本產(chǎn)品適用于材料及產(chǎn)品的應(yīng)力釋放重要意義，特別是晶圓或者微電子材料的應(yīng)力釋放

本產(chǎn)品適用于材料及產(chǎn)品的應(yīng)力釋放交流等，特別是晶圓或者微電子材料的應(yīng)力釋放。在高溫環(huán)境中，半導(dǎo)體及金屬材料極易氧化提高，所以需要抽真空與充氮?dú)饴?lián)動(dòng)加以保護(hù)可以使用。同樣的這些材料也更容易受到灰塵污染，100級(jí)甚至更高的潔凈度可保護(hù)這些材料不被污染紮實。

 潔凈度保證方式： 采用耐高溫高效過濾器應用領域， 過濾率0.3μm粒子99.97％以上。槽內(nèi)空氣在強(qiáng)制送風(fēng)機(jī)的驅(qū)動(dòng)下進行培訓，每一次循環(huán)都通過過濾器，槽內(nèi)的顆粒逐漸的被過濾

      氧濃度控制方式：   采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣長效機製。

    為提高生產(chǎn)效率法治力量，開始進(jìn)N2時(shí)，2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi)分享，氧濃度到達(dá)后共享，變?yōu)樾?/p>

流量維持，且進(jìn)N2與排N2平衡的方式方式之一，既把槽內(nèi)的空氣生動、廢氣排走，又保證槽內(nèi)是

一微正壓創新能力，防止環(huán)境空氣進(jìn)入新品技。

氧濃度控制方式：   采用先抽真空后進(jìn)高純度N2置換槽內(nèi)空氣。

    為提高生產(chǎn)效率求得平衡，開始進(jìn)N2時(shí)深入交流，2路N2同時(shí)進(jìn)入槽內(nèi)，氧濃度到達(dá)后加強宣傳，變?yōu)樾?/p>

流量維持臺上與臺下，且進(jìn)N2與排N2平衡的方式，既把槽內(nèi)的空氣技術發展、廢氣排走集聚效應，又保證槽內(nèi)是

一微正壓，防止環(huán)境空氣進(jìn)入重要手段。