擴(kuò)展非破壞性納米尺度成像的范圍和價值
使用蔡司Xradia 810 Ultra X射線顯微鏡實現(xiàn)低至50 nm的空間分辨率，這是基于實驗室的X射線成像系統(tǒng)中的使命責任。 通過非破壞性3D成像體驗的性能和靈活性效果，在當(dāng)今的突破性研究中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。 創(chuàng)新的Xradia Ultra架構(gòu)采用的X射線光學(xué)系統(tǒng)合規意識，采用同步加速器技術(shù)密度增加，具有吸收和相位對比。 現(xiàn)在能量為5.4 keV創新內容，您可以將納米級成像的吞吐量提高10倍機遇與挑戰。使用Xradia 810 Ultra的低能量，為中低Z樣品實現(xiàn)更好的對比度和圖像質(zhì)量服務延伸。 期望在不同條件下實現(xiàn)的原位和4D能力共創輝煌，以研究結(jié)構(gòu)演變。 利用3D X射線成像擴(kuò)展材料研究調解製度，生命科學(xué)精準調控，自然資源和各種工業(yè)應(yīng)用的探索極限。
高分辨率應用的因素之一，更高對比度解決，更快
蔡司解決方案在實驗室儀器中提供世界上的非破壞性3D X射線成像，分辨率低至50 nm敢於監督。除了吸收和Zernike相位對比外幅度，蔡司Xradia 810 Ultra采用了從同步加速器改進(jìn)的光學(xué)系統(tǒng)，為您的研究提供業(yè)界的分辨率和對比度重要的作用。這種創(chuàng)新儀器通過為您的傳統(tǒng)成像工作流程添加關(guān)鍵的非破壞性步驟貢獻，實現(xiàn)了突破性研究。
通過為5.4 keV的研究提供更高的對比度穩中求進，Xradia 810 Ultra可以為各種難以成像的材料提供高分辨率的X射線成像統籌。通過吸收和相襯來優(yōu)化您的成像，適用于各種材料協同控製，如聚合物振奮起來，氧化物，復(fù)合材料利用好，燃料電池深入各系統，地質(zhì)樣品和生物材料解決問題。 ZEISS XRM在同步加速器和實驗室設(shè)施中進(jìn)行了納米級X射線成像，提供了突破性的解決方案作用，幫助您將研究放在研究的相互配合。
通過使納米級X射線成像速度提高一個數(shù)量級，Xradia 810 Ultra可以優(yōu)化XRM的商業(yè)案例著力增加，無論您的工作是針對科學(xué)還是工業(yè)智能化。對于顯微鏡實驗室而言，更快的工作流程轉(zhuǎn)化為允許更多用戶在更短的時間內(nèi)利用儀器的能力流程，從而將XRM擴(kuò)展到更廣泛的用戶群合作。同樣勃勃生機，您可以快速執(zhí)行和重復(fù)內(nèi)部結(jié)構(gòu)的4D和原位研究深刻變革，使這些技術(shù)適用于更多應(yīng)用。如果您的應(yīng)用非常有針對性和諧共生，例如用于探索石油和天然氣開采可行性的數(shù)字巖石物理質生產力，Xradia 810 Ultra可提供可用于在幾小時內(nèi)表征關(guān)鍵參數(shù)(如孔隙度)的測量數(shù)據(jù)。
優(yōu)點
在實驗室中可獲得的分辨率 - 低至50納米的3D X射線成像
非破壞性3D X射線成像允許對同一樣品進(jìn)行重復(fù)成像技術交流，以便直接觀察微觀結(jié)構(gòu)的演變
吸收和Zernike相位對比成像各種材料 - 中等到低Z先進的解決方案，碳酸鹽到頁巖，組織到生物力學(xué) - 在納米尺度上快10倍
無需研究人員對同步加速器的有限訪問或使同步加速器時間更有效的挑戰(zhàn)創造更多，您的實驗室就會產(chǎn)生同步加速器
基于更快的圖像采集時間提高經(jīng)濟(jì)效益宣講活動，將中心顯微鏡實驗室的范圍擴(kuò)大到更廣泛的研究人員
可切換的視野范圍為16至65μm，您的成像需求
在原位設(shè)備內(nèi)對樣品進(jìn)行成像時保持高分辨率
用于斷層攝影重建的自動圖像對準(zhǔn)
在您的實驗室中開發(fā)工藝技術，準(zhǔn)備和測試您計劃的同步加速器實驗效率，以提高同步加速器光束時間的有效性
現(xiàn)在，Scout-and-Scan控制系統(tǒng)具有簡單的基于工作流程的用戶界面近年來，非常適合成像實驗室講道理，用戶可以擁有各種各樣的經(jīng)驗水平
