1.產(chǎn)品名稱及型號：X射線金屬成份分析光譜儀X－1200系列2.制造商：深圳市啟誠儀器設備有限公司3.產(chǎn)品圖片：4.工作條件n工作溫度：15-30℃n相對濕度：≤80%n電源：AC:220V±5Vn功率：300W+550W5.技術性能及指標:n元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)

1. 產(chǎn)品名稱及型號： X射線金屬成份分析光譜儀X－1200系列

2. 制造商：深圳市啟誠儀器設備有限公司

3. 產(chǎn)品圖片：

4. 工作條件

n 工作溫度：15-30℃

n 相對濕度：≤80%

n 電    源：AC: 220V ±5V  

n 功    率：300W + 550W  

5. 技術性能及指標:

n 元素分析范圍從鈉(Na)到鈾(U)研究；

n 元素含量分析范圍為1ppm到99%；

n 測量時間：40-120秒應用創新；

n 主含量多次測量重復性可達0.1％提高；

n 多準直器自動交換，滿足更多分析要求的特性；

n 探測器能量分辨率為125±5eV交流；

n 溫度適應范圍為15℃~30℃；

n 電源：交流220V±5V（建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源提供堅實支撐。）還不大；

n 多變量非線性去卷積曲線擬合；

n 高斯平滑濾波校正信息化技術；

n 高性能FP軟件發揮作用、MLSQ分析；

n  一次可同時分析25個元素逐步顯現；

n 直接檢測銘記囑托，不需要前處理，數(shù)據(jù)實時顯示自動化裝置；操作簡單方便示範；

三、產(chǎn)品配置、功能運行好、分析精度及穩(wěn)定性

（一）產(chǎn)品配置：

1.硬件：主機壹臺首次，含下列主要部件：

(1) X光管；

(2) 電制冷半導體探測器（SDD）統籌推進；

(3) 高壓電源方案；

(4) 準直器（多準直器自動更換）；

(5) 控制系統(tǒng)了解情況；

(6) 濾光片深入；

(7) 樣品臺；

(8) 樣品腔 195mm*195mm×50mm 重要的；

(9) 儀器尺寸 590*400*370mm

(10）真空泵/SMC真空電磁閥/真空壓力表等

2. 軟件：啟誠X熒光光譜儀成份分析軟件V6.0

3. 計算機一臺：品牌：聯(lián)想

注：如需選配打印機和穩(wěn)壓電源開展研究，價格需另計。

（二）功能相互融合、分析精度及穩(wěn)定性(以銅合金為例)：

銅合金成份分析;

同時可擴展分析鎂合金首要任務、鋁合金、鐵合金更加完善、鉛錫合金等其他合金形式，需要時需做必要的技術交流。

暫時不能分析元素H, He, Li, Be, B, C, N, O支撐作用；

分析精度及穩(wěn)定性：

1）F日漸深入、Cl、Br同時、I的檢測（項目要求可針對產(chǎn)品RoHS檢測要求）這些元素的檢測限為1-3pmm對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

    A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

2） Cu, Zn, Fe,  Ni, Pb, Mn, Ti, W, Au, Ag, Hg,Sn等重金屬含量的檢測限達10～20ppm互動式宣講，對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

3） Mg，Al,Cr,Cd, P, Br,S, Si, As等金屬成份含量的檢測限達30ppm模式，對這些金屬測試分析穩(wěn)定的讀取允許差值本儀器已達到下列標準：

A. 檢測含量大于5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.1%

B. 檢測含量在0.5～5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.05%

C. 檢測含量在0.1～0.5%的元素穩(wěn)定的測試讀取差值小于0.03%

D. 檢測含量低于0.1%的元素測試讀取變化率小于10%

4）. 鋼鐵材料中除C自動化，S外的元素分析；

5）. 可以檢測分析樣品狀態(tài)：液體高品質，固體不折不扣，粉末。

四資源優勢、產(chǎn)品優(yōu)勢及軟件說明

（一）. 產(chǎn)品優(yōu)勢

1． 可進行氯有效保障、溴離子檢測、金屬離子分析檢測長效機製，一機多用省投資

2． 可檢測固體講實踐、液體、粉末狀態(tài)材料

3． 能檢測分析多達60多種元素奮戰不懈，一次檢測可顯示25種元素針對銅市場開拓、鐵措施、鋅、不銹鋼等任意基體做成分分析

4． 運行及維護成本低要落實好、無易損易耗品緊密相關，對使用環(huán)境相對要求低

5． 可進行未知標樣掃描、無標樣定性先進技術，半定量分析

6． 操作簡單培訓、易學易懂、精準無損宣講手段、高品質重要工具、高性能、高穩(wěn)定性配套設備，快速出檢測結果（40-120秒）

7． 可針對客戶個性化要求量身定做輔助分析配置硬件

8． 軟件升級

9． 眾多非常激烈，媲美國外發(fā)達國家之同類設備

10．無損檢測，一次性購買標樣可使用

11．使用安心無憂引人註目，售后服務響應時間24H以內領域，提供保姆式服務

（二）軟件說明

1．儀器工作原理說明

l XRF就是X射線熒光光譜分析儀(X Ray Fluorescence Spectrometer) 。 人們通常把X射線照射在物質上而產(chǎn)生的次級X射線叫X射線熒光 好宣講，而把用來照射的X射線叫原級X射線註入新的動力。

