ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000是ELTRA公司在新世紀推出的當今水平的高技術氧氮氫分析儀。該儀器配置有16位微處理器和兩個獨立的分別檢測高氧和低氧的紅外檢測池不負眾望。氮和氫通過雙重范圍的熱導檢測池測量使用。分析過程中可自動實現(xiàn)從低范圍到高范圍的切換。

ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000

ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000是ELTRA公司在新世紀推出的當今世界水平的高技術氧氮氫分析儀。該儀器配置有16位微處理器和兩個獨立的分別檢測高氧和低氧的紅外檢測池有效性。氮和氫通過雙重范圍的熱導檢測池測量創新內容。分析過程中可自動實現(xiàn)從低范圍到高范圍的切換。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達3000℃以上高溫廣泛關註，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻善於監督。該儀器具有靈敏度高、性能好就能壓製、測量范圍寬和分析結果準確可靠等優(yōu)點更合理。ONH-2000氧氮氫分析儀是為快速、準確測定銅更優美、鋼各方面、鑄鐵、合金成效與經驗、鈦適應性、鎳、鉬稍有不慎、鋯方法、陶瓷和其它無機材料中氧、氮提供有力支撐、氫的含量而專門設計制造的切實把製度。

ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000的主要技術參數(shù)：

測量范圍： ON 低氧0.0－300ppm OH 低氧0.0－300ppm 
              高氧0.0－2%        高氧0.0－2% 
              低氮0.0―300ppm    低氫0.0－50ppm 
              高氮0.0－2%        高氫0.0－1000ppm 
靈 敏 度： 氧0.01ppm；氮0.1ppm自行開發；氫0.01ppm 
精 密 度： ON 低氧0.1ppm或1%（相對偏差） OH 低氧0.1ppm或1%（相對偏差） 
              高氧2ppm或1%（相對偏差）      高氧2ppm或1%（相對偏差） 
              低氮0.1ppm或1%（相對偏差）    低氫0.05ppm或1%（相對偏差） 
              高氮 0.2ppm或1%（相對偏差）   高氫0.5ppm或1%（相對偏差） 
分析方法： 氧：紅外吸收法進行部署；氮、氫：熱導法 
樣品稱量： 一般約1g 
分析時間： 約2分鐘

ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000的其他參數(shù)：

化學試劑：高氯酸鎂應用情況；堿石棉利用好；舒茨試劑；氧化銅 
爐子溫度：3000℃解決問題，8kw 
氣    體：氮氣：99.9995%系列；氦氣：99.995%，2－4 bar （0.2－0.4Mpa） 
壓縮空氣：4－6 bar （0.4－0.6Mpa） 
儀器接口：天平串口相互配合，計算機串口慢體驗；打印機并口 
電    源：380VAC±10% 50/60Hz（3相） 
質(zhì)    量：大約140kg 
尺    寸：55×80×60cm（W×H×D） 
電子天平：0.1mg 
計算機、監(jiān)視器和打印機可根據(jù)分析器和用戶需要配置  

ELTRA氧氮氫分析儀ONH-2000的特點：

1．用同一臺儀器分析固體無機物中的氧智能化、氮科技實力、氫。 
2．采用熱抽取分析技術建設，通過在低于熔點的溫度下加熱樣品在此基礎上，測定樣品中的殘留氫。 
3．脈沖加熱可達3000℃以上高溫，適用于金屬和陶瓷樣品分析自主研發。 
4．借助于新設計的進樣裝置確定性，粒狀和屑狀樣品可直接加入到脈沖爐中，無須用錫箔或鎳箔包裹損耗。 
5．設有多種分析模式講故事，可分別測定樣品中總氧量和總氮量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量。