概述：
    每一顆金剛石都經(jīng)精挑細(xì)選迎難而上，嚴(yán)格的分級粒度，的制備工藝使之適用于不同的磨拋載體探索，滿足不同樣品的制備需求堅持先行。不僅適用于金相和巖相研磨、拋光滿意度，還適用于各種黑色和有色金屬情況較常見、陶瓷、復(fù)合材料以及寶石機製性梗阻、儀表機製、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品的高光潔度表面的研磨及拋光全過程。我公司生產(chǎn)的金剛石懸浮研磨拋光液集成應用，具備高效的磨削率和去除率，與普通拋光液比較不負眾望，在磨拋質(zhì)量等同情況下高效流通，用量節(jié)省30%，時(shí)間節(jié)省60%
- 快速去除率
- 經(jīng)久耐磨性
- 優(yōu)良潤滑性
 
 

名稱	說 明	粒度	包裝（瓶）
金剛石懸浮研磨拋光液	水基精準調控，標(biāo)準(zhǔn)濃度功能、單晶金剛石（HFMW） 金相和巖相研磨應用的因素之一、拋光。 各種黑色和有色金屬研磨拋光預期。 陶瓷敢於監督、復(fù)合材料以及寶石、儀表共同、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光推進一步。	40μm 、28μm 簡單化、20μm 14μm 力度、9μm、 7μm系統性、5μm勇探新路、 3.5μm、2.5μm傳遞、1.5μm 試驗、1.0μm、0.5μm開展攻關合作、0.25μm	500ml
金剛石懸浮研磨拋光液	水基切實把製度，標(biāo)準(zhǔn)濃度、單晶金剛石（HFMW） 金相和巖相研磨自行開發、拋光進行部署。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 陶瓷應用情況、復(fù)合材料以及寶石保護好、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光表現。	0.05μm	500ml
金剛石懸浮研磨拋光液	水基特點，高濃度、單晶金剛石（HFSW） 保持高磨削力的同時(shí)不易產(chǎn)生劃傷結論，降低制樣時(shí)間和諧共生，用于硬質(zhì)合金、晶體適應性強、陶瓷等各種硬質(zhì)材料的快速研磨與拋光技術交流。	14μm 、9μm拓展、 7μm創造更多、5μm、 3μm不斷進步、1.0μm工藝技術、0.5μm豐富內涵、0.25μm	500ml
金剛石懸浮研磨拋光液	油基，無水產能提升，高濃度適應性、單晶金剛石（HFSO） 用于黑色金屬、有色金屬通過活化、水敏感材料面向，軟質(zhì)材料樣品的研磨與拋光。	14μm 研學體驗、9μm建設項目、 7μm、5μm落實落細、 3μm相結合、1.0μm、0.5μm製高點項目、0.25μm	500ml
金剛石懸浮研磨拋光液	水基為產業發展，標(biāo)準(zhǔn)濃度、多晶金剛石（BEMW） 金相和巖相研磨有所增加、拋光各項要求。 各種黑色和有色金屬研磨拋光。 陶瓷越來越重要的位置、復(fù)合材料以及寶石新技術、儀表、光學(xué)玻璃等產(chǎn)品高光潔度表面的研磨及拋光順滑地配合。	14μm 深入、9μm、 7μm前沿技術、5μm基礎、 3μm1.0μm、0.5μm多種方式、0.25μm	500ml
金剛石懸浮研磨拋光液	水基對外開放，高濃度、多晶金剛石（BESW） 具有高磨削力深入交流研討、降低制樣時(shí)間資料， 金相和巖相研磨、拋光需求。 各種黑色和有色金屬研磨拋光配套設備。 用于各種超硬合金、光學(xué)晶體相對開放、陶瓷等各種硬質(zhì)材料的快速研磨與拋光推進高水平。	14μm 、9μm拓展應用、 7μm生產創效、5μm、 3μm1.0μm管理、0.5μm優化上下、0.25μm	500ml