l 當能量高于原子內層電子結合能的高能X射線與原子發(fā)生碰撞時，驅逐一個內層電子而出現(xiàn)一個空穴，使整個原子體系處于不穩(wěn)定的激發(fā)態(tài)雙重提升，激發(fā)態(tài)原子壽命約為10-12~10-14S，然后自發(fā)地由能量高的狀態(tài)躍遷到能量低的狀態(tài)長遠所需。

l 當較外層的電子躍入內層空穴所釋放的能量不在原子內被吸收求索，而是以輻射形式放出讓人糾結，便產(chǎn)生X射線熒光(特征X射線)規模，其能量等于兩能級之間的能量差。 

l 特征X射線熒光產(chǎn)生：  碰撞→躍遷↑(高) →空穴→躍遷↓(低)

l 不同元素發(fā)出的特征X射線熒光能量和波長各不相同基石之一，因此通過對其的能量或者波長的測量即可知道它是何種元素發(fā)出的聯動，進行元素的定性分析。線強度跟這元素在樣品中的含量有關共同努力，因此測出它的強度就能進行元素的定量分析行業內卷。

l 通過實驗驗證，在一定范圍內逐漸完善，鍍層越厚參與能力，測試的X熒光的強度越大；但當鍍層厚度達到一定值時是目前主流，測試的X熒光的強度將不再變化充分發揮。換而言之高質量，就是鍍層厚度測試是有限的，過厚的鍍層樣品將被視為無限厚選擇適用。

l 由于X射線具有穿透性管理，多鍍層分析時，每一層的特征X射線在出射過程中業務指導，都會互相產(chǎn)生干擾改進措施。隨著鍍層層數(shù)的增加，越靠近內層的鍍層的檢測誤差越大積極性；同時外層鍍層由于受到內層鍍層的影響奮勇向前，測試精度也將大大下降。為解決多鍍層的影響約定管轄，在實際應用中數據，多采用實際相近的鍍層樣品進行比較測量（即采用標準曲線法進行對比測試的方法）來減少各層之間干擾所引起的測試精度問題。

2. 軟件工作架構圖

X－1200型號光譜儀采用了目前國際上的軟件算法發揮，基本參數(shù)法（FP）顯著，在多種類合金分析中，適應性更廣開放以來。啟誠公司經(jīng)過近10年的開發(fā)和完善占，使軟件已經(jīng)具備了完善的使用內容外，還具備強大的教學和科研開發(fā)功能提供了有力支撐。

下面是關于光譜儀和軟件的簡單介紹：

X-1200型號光譜儀軟件算法的主要處理方法

1) Smoothing譜線光滑處理

2) Escape Peak Removal 逃逸峰去除

3) Sum Peak Removal  疊加峰去除

4) Background Removal  背景勾出

5) Blank Removal  空峰位去除

6) Intensity Extraction  強度提取

7) Peak Integration  圖譜整合

8) Peak Overlap Factor Method  波峰疊加因素方法

9) Gaussian Deconvolution  高斯反卷積處理

10) Reference Deconvolution  基準反卷積處理

軟件開發(fā)的過程中我們參考了如下文獻（FP References）

(a) “Principles and Practice of X-ray Spectrometric Analysis,” 2nd Edition, by E.P. Bertin, Plenum Press, New York, NY (1975).

(b) “Principles of Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” by R. Tertian and F. Claisse, Heyden & Son Ltd., London, UK (1982).

(c) “Handbook of X-Ray Spectrometry: Methods and Techniques,” eds. R.E. van Grieken and A.A. Markowicz, Marcel Dekker, Inc., New York (1993).

(d)“An Analytical Algorithm for Calculation of Spectral Distributions of X-Ray Tubes for Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 14 (3), 125-135 (1985).

(e)“Addition of M- and L-Series Lines to NIST Algorithm for Calculation of X-Ray Tube Output Spectral Distributions,” P.A. Pella, L. Feng and J.A. Small, X-Ray Spectrometry 20, 109-110 (1991).

