ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是快速技術先進、準(zhǔn)確測(cè)定銅、鋼延伸、鑄鐵認為、合金、鈦新趨勢、鎳反應能力、鉬、鋯學習、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧結構重塑、氮、氫含量的分析儀器應用優勢。

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器介紹

ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是ELTRA公司在新世紀(jì)推出的當(dāng)今世界水平的高技術(shù)氧氮?dú)浞治鰞x高質量發展。該儀器配置有16位微處理器和兩個(gè)獨(dú)立的分別檢測(cè)高氧和低氧的紅外檢測(cè)池。氮和氫通過(guò)雙重范圍的熱導(dǎo)檢測(cè)池測(cè)量高效節能。分析過(guò)程中可自動(dòng)實(shí)現(xiàn)從低范圍到高范圍的切換影響力範圍。樣品在高功率脈沖爐的石墨坩堝中加熱可達(dá)3000℃以上高溫，脈沖爐采用循環(huán)水冷卻核心技術。該儀器具有靈敏度高應用提升、性能好、測(cè)量范圍寬和分析結(jié)果準(zhǔn)確可靠等優(yōu)點(diǎn)創造性。ONH-2000氧氮?dú)浞治鰞x是為快速發展的關鍵、準(zhǔn)確測(cè)定銅基礎、鋼、鑄鐵多種方式、合金對外開放、鈦、鎳深入交流研討、鉬資料、鋯、陶瓷和其它無(wú)機(jī)材料中氧關註度、氮橫向協同、氫的含量而專門設(shè)計(jì)制造的。

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器參數(shù)

氧氮?dú)浞治鰞x測(cè)量范圍： ON 低氧0.0－300ppm OH 低氧0.0－300ppm
              高氧0.0－2%        高氧0.0－2%
              低氮0.0―300ppm    低氫0.0－50ppm
              高氮0.0－2%        高氫0.0－1000ppm
氧氮?dú)浞治鰞x靈 敏 度： 氧0.01ppm敢於挑戰；氮0.1ppm不斷創新；氫0.01ppm
氧氮?dú)浞治鰞x精 密 度： ON 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差） OH 低氧0.1ppm或1%（相對(duì)偏差）
              高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差）      高氧2ppm或1%（相對(duì)偏差）
              低氮0.1ppm或1%（相對(duì)偏差）    低氫0.05ppm或1%（相對(duì)偏差）
              高氮 0.2ppm或1%（相對(duì)偏差）   高氫0.5ppm或1%（相對(duì)偏差）
分析方法： 氧：紅外吸收法；氮提供了遵循、氫：熱導(dǎo)法
樣品稱量： 一般約1g
分析時(shí)間： 約2分鐘

>> 氧氮?dú)浞治鰞x其他參數(shù)

化學(xué)試劑：高氯酸鎂參與水平；堿石棉；舒茨試劑服務效率；氧化銅
爐子溫度：3000℃明確相關要求，8kw
氣    體：氮?dú)猓?9.9995%；氦氣：99.995%統籌發展，2－4 bar （0.2－0.4Mpa）
壓縮空氣：4－6 bar （0.4－0.6Mpa）
儀器接口：天平串口深化涉外，計(jì)算機(jī)串口；打印機(jī)并口
電    源：380VAC±10% 50/60Hz（3相）
質(zhì)    量：140kg
尺    寸：55×80×60cm（W×H×D）
電子天平：0.1mg
計(jì)算機(jī)創新科技、監(jiān)視器和打印機(jī)可根據(jù)分析器和用戶需要配置

>> 氧氮?dú)浞治鰞x儀器特點(diǎn)

1．用同一臺(tái)儀器分析固體無(wú)機(jī)物中的氧服務延伸、氮、氫具有重要意義。
2．采用熱抽取分析技術(shù)進一步，通過(guò)在低于熔點(diǎn)的溫度下加熱樣品，測(cè)定樣品中的殘留氫強大的功能。
3．脈沖加熱可達(dá)3000℃以上高溫實際需求，適用于金屬和陶瓷樣品分析。
4．借助于新設(shè)計(jì)的進(jìn)樣裝置優勢，粒狀和屑狀樣品可直接加入到脈沖爐中善謀新篇，無(wú)須用錫箔或鎳箔包裹。
5．設(shè)有多種分析模式便利性，可分別測(cè)定樣品中總氧量和總氮量以及其中各種氧化物分氧量和各種氮化物分氮量還不大。