ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是ELTRA公司在新世紀(jì)推出的當(dāng)今水平的高技術(shù)
氧氮?dú)浞治鰞x。氮和氫通過(guò)雙重范圍的熱導(dǎo)檢測(cè)池測(cè)量創新延展。分析過(guò)程中可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)從
低范圍到高范圍的切換強化意識。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上
高溫，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻基本情況。該儀器具有靈敏度高現場、性能好、測(cè)量范圍寬和分
析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)力量。ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是為快速我有所應、準(zhǔn)確測(cè)定銅、鋼深入實施、鑄
鐵至關重要、合金、鈦效果、鎳有所應、鎳、鉬合作關系、鋯著力提升、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧、氮傳遞、氫的含量而專門(mén)設(shè)計(jì)
制造的融合。

技術(shù)參數(shù)
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x技術(shù)指標(biāo)： 
測(cè)量范圍： ON 低氧0.0－300ppm OH 低氧0.0－300ppm 
高氧0.0－2% 高氧0.0－2% 
低氮0.0―300ppm 低氫0.0－50ppm 
高氮0.0－2% 高氫0.0－1000ppm 
靈敏度： 氧0.01ppm；氮0.1ppm；氫0.01ppm 
精密度： ON 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差） OH 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差） 
高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差） 高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差） 
低氮0.1ppm或1%（相對(duì)偏差） 低氫0.05ppm或1%（相對(duì)偏差） 
高氮 0.2ppm或1%（相對(duì)偏差） 高氫0.5ppm或1%（相對(duì)偏差） 
分析方法：氧：紅外吸收法規劃；氮提高、氫：熱導(dǎo)法 
樣品稱量：一般約1g 
分析時(shí)間：約2分鐘 
化學(xué)試劑：高氯酸鎂；堿石棉進入當下；舒茨試劑紮實；氧化銅 
爐子溫度：3000℃，8kw 
氣 體：氮?dú)猓?9.9995%新體系；氦氣：99.995%投入力度，2－4 bar （0.2－0.4Mpa） 
壓縮空氣：4－6 bar （0.4－0.6Mpa） 
儀器接口：天平串口，計(jì)算機(jī)串口不難發現；打印機(jī)并口 
電 源：380VAC±10% 50/60Hz（3相） 
質(zhì) 量：140kg 
尺 寸：55×80×60cm（W×H×D） 
電子天平：0.1mg 
計(jì)算機(jī)貢獻法治、監(jiān)視器和打印機(jī)可根據(jù)分析器和用戶需要配置


主要特點(diǎn)
儀器特點(diǎn)： 
1．用同一臺(tái)儀器分析固體無(wú)機(jī)物中的氧、氮發展需要、氫高質量。 
2．采用熱抽取分析技術(shù)，通過(guò)在低于熔點(diǎn)的溫度下加熱樣品重要組成部分，測(cè)定樣品中的殘留氫流程。 
3．脈沖加熱可達(dá)3000℃以上高溫，適用于金屬和陶瓷樣品分析勃勃生機。 
4．借助于新設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置助力各業，粒狀和屑狀樣品可直接加入到脈沖爐中，無(wú)須用錫箔或鎳箔包裹提供有力支撐。 
5．設(shè)有多種分析模式應用，可分別測(cè)定樣品中總氧量和總氮量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量。


儀器介紹
ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是ELTRA公司在新世紀(jì)推出的當(dāng)今世界水平的高技術(shù) 
氧氮?dú)浞治鰞x品率。該儀器配置有16位微處理器和兩個(gè)獨(dú)立的分別檢測(cè)高氧和低氧的 
紅外檢測(cè)池相貫通。氮和氫通過(guò)雙重范圍的熱導(dǎo)檢測(cè)池測(cè)量。分析過(guò)程中可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)從 
低范圍到高范圍的切換積極影響。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上 
高溫集聚效應，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻。該儀器具有靈敏度高重要手段、性能好互動講、測(cè)量范圍寬和分 
析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)。ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是為快速像一棵樹、準(zhǔn)確測(cè)定銅過程中、鋼、鑄 
鐵能運用、合金達到、鈦智能設備、鎳、鉬蓬勃發展、鋯特點、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧、氮重要性、氫的含量而專門(mén)設(shè)計(jì) 
制造的又進了一步。