主要特點：

　　手動轉塔;

　　無摩擦主軸前沿技術，試驗力精度高;

　　高精度光學測量系統，精密座標試臺;

　　中/英文界面轉換;

　　試驗過程自動化性能，操作簡單多種方式，無人為操作誤差;

　　可選配努氏壓頭進行努氏硬度試驗;

　　可選配CCD攝像裝置及圖像處理系統;

　　精度符合GB/T4340.2 ISO6507-2和美國ASTM E384。

　　應用范圍：

　　滲碳層技術創新、陶瓷深入交流研討、鋼資料、有色金屬;

　　薄板、金屬薄片實現了超越、電鍍層新產品、微小試件;

　　氮化層、滲碳層和淬火硬化層的深度測量;

　　適用于平行平面和微小零件及超薄零件的精密顯微維氏硬度測量橋梁作用。

　　硬度范圍 5-3000HV

　　試驗力 0.09807長遠所需、0.2452、0.4903讓人糾結、0.9807規模、1.961、2.942基石之一、4.903聯動、9.807牛頓

　　(10、25共同努力、50生產體系、100、200很重要、300能力和水平、500、1000克力)

　　硬度標尺 HV0.01異常狀況、HV0.025研究、HV0.05、HV0.1應用創新、HV0.2提高、HV0.3、HV0.5的特性、HV1

　　總放大倍率： 400X(測量)交流、100X(觀察)

　　分辨率：0.25um

　　測量范圍 200um

　　精度 符合GB/T4340.2--1999

　　試樣允許高度： 75mm

　　壓頭中心至機壁距離：110mm

　　電源 交流220伏，50/60赫茲

　　外形尺寸 470*320*500mm

　　重量 約40千克

　　標準配備：

　　座標試臺：(臺面尺寸100*100mm提供堅實支撐、行程25*25mm還不大、測微頭分度值0.01mm)1個

　　細軸試臺：1個 薄板試臺：1個 平口鉗：1個 大、小V型塊：各1個

　　金剛石角錐壓頭：1個 標準顯微硬度塊：2塊

　　任選配置：

　　努普壓頭 CCD維氏圖像處理系統