具有重要意義，納米材料科學(xué)與工程已經(jīng)成為世界性的研究熱點(diǎn)，在研究納米材料的表面改性時(shí)大部分，往往要涉及潤(rùn)濕接觸角這個(gè)概念強大的功能。所謂接觸角是指在一固體水平平面上滴一液滴，固體表面上的固－液－氣三相交界點(diǎn)處解決方案，其氣－液界面和固－液界面兩切線把液相夾在其中時(shí)所成的角優勢。
表面能是創(chuàng)造物質(zhì)表面時(shí)對(duì)分子間化學(xué)鍵破壞的度量。在固體物理理論中增產，表面原子比物質(zhì)內(nèi)部的原子具有更多的能量便利性，因此，根據(jù)能量原理行動力，原子會(huì)自發(fā)的趨于物質(zhì)內(nèi)部而不是表面提供有力支撐。表面能的另一種定義是，材料表面相對(duì)于材料內(nèi)部所多出的能量保供。
液體表面任意二相鄰部分之間垂直于它們的單位長(zhǎng)度分界線相互作用的拉力自行開發。表面張力的形成同處在液體表面薄層內(nèi)的分子的特殊受力狀態(tài)密切相關(guān)。表面張力的存在形成了一系列日常生活中可以觀察到的特殊現(xiàn)象責任。
儀器應(yīng)用領(lǐng)域
TFT-LCD面板行業(yè)：玻璃面板潔凈度與鍍膜質(zhì)量測(cè)量應用情況；TFT打印電路、彩色濾 光片組建、 ITO導(dǎo)體膠卷等前涂層質(zhì)量測(cè)量
印刷表現、塑膠行業(yè)：表面清潔與附著質(zhì)量測(cè)量；油墨附著度測(cè)量深刻變革；膠水膠體性質(zhì)相容性測(cè)量結論；染料的緊扣度
半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)：晶圓的潔凈度測(cè)量；HMDS的處理控制質生產力；CMP的研究測(cè)量適應性強、光阻與顯影劑的研究
化學(xué)材料研究：防水與親水性能材料研究探討；表面活性與清潔劑的張力處理、濕性建設；黏性增強(qiáng)與附著表面能測(cè)量
IC封裝：基質(zhì)表面潔凈度重要的；原子合成氧化識(shí)別；BGA焊接表面姿勢；環(huán)氧化物的附著度測(cè)量
儀器介紹
本公司儀器采用現(xiàn)代化工藝制造相互融合，儀器采用的專用CCD數(shù)字?jǐn)z像機(jī)，配倍高分辨率變焦式顯微鏡和高亮度LED背景光源系統(tǒng)綠色化，搭配三維樣品臺(tái)不同需求，可進(jìn)行工作臺(tái)上下、左右保持穩定、前后等方向移動(dòng)總之。實(shí)現(xiàn)微量進(jìn)樣及上下、左右精密移動(dòng)支撐作用。同時(shí)還設(shè)計(jì)了伸縮桿結(jié)構(gòu)工作臺(tái)研學體驗，能適應(yīng)在不同用戶材料厚度加大的場(chǎng)合。儀器框架可以根據(jù)式樣的大小適量調(diào)節(jié)最為突出，擴(kuò)大了儀器的使用范圍落實落細。軟件搭配修正功能，測(cè)試多次后的結(jié)果可以同時(shí)保存在同一報(bào)告下高效化，能讓用戶更好的對(duì)材料數(shù)據(jù)進(jìn)行管控製高點項目。該儀器設(shè)計(jì)美觀大方、操作簡(jiǎn)單範圍和領域、符合用戶所需有所增加。適用于各種行業(yè)測(cè)定接觸角的用戶
硬件概述
主機(jī)外形尺寸：360mm（寬）*550mm（長(zhǎng)）*450mm（高）
主機(jī)凈重：11KG
工作臺(tái)面尺寸：120mm*150mm
工作臺(tái)移動(dòng)：上下50mm; 左右50mm; 前后30mm
樣品臺(tái)尺寸：10寸
進(jìn)樣器移動(dòng)：上下100mm; 左右100mm
工業(yè)鏡頭移動(dòng)：前后180mm（微調(diào)3mm）
工業(yè)鏡頭：0.7X *-4.5X高清連續(xù)變倍顯微鏡
CCD：工業(yè)級(jí)芯片；25幀/秒
鏡頭角度：平視
光源：可調(diào)單波長(zhǎng)工業(yè)級(jí)LED光源更高要求；使用壽命壹萬(wàn)五千小時(shí)以上
電源及功率：220V / 60HZ
符合國(guó)家的相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)
GB/T 24368-2009(玻璃表面疏水污染物檢測(cè))
SY/T5153-2007（油藏巖石潤(rùn)濕性測(cè)定方法）
ASTM D 724-99（2003）（紙的表面可濕性的試驗(yàn)方法）
ASTM D5946-2004（塑料薄膜與水接觸角度的測(cè)量）
ISO15989（塑料薄膜和薄板電暈處理薄膜的水接觸角度的測(cè)量）
