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公司名稱(chēng) 上海蔡康光學(xué)儀器有限公司
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型號(hào)
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廠(chǎng)商性質(zhì) 經(jīng)銷(xiāo)商
更新時(shí)間 2024/5/29 17:30:05
訪(fǎng)問(wèn)次數(shù) 79

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2020年01月08日至 2020年02月08日

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模內(nèi)澆口分離自動(dòng)化設施，降低對(duì)人的依賴(lài)度需求；傳統(tǒng)的塑膠模具開(kāi)模后產(chǎn)品與澆口相連，需二道工序進(jìn)行人工剪切分離組合運用，模內(nèi)熱切模具將澆口分離提前至開(kāi)模前更讓我明白了，消除后續(xù)工序，有利于生產(chǎn)自動(dòng)化積極，降低對(duì)人的依賴(lài)探索。

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

我也要發(fā)布產(chǎn)品信息

晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀產業，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀滿意度，太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析?蔡康晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀可持續，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測(cè)方法和應(yīng)用范圍：

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蔡康晶圓硅片缺陷觀(guān)測(cè)儀（DJM-200C）主要抓手，于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀(guān)察，效果非常明顯構建，包括肉眼無(wú)法觀(guān)測(cè)的位錯(cuò)創新科技、層錯(cuò)、劃痕共創輝煌、崩邊等具有重要意義。

光伏硅片質(zhì)量檢測(cè)中，有很多項(xiàng)目大部分，比如：破片強大的功能、缺角實際需求、孔洞和翹曲等等。為什么會(huì)有這些檢測(cè)項(xiàng)目的特性？有些項(xiàng)目很容易理解開展試點，比如：破片、缺角等不僅會(huì)影響賣(mài)相共同，還會(huì)造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問(wèn)題推進一步，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞簡單化，尤其是很小很小的孔洞力度，似乎沒(méi)什么大不了。其實(shí)不然系統性，新的研究表明勇探新路，小小的孔會(huì)造成大大的問(wèn)題。就好像千里之堤傳遞，毀于蟻穴試驗。

晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀開展攻關合作，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀製度保障，太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析

一：蔡康晶圓檢測(cè)儀，多晶硅缺陷分析儀的有效手段，太陽(yáng)能硅板檢測(cè)儀DJM-200C概述和硅片缺陷檢測(cè)方法和應(yīng)用范圍：

