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離子濺射儀

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SD-900型離子濺射儀是采用二級(jí)(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的離子濺射鍍膜設(shè)備

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SD-900型離子濺射儀是采用二級(jí)(DC)直流濺射原理設(shè)計(jì)而成的離子濺射鍍膜設(shè)備重要性。二極(DC)直流濺射是一種又進了一步、可靠、經(jīng)濟(jì)的鍍膜技術(shù)多元化服務體系,是許多廠商提供的離子濺射儀的基礎(chǔ)規劃。

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V技術(shù)規(guī)格說明

樣品倉(cāng)尺寸

  φ150mm  h120mm

樣品臺(tái)

  可放置1 2 個(gè)標(biāo)準(zhǔn)SEM樣品座,高度可在
  30mm內(nèi)調(diào)節(jié)

上部電極     

  靶直徑5 0 mm深度,厚度0 .1mm

濺射控制

  電流5 0mA

濺射面積

  φ5 0mm

真空度

  ≤4×10-2mbar

靶材

  金靶帶動擴大、銀靶、 鉑靶

濺射速率

  優(yōu)于5nm/min (金靶)

工作電壓

  220V, 50HZ

輸出電壓

  -1600V



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