3學習、縱向磁化磁勢：AC  0-12000AT  有效值結構重塑，連續(xù)可調(diào)，斷電相位控制應用優勢；

3.4高質量發展、電極夾距：約50-600mm 可調(diào)節(jié)；電極夾緊行程50mm高效節能；

3.5影響力範圍、暫載率：30%；

3.6新創新即將到來、夾緊方式：氣動(dòng)夾緊邁出了重要的一步；

3.7、轉(zhuǎn)動(dòng)方式：電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)設施；

3.8發展的關鍵、運(yùn)行方式：手動(dòng)、自動(dòng)

3.9規模設備、探傷靈敏度：A1型標(biāo)準(zhǔn)試片15/50顯示清晰真諦所在；

3.10、退磁方式：自動(dòng)衰減法退磁競爭力；

3.11充分、退磁效果：≤0.3mT（即3Gs）；

3.12集聚、紫外燈照度：LED黑光燈距工件表面380mm處不小于3000uW/cm2競爭力；

3.13、外形尺寸：約1700mm (L)×800mm (W)×1200mm (H)狀況；

3.14機製性梗阻、重量：1100Kg。

3.15建立和完善、氣源0.5-0.7MPa（用戶自備提供了遵循，流量0.16立方/分鐘，接口管徑8mm）

3.16大型、電源：380V±10%  50Hz  用3*6+1*2平方銅芯電纜服務效率；

3.17、檢測節(jié)拍：20秒/件重要意義。

3.18統籌發展、工藝流程：人工將工件放到探傷機(jī)上→夾緊（氣缸）→噴液（電機(jī)）→磁化→觀察裂紋（電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)）→退磁→人工下料深化涉外。