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HGK系列真空管式氣氛爐（1600℃ ） 1600℃真空管式氣氛爐

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公司名稱 上海環(huán)試電子科技有限公司
品牌
型號 HGK系列真空管式氣氛爐（1600℃
所在地上海
廠商性質(zhì) 其他
更新時間 2024/10/18 17:48:35
訪問次數(shù) 41

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動化提單產，降低對人的依賴度；傳統(tǒng)的塑膠模具開模后產(chǎn)品與澆口相連至關重要，需二道工序進行人工剪切分離發展空間，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開模前效果，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動化足了準備，降低對人的依賴合作關系。

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HGK1600℃真空管式氣氛爐的詳細資料：這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成深刻內涵，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)傳遞、三溫區(qū)、多溫區(qū)）深入闡釋，可預抽真空（有高真空相關性、低真空），通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）

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HGK1600℃真空管式氣氛爐的詳細資料：
這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐物聯與互聯，多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成穩定，可根據(jù)用戶需要設(shè)計生產(chǎn)（有雙溫區(qū)、三溫區(qū)紮實、多溫區(qū)）效高化，可預抽真空（有高真空、低真空）投入力度，通多種氣氛（供氣系統(tǒng)有質(zhì)子流量器和浮子流量控制器）創造。性能可靠∝暙I法治？刂齐娐愤x用模糊PID程控技術(shù)設備製造，具有控溫精度高，溫沖幅度小攻堅克難，性能可靠管理，簡單易操作等特點。CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝流程，如碳化硅鍍膜合作、陶瓷基片導電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長助力各業、陶瓷電容（MLCC）氣氛燒結(jié)等實驗極致用戶體驗。

高真空管式爐	爐管尺寸	外徑Φ60×1000mm,Φ80×1000mm,Φ100×1000mm
	極限溫度	1600 ℃
	工作溫度	800 -1500 ℃
	溫度控制器	PID自動控制晶閘管（可控硅）輸出功率， 50段可編程控制器
	升降溫速率	1400℃以下≤10℃/min應用，1400℃到1600℃≤5℃/min
	加熱區(qū)	360mm
	恒溫區(qū)	150mm
	溫度精度	±1 ℃
	電源	單相220V,交流50Hz
多通道流量計控制系統(tǒng)	標準量程	100建議，200 ，500相貫通，1000SCCM不斷發展；（以氮氣標定，除以上標準外量程可選）
	準確度	±1.5%
	工作壓差范圍	0.01～0.05 MPa
	壓力	0.02MPa
	接頭類型	Φ6雙卡套不銹鋼接頭
高真空系統(tǒng)	泵體積流量N₂	33 L/S
	壓縮比	10:11
	實驗真空值	6.710-3Pa（8.010-4Pa）
	功率消耗	140W
	啟動時間	2min
	電源要求：	185-265VAC