(f)“Quantification of Continuous and Characteristic Tube Spectra for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, J. Wernisch, Ch. Poehn and H. Wiederschwinger, X-Ray Spectrometry 18, 89-100 (1989).

(g)“An Algorithm for the Description of White and Characteristic Tube Spectra (11 ≤ Z ≤ 83, 10keV ≤ E0 ≤ 50keV),” H. Ebel, H. Wiederschwinger and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(h)“Spectra of X-Ray Tubes with Transmission Anodes for Fundamental Parameter Analysis,” H. Ebel, M.F. Ebel, Ch. Poehn and B. Schoβmann, Advances in X-Ray Analysis, 35, 721-726 (1992).

(i)“Comparison of Various Descriptions of X-Ray Tube Spectra,” B. Schoβmann, H. Wiederschwinger, H. Ebel and J. Wernisch, Advances in X-Ray Analysis, 39, 127-135 (1992).

(j)“Relative Intensities of K, L and M Shell X-ray Lines,” T.P. Schreiber & A.M. Wims, X-Ray Spectrometry 11(2), 42 (1982).

(k)“Calculation of X-ray Fluorescence Cross Sections for K and L Shells,” M.O. Krause, E.Ricci, C.J. Sparks and C.W. Nestor, Adv. X-ray Analysis, 21, 119 (1978).

(l)X-Ray Data Booklet, Center for X-ray Optics, ed. D. Vaughan, LBL, University of California, Berkeley, CA 94720 (1986).

(m) “Revised Tables of Mass Attenuation Coefficients,” Corporation Scientifique Claisse Inc., 7, 1301 (1977).

(n)"Atomic Radiative and Radiationless Yields for K and L shells," M.O. Krause, J. Phys. Chem. Reference Data 8 (2), 307-327 (1979).

(o)“The Electron Microprobe,” eds. T.D. McKinley, K.F.J. Heinrich and D.B. Wittry, Wiley, New York (1966).

(p)“Compilation of X-Ray Cross Sections,” UCRL-50174 Sec II, Rev. 1, Lawrence Radiation Lab., University of California, Livermore, CA (1969).

(q)“X-ray Interactions: Photoabsorption, Scattering, Transmission, and Reflection at E = 50-30,000 eV, Z = 1-92,” B.L. Henke, E.M. Gullikson and J.C. Davis, Atomic Data and Nuclear Tables, 54, 181-342 (1993).

(r)“Reevaluation of X-Ray Atomic Energy Levels,” J.A. Bearden and A.F. Burr, Rev. Mod. Phys., 39 (1), 125-142 (1967).

(s)“Fluorescence Yields, ?k (12 ≤ Z ≤ 42) and ?l3 (38 ≤ Z ≤ 79), from a Comparison of Literature and Experiments (SEM),” W. Hanke, J. Wernisch and C. Pohn, X-Ray Spectrometry 14 (1),43 (1985).

(t)“Least-Squares Fits of Fundamental Parameters for Quantitative X-Ray Analysis as a Function of Z (11 ≤ Z ≤ 83) and E (1 ≤ E ≤ 50 keV),” C. Poehn, J. Wernisch and W. Hanke, X-Ray Spectrometry 14 (3),120 (1985).

(u)“Calculation of X-Ray Fluorescence Intensities from Bulk and Multilayer Samples,” D.K.G. de Boer, X-Ray Spectrometry 19, 145-154 (1990).

(v)“Theoretical Formulas for Film Thickness Measurement by Means of Fluorescence X-Rays,” T. Shiraiwa and N. Fujino, Adv. X-Ray Analysis, 12, 446 (1969).

(w)“X-Ray Fluorescence Analysis of Multiple-Layer Films,” M. Mantler, Analytica Chimica Acta, 188, 25-35 (1986).

(x)“General Approach for Quantitative Energy Dispersive X-ray Fluorescence Analysis Based on Fundamental Parameters,” F. He and P.J. Van Espen, Anal. Chem., 63, 2237-2244 (1991).

(y)“Quantitative X-Ray Fluorescence Analysis of Single- and Multi-Layer Thin Films,” Thin Solid Films 157, 283 (1988).

(z)“Fundamental-Parameter Method for Quantitative Elemental Analysis with Monochromatic X-Ray Sources,” presented at 25th Annual Denver X-ray Conference, Denver, Colorado (1976).

3．軟件界面

1）圖譜界面

圖譜界面可以任意調整大小激發創作，便于在研發(fā)過程中盲樣分析時對各種元素的尋找。

參數(shù)設定界面

包含了盡量多的參數(shù)設定窗口進一步意見，可以方便使用人員增幅最大，尤其是研發(fā)人員對軟件和分析結果狀態(tài)的了解。