（一）光伏硅片質(zhì)量檢測(cè)中統籌推進，有很多項(xiàng)目，比如：破片關鍵技術、缺角了解情況、孔洞和翹曲等等。為什么會(huì)有這些檢測(cè)項(xiàng)目技術研究？有些項(xiàng)目很容易理解重要的，比如：破片、缺角等不僅會(huì)影響賣(mài)相姿勢，還會(huì)造成后續(xù)電池片生產(chǎn)的問(wèn)題相互融合，甚至影響轉(zhuǎn)換效率。但孔洞適應性強，尤其是很小很小的孔洞技術交流，似乎沒(méi)什么大不了先進的解決方案。其實(shí)不然拓展，的研究表明，小小的孔會(huì)造成大大的問(wèn)題信息。就好像千里之堤相關，毀于蟻穴。
　　1.孔洞：大量存在，3～10um生產效率，人眼不易發(fā)現(xiàn)產能提升。必須用背光源。
　　孔洞的危害：經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)***節點，硅晶片上孔洞會(huì)造成加工成電池片的短路通過活化，降低電池片的轉(zhuǎn)換效率；如果因?yàn)楣杵系目锥葱纬傻亩搪穳K剛好落在柵線(xiàn)上的特點，就會(huì)造成大面積的短路健康發展，加大電池片的漏電流，影響轉(zhuǎn)換效率大數據。所以必須檢測(cè)孔洞長效機製，一般人眼能分辨0.3mm以上的孔洞，0.003～0.01mm的孔洞只能借助與光學(xué)的檢測(cè)手段來(lái)實(shí)現(xiàn)數字技術。檢測(cè)時(shí)需采用高亮度的白色背光源奮戰不懈，穿透力強(qiáng)的光經(jīng)過(guò)孔洞后，部分頻率的分量會(huì)使相機(jī)感光措施，形成藍(lán)綠色的成像大大縮短。相機(jī)的像素分辨率需要做得很高，比如一個(gè)像素等于0.005mm緊密相關，這樣有機(jī)會(huì)捕捉到3um～10um孔透過(guò)的光越來越重要的位置，并由軟件識(shí)別。
　　2.硅片翹曲或彎曲：不能忽視共同學習。硅片翹曲不僅使得做成電池片后尺寸不合乎要求順滑地配合，而且還會(huì)造成斷柵。
　　研究表明：因?yàn)楣杵N曲效高，做成電池片后前沿技術，通過(guò)EL檢測(cè)，發(fā)現(xiàn)里面有絲狀裂紋或花斑性能，但做成模組后多種方式，花斑情況有改善。分析表明技術創新，因?yàn)殡姵仄N曲（根源上是硅片翹曲）深入交流研討，在絲印時(shí)會(huì)造成印刷不均勻，形成斷柵帶來全新智能。
　　硅片的翹曲需要采用3D的檢測(cè)方法實現了超越，具體表征硅片翹曲的指標(biāo)有TTV、MTV等等去完善。檢測(cè)的方法可以采用將結(jié)構(gòu)光（線(xiàn)激光）投射到硅片上橋梁作用，用相機(jī)進(jìn)行拍照長遠所需；通過(guò)軟件分析光線(xiàn)成像的幾何特征，可以計(jì)算出TTV讓人糾結、MTV等指標(biāo)規模，跟標(biāo)準(zhǔn)值進(jìn)行比對(duì)，可以得出硅片翹曲是否在可以接受的范圍基石之一。
　　以上兩點(diǎn)聯動，是的研究發(fā)現(xiàn)。如果檢測(cè)不到位共同努力，“后果很?chē)?yán)重”生產體系。電池片廠(chǎng)家在來(lái)料檢測(cè)上，不可不注意很重要。
　　產(chǎn)品介紹：
　　蔡康晶圓硅片缺陷觀(guān)測(cè)儀（DJM-200C）能力和水平，于對(duì)硅片的缺陷進(jìn)行觀(guān)察，效果非常明顯異常狀況，包括肉眼無(wú)法觀(guān)測(cè)的位錯(cuò)研究、層錯(cuò)、劃痕應用創新、崩邊等提高。
　　實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì)的特性，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵交流。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備提供堅實支撐，能更好的觀(guān)測(cè)和保存研究結(jié)果還不大；
　　硅片缺陷觀(guān)測(cè)儀-產(chǎn)品特點(diǎn)
　　■適用于對(duì)硅片的缺陷觀(guān)察效果，非常明顯信息化技術，包括肉眼無(wú)法觀(guān)測(cè)的位錯(cuò)發揮作用、層錯(cuò)、劃痕逐步顯現、崩邊等發揮；
　　■使硅片缺陷觀(guān)察工作簡(jiǎn)單化必然趨勢，準(zhǔn)確化去完善，同時(shí)極大程度降低此項(xiàng)工作強(qiáng)度；
　　■實(shí)時(shí)對(duì)圖像進(jìn)行分析分析、測(cè)量和統(tǒng)計(jì)高質量，提高傳統(tǒng)光學(xué)儀器的使用內(nèi)涵提供了有力支撐。配合投影儀和計(jì)算機(jī)等顯示、存儲(chǔ)設(shè)備逐步改善，能更好的觀(guān)測(cè)和保存研究結(jié)果意見征詢；
　　■使用　數(shù)字CCD攝像機(jī)　感光芯片，具有體積小大大提高，技術(shù)的必然要求，像素較高，成像清晰取得了一定進展、線(xiàn)條細(xì)膩完善好、色彩豐富；
　　■傳輸接口為　USB2.0高速接口積極參與，軟件模塊化設(shè)計(jì)問題分析；
　　■有效分辨率為　1000萬(wàn)像素；
　　■所配軟件能兼容　windows　7和　windows　XP　操作系統(tǒng)交流研討。

蔡康晶圓缺陷分析儀DJM-200C,太陽(yáng)能單晶硅片缺陷分析

（三）蔡康太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析儀技術(shù)介紹和儀器組成

   一更加完善、大平臺(tái)太陽(yáng)能硅片缺陷分析金相顯微鏡儀器的主要用途和特點(diǎn)
       DJM-200C系列反射明暗場(chǎng)大平臺(tái)太陽(yáng)能硅片缺陷分析金相顯微鏡可進(jìn)行明視場(chǎng)、暗視場(chǎng)建設應用、簡(jiǎn)易偏光觀(guān)察支撐作用。是半導(dǎo)體檢驗(yàn)、電路封狀動力、電路基板同時、材料等行業(yè)理想儀器。 DMM-990大平臺(tái)晶圓缺陷分析金相顯微鏡具有圖像清晰效高性、襯度好模式，造型美觀(guān)，操作方便等特點(diǎn)提升，是材料學(xué)高品質、金屬學(xué)、礦物學(xué)意料之外、精密工程學(xué)重要方式、電子學(xué)等研究的理想儀器。適用于學(xué)校系統、科研非常重要、工廠(chǎng)等部門(mén)使用。 DMM-990高級(jí)正置金相顯微鏡空間廣闊，選用優(yōu)質(zhì)的光學(xué)元件營造一處，配有超大視場(chǎng)目鏡、落射照明器知識和技能、平場(chǎng)長(zhǎng)工作距離明暗場(chǎng)物鏡取得顯著成效，是針對(duì)半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)、太陽(yáng)能硅片制造業(yè)實現、電子信息產(chǎn)業(yè)不容忽視、治金工業(yè)開(kāi)發(fā)的組織了，作為高級(jí)工業(yè)金相顯微鏡使用≌f服力？蛇M(jìn)行明暗場(chǎng)觀(guān)察搶抓機遇、落射偏光、廣泛用于工廠(chǎng)表示、研究機(jī)構(gòu)全面闡釋、高等院校對(duì)太陽(yáng)能電池硅片、半導(dǎo)體晶圓檢測(cè)競爭力所在、電路基板引人註目、FPD、精密模具的檢測(cè)分析溝通機製。
性能特點(diǎn)
▲      配置大視野目鏡和長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡(無(wú)蓋玻片)好宣講，視場(chǎng)大而清晰。
▲      粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)領先水平，粗動(dòng)松緊可調(diào)新產品，帶限位鎖緊裝置，微動(dòng)格值:0.8μm橋梁作用。
▲      配置大移動(dòng)范圍栽物臺(tái)長遠所需，移動(dòng)范圍：8英寸*8英寸（204mm*204mm)。
▲      三目鏡筒,可自由切換正常觀(guān)察與偏光觀(guān)察讓人糾結，明視場(chǎng)/規模，可進(jìn)行99%透光攝影。
▲      6V30W鹵素?zé)糁陵P重要，亮度可調(diào)。
   DMM-990C電腦型三目正置大平臺(tái)單晶硅缺陷分析儀金相顯微鏡是將精銳的光學(xué)顯微鏡技術(shù)的發生、的光電轉(zhuǎn)換技術(shù)組成部分、的計(jì)算機(jī)成像技術(shù)地結(jié)合在一起而開(kāi)發(fā)研制成功的一項(xiàng)高科技產(chǎn)品。既可人工觀(guān)察金相圖像,又可以在數(shù)碼相機(jī)顯示器上很方便地適時(shí)觀(guān)察金相圖像新的動力，并可隨時(shí)捕捉記錄金相圖片,從而對(duì)金相圖譜進(jìn)行分析,評(píng)級(jí)等,還可以保存或打印出高像素金相照片的過程中。

太陽(yáng)能光伏單晶硅片缺陷分析儀DJM-200C

（二）蔡康硅片缺陷分析儀DJM-200C性能特點(diǎn)和系統(tǒng)組成：

1. 蔡康單晶硅缺陷分析儀DJM-200C利用工業(yè)級(jí)彩色高速攝象器進(jìn)行圖像或者視頻采集，高倍蔡康光學(xué)單晶硅片顯微鏡放大成像迎來新的篇章，圖像快速顯示于計(jì)算機(jī)，直接實(shí)時(shí)觀(guān)察熔深焊接形貌薄弱點，利用專(zhuān)用軟件進(jìn)行熔深測(cè)量處理覆蓋範圍，形態(tài)統(tǒng)計(jì)分析，并打印出熔深分析報(bào)告奮勇向前。

型號(hào)	技術(shù)參數(shù)
目鏡	WF10X(Φ18mm)
物鏡	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)）(無(wú)蓋玻片)PL 5X/0.12 WD:18.3mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無(wú)蓋玻片)PL L10X/0.25 WD:8.9mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無(wú)蓋玻片)PL L20X/0.40 WD:8.7mm
	長(zhǎng)距平場(chǎng)消色差物鏡（明視場(chǎng)/暗視場(chǎng)）(無(wú)蓋玻片)PL L40X/0.60 WD:0.26mm
目鏡筒	三目鏡,傾斜30?
落射照明系統(tǒng)	6V 30W鹵素?zé)?/span>,亮度可調(diào)
落射照明系統(tǒng)	落射照明器帶視場(chǎng)光欄約定管轄、孔徑光欄數據、起偏振片,(黃,藍(lán),綠)濾色片和磨砂玻璃
調(diào)焦機(jī)構(gòu)	載物臺(tái)升降創新的技術，粗微動(dòng)同軸調(diào)焦機(jī)構(gòu)發揮，粗動(dòng)松緊可調(diào)，帶限位鎖緊裝置快速增長，微動(dòng)格值:0.8μm
轉(zhuǎn)換器	四孔(外向式滾珠內(nèi)定位)
載物臺(tái)	三層機(jī)械移動(dòng)式(尺寸:280mmX270mm,移動(dòng)范圍:204mmX204